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Si substratesとは 意味・読み方・使い方
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「Si substrates」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 47件
The optical mutiplexer/demultiplexer has Si substrates 11 and 12 facing each other, and the Si substrates 11 and 12 have tilted faces 301 and 302 and a cavity part in their insides.例文帳に追加
対向するSi基板11,12を有し、前記Si基板11,12の内部には、傾斜面301,302および空隙部を有している。 - 特許庁
Alternatively, the plurality of semiconductor substrates 10 are p-type Si substrates and n-type Si substrates alternately arranged in one direction and series-connected, and are driven as a Peltier element or a Seebeck element.例文帳に追加
また、半導体基板10が一方向に交互に配置され直列接続されたp型Si基板及びn型Si基板であり、ペルチェ素子又はゼーベック素子として駆動される。 - 特許庁
Further, a circuit which substrates an output current by the PD 2 from an output current by the PD 1 is provided on the Si substrate 31.例文帳に追加
またPD1による出力電流からPD2による出力電流を減算処理する回路がSi基板31上に設けられている。 - 特許庁
The speed-of-rotation sensor is constituted in such a way that a metal plate 23 having a magnetism collecting function is arranged between a magnet 24 and a pair of Si substrates 21 and that the metal plate 23 closes the whole part between the pair of Si substrates 21.例文帳に追加
磁石24と一対のSi基板21との間に集磁機能を有する金属板23を配置し、かつこの金属板23は前記一対のSi基板21間の全部をも塞ぐように構成したものである。 - 特許庁
Accordingly, when the holder 18 is rotated, the Si substrate 20 to be film-formed by the vapor deposition source 30 is replaced by the Si substrate 20B, and thus the six Si substrates 20A to 20F held on the holder 18 can be sequentially film-formed.例文帳に追加
そのため、このホルダ18を回転させると、蒸着源30によって成膜されるSi基板20がSi基板20Bに換わって、ホルダ18に保持された6枚のSi基板20A〜20Fが順次成膜可能な状態となる。 - 特許庁
To provide a cleaning solution and a method for cleaning Si-including substrates that can efficiently remove impurities, particles and organic substances sticking on the surfaces of the substrates as the roughening of the surface of inexpensive Si-including substrates is suppressed.例文帳に追加
安価で、かつSiを含有する基板の表面の面荒れを抑制した状態で、上記基板表面に付着したパーティクルや有機物等の不純物を効率良く除去できるSiを含有する基板の洗浄溶液及び洗浄方法の提供。 - 特許庁
To prevent serrate defects from being generated in the peripheral parts of separated substrates when a laminated substrate formed by laminating together first and second substrates of a structure, wherein a single-crystal Si layer is formed on a porous layer and an insulating layer is formed on the Si layer, is separated into the separated substrates in the porous layers.例文帳に追加
多孔質層の上に単結晶Si層を形成し、その上に絶縁層を形成した第1の基板と第2の基板とを貼り合わせて形成された貼り合わせ基板を多孔質層で分離する際に、分離された基板の周辺部に鋸歯状の欠陥が生じることを防止する。 - 特許庁
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「Si substrates」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 47件
To provide a method for grinding/stripping parts laminated on substrate surfaces of Si substrates or glass substrates by a grinding means of grit blasting, then sorting and recovering various stripped materials and grit, and recycling the Si substrates, glass substrates, wiring metallic materials and grit.例文帳に追加
Si基板やガラス基板といった基板表面に積層されている部分をグリット投射による研掃手段によって研掃・剥離した後、剥離した各種材料およびグリットを分別・回収するとともに、Si基板やガラス基板、配線用金属材料等ならびにグリットを再使用可能とする方法を提供すること。 - 特許庁
Pulse light from the flash lamp 1 is divided into two with different illuminances by a half mirror 6a to irradiate two Si substrates 7a, 7b.例文帳に追加
フラッシュランプ1からのパルス光をハーフミラー6aにより照度の異なる2つに分割して2枚のSi基板7a,7bに照射する。 - 特許庁
Following to the boron dope process, the Si substrates are immersed into hydrofluoric aqueous solution and a boron doped layer formed on the side opposite to the boron doped surface is removed.例文帳に追加
ボロンドープ工程後は、Si基板をふっ酸水溶液に浸し、ボロンドープ面と反対面に形成されたボロンドープ層を除去する。 - 特許庁
To effectively apply protective coatings on complex shaped Si-based substrates which makes a physical deposition process difficult.例文帳に追加
物理的堆積方法での被覆が困難な複雑形状のSiベース基材に保護コーティングを効果的に被覆する。 - 特許庁
An oscillating mirror substrate is constituted by joining two Si substrates 206, 207 via an insulating film such as an oxide film.例文帳に追加
振動ミラー基板は、2枚のSi基板206、207を酸化膜等の絶縁膜を介して接合して構成される。 - 特許庁
To effectively apply protective coatings on complex shaped Si-based substrates which makes a physical deposition process impossible.例文帳に追加
物理的堆積方法での被覆が不可能である複雑な形状のSiベース基材に保護被覆を効果的に被覆させる。 - 特許庁
One or more single-crystal Si substrates 10 where at least a portion of a semiconductor structure is formed are mounted on a positioning substrate 30 having an edge 32a on a surface, and moved to the edge 32a and one or more single-crystal Si substrates are positioned in parallel to the surface of the positioning substrate 30 at the same time and then temporarily fixed.例文帳に追加
半導体構造の少なくとも一部が形成された1個以上の単結晶Si基板10を、表面にエッジ32aを有する位置決め用基板30上に載置し、1個以上同時に位置決め用基板30の表面に平行にエッジ32aまで移動させて位置決めした後、一時固定する。 - 特許庁
The single-crystal Si substrates 10 are joined together at the same time at the set position of a polycrystalline Si glass substrate 40 which corresponds to the edge 32a of the positioning substrate 30.例文帳に追加
単結晶Si基板10を、多結晶Siガラス基板40における、位置決め用基板30のエッジ32aに対応させた設定位置に一括で接合する。 - 特許庁
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