anionic polystyreneとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR PRODUCING POLYSTYRENE HAVING WIDE MOLECULAR WEIGHT DISTRIBUTION BY CONTINUOUS ANIONIC POLYMERIZATION例文帳に追加

広い分子量分布をもつ連続式陰イオン重合によるポリスチレン製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a polystyrene having a wide molecular weight distribution by continuous anionic polymerization.例文帳に追加

広い分子量分布をもつ連続式陰イオン重合によるポリスチレン製造方法を提供する。 - 特許庁

The method is characterized in that a polystyrene polymer solution obtained through an anionic polymerization is heated gradually under a specific degassing condition to dry so that it may be protected from the heat decomposition.例文帳に追加

アニオン重合によって得られたポリスチレン系ポリマー溶液を特定の脱揮条件下で、緩やかな加熱を加えることで熱分解を防いで脱揮乾燥させる。 - 特許庁

There is provided a quality improver in bath which is obtained by combining a specific ester compound, an anionic surfactant and an amide compound, or these with an alkylene oxide adduct of a specific mono- or polystyrene-modified phenol.例文帳に追加

特定のエステル化合物、アニオン界面活性剤及びアミド化合物をまたはそれらと特定のモノ又はポリスチレン化フェノールのアルキレンオキサイド付加物とを組み合わせて得られる浴中品質向上剤。 - 特許庁

To obtain a high purity polystyrene-based polymer having linear form or radial form having ≥3 branches in polymer chain and eluting no styrene dimer nor trimer by anionic polymerization without side reaction instead of conventional radical polymerization applied in food container manufacture.例文帳に追加

従来の食品容器製造に用いられたラジカル重合の代わりに、副反応のないアニオン重合法によりスチレンダイマー及びスチレントリマー溶出しないリニア形態またはポリマーチェーンの技数が３以上であるラジアル形態の高純度ポリスチレン系重合体を製造すること。 - 特許庁

This expandable polystyrene resin particle has a particle surface coated by a skin that comprises an anionic aqueous cellulose ether of 0.005-0.2 pts.wt. and a fatty acid metal salt of 0.1-1.0 pts.wt. based on the particle of 100 pts.wt.例文帳に追加

本発明の発泡性ポリスチレン系樹脂粒子は、発泡性ポリスチレン系樹脂粒子の表面が表皮層で被覆されており、この表皮層は、発泡性ポリスチレン系樹脂粒子１００重量部に対して、アニオン系水溶性セルロースエーテル０．００５〜０．２重量部及び脂肪酸金属塩０．１〜１．０重量部を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This aqueous dispersion for polishing the chemical machinery comprises inorganic abrasive grains such as silica or ceria and organic particles composed of polymethyl methacrylate, polystyrene, or the like, having anionic groups such as carboxyl group, hydroxyl group, sulfuric ester group or sulfonic acid group and has a polishing rate of a silicon oxide film of ≥5 times, especially ≥10 times that of a silicon nitride film.例文帳に追加

シリカ、セリア等の無機砥粒と、カルボキシル基、ヒドロキシル基、硫酸エステル基、スルホン酸基等のアニオン基を有するポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等からなる有機粒子とを含有し、酸化ケイ素膜の研磨速度が窒化ケイ素膜の研磨速度の５倍以上、特に１０倍以上である化学機械研磨用水系分散体を得る。 - 特許庁