aspect featureとは 意味・読み方・使い方

To provide sufficient mold release and to provide multiple and accurate patterned features from high aspect ratio features on silicone molds.例文帳に追加

十分な離型性を提供し、シリコーン型において高いアスペクト比の形状（feature）から、複数の正確なパターン形状を提供。 - 特許庁

The method of the invention in one aspect allows for optimum deposition at the bottom of a high aspect ratio frame during a high pressure step and increased deposition on the sidewalls of the feature during at least a low pressure step.例文帳に追加

一局面での本発明の方法は、高圧ステップ中の高アスペクト比フィーチャ下部での最適な堆積と、少なくとも低圧ステップ中のフィーチャ側壁での増加した堆積を可能にする。 - 特許庁

In the method, a tungsten-containing material is filled in a feature having a high aspect ratio on a semiconductor substrate partially manufactured.例文帳に追加

部分的に製造された半導体基板上の高アスペクト比のフィーチャーをタングステン含有材料で充填する方法が提供される。 - 特許庁

The method advantageously promotes the control of the profile and the size of the feature of a high aspect ratio through a side wall passivation management technique.例文帳に追加

開示された方法は、側壁パッシベーション管理技法を通して、高アスペクト比のフィーチャのプロファイルと寸法の制御を有利に促進する。 - 特許庁

The means for calibrating a component, aspect or feature of the analyte concentration determination device is based on the calibration mark.例文帳に追加

上記特定成分濃度決定装置の１つの構成要素、側面または態様を較正する手段は較正マークに基づいている。 - 特許庁

The shape feature includes Eulerian number of the character, an aspect ratio of the boundary box, pixel density of the boundary box and a Hausdorff distance between two characters.例文帳に追加

形状特徴は、文字のオイラー数と、境界ボックスのアスペクト比と、境界ボックスのピクセル密度と、二つの文字間のハウスドルフ距離とを含む。 - 特許庁

The subject invention also includes methods for calibrating a component, aspect or feature of a subject device based on the detected calibration mark.例文帳に追加

また、この発明は、検出された較正マークに基づいてこの発明の装置の１つの構成要素、側面または態様を較正する方法を含む。 - 特許庁

Deposition of high aspect ratio feature having no void or no joint line is attained by optimizing electric pulse amplitude and time width in a pulse plating waveform.例文帳に追加

高アスペクト比フィーチャのボイドの無い、又継ぎ目のない堆積は、電気パルス振幅、及びパルスめっき波形内の時間幅を最適化することによって達成される。 - 特許庁