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crystalline evaluationとは 意味・読み方・使い方
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「crystalline evaluation」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
FILM QUALITY MEASURING APPARATUS OF CRYSTALLINE SILICONE FILM, FILM QUALITY MEASURING METHOD OF CRYSTALLINE SILICONE FILM, AND FILM QUALITY EVALUATION METHOD OF CRYSTALLINE SILICONE FILM例文帳に追加
結晶質シリコン膜の膜質計測装置、結晶質シリコン膜の膜質計測方法、及び結晶質シリコン膜の膜質評価方法 - 特許庁
To provide a sample evaluation device and a sample evaluation method capable of evaluating a crystalline sample without tilting the crystalline sample.例文帳に追加
結晶性試料を傾斜させずに該結晶性試料を評価することが可能な試料評価装置及び試料評価方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a crystal evaluation method and a crystal evaluation device, capable of evaluating an internal structure of a crystalline thin film of perovskite type oxide.例文帳に追加
ペロブスカイト型酸化物の結晶性薄膜の内部構造を評価することのできる結晶評価方法および結晶評価装置を提供する。 - 特許庁
To provide a nondestructive inspection that can make simple and quantitative evaluation on a single-crystalline work-affected layer.例文帳に追加
単結晶の加工変質層の評価を簡便かつ定量的にできるような非破壊検査を提供する。 - 特許庁
To provide an evaluation method of a polycrystalline film capable of quickly and accurately evaluating the in-plane variation regarding the crystalline state of the polycrystalline film.例文帳に追加
多結晶膜の結晶状態に関する面内ばらつきを迅速かつ正確に評価することができる多結晶膜の評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device for analysis of crystalline lens image that can objectively and automatically perform evaluation of an Emery-Little classification for cataract diagnosis.例文帳に追加
白内障診断におけるエメリーリトル分類の評価を客観的かつ自動で行うことが可能な水晶体画像解析装置を提供する。 - 特許庁
The method comprises steps of evaluating (S4) image formation performances of an assembled projection optical system, and carrying out optical adjustment (S6) of at least one of the plurality of crystalline permeable members by having it turned about an optical axis based on the evaluation of the image formation evaluation step.例文帳に追加
組み立てられた投影光学系の結像性能を評価する結像性能評価工程（Ｓ４）と、結像性能評価工程の評価結果に基づいて、複数の結晶透過部材のうちの少なくとも１つの結晶透過部材を光軸廻りに回転させて光学調整を行う光学調整工程（Ｓ６）とを含む。 - 特許庁
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「crystalline evaluation」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
To provide an amorphous layer evaluation method having a deep tilt angle as a parameter, which accurately predicts the thickness of an amorphous layer formed on the surface layer of a crystalline substrate by performing ion-implantation with impurities at a high dose.例文帳に追加
深いtilt角度をパラメータに持ち、不純物のイオン注入を高ドーズで行うことによって結晶性基板の表層に形成される非晶質層の厚さを精確に予想する非晶質層評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for measuring stress capable of evaluating the stress applied to a material and its distribution, and density and refractive index varying, in response to the stress and their distributions at a sub-micron level, regardless of the crystalline structure of the evaluation sample.例文帳に追加
物質に加わる応力及びその分布、並びに応力に伴って変化する密度や屈折率及びそれらの分布を、評価試料の結晶構造によらずにサブミクロンレベルで評価しうる応力測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a defect evaluation method capable of precisely and rapidly preparing a flaky sample for electron microscope observation by a converged ion beam sample preparing device in relation to a semiconductor crystal including an internal defect used as an observation object and capable of evaluating the crystalline defect in detail by observing the flaky sample with an electron microscope.例文帳に追加
観察対象とする内部欠陥を含む半導体結晶に対し、収束イオンビーム試料作製装置による電子顕微鏡観察用薄片試料の作製を高精度かつ短時間で行うことができ、該薄片試料を電子顕微鏡で観察することによって詳細に結晶欠陥の評価を行うことができる欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method which enables simple and quick evaluation of the physical properties of semiconductor material consisting of metal oxide particles or metal sulfide particles, in particular, constitutional component consisting of amount of crystal defects, degree of crystallization and crystalline form type and/or amorphous type, using a nondestructive means and additionally, to provide a physical property evaluating device used for the implementation of these methods.例文帳に追加
金属酸化物粒子又は金属硫化物粒子からなる半導体材料の物性、特に結晶欠陥量、結晶化度及び結晶型及び／又は非結晶型からなる構成成分を簡便且つ迅速に、非破壊な手段で評価し得る方法を提供すること、また、該方法の実施に使用するこれら物性の評価装置を提供すること。 - 特許庁
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