deposition temperatureとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR MEASURING SUBSTRATE TEMPERATURE BY VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM AND VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

真空成膜装置での基板温度測定方法、及び真空成膜装置 - 特許庁

In the film deposition process, deposition is performed under such a condition that the temperature of the substrate during deposition is controlled to be in a range from the eutectic temperature of zinc oxide and the flux to a temperature higher by 150°C or less than the eutectic temperature.例文帳に追加

成膜工程では、堆積時の基板温度を酸化亜鉛とフラックスの共晶温度以上共晶温度＋１５０℃以下の範囲に制御した条件で堆積するものである。 - 特許庁

VARIABLE TEMPERATURE AND DOSE ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

温度および投与量が調節可能な原子層堆積 - 特許庁

TEMPERATURE HISTORY AND MOISTURE DEPOSITION HISTORY INDICATOR COMPOSITION例文帳に追加

温度履歴および水分付着履歴インジケータ組成物 - 特許庁

The silicon nitride film is deposited at a deposition temperature of 400°C or lower by atomic layer deposition, and the plasma nitriding is performed at a temperature equal to or lower than the deposition temperature in the atomic layer deposition.例文帳に追加

窒化珪素膜は、ＡＬＤ法により４００℃以下の成膜温度で成膜された窒化珪素膜であり、プラズマ窒化処理は、ＡＬＤ法における成膜温度を上限とする処理温度で行う。 - 特許庁

To prevent deposition of an evaporated vapor deposition material at a portion of aperture of a vapor deposition source where the temperature drops.例文帳に追加

蒸着源の開口の温度が低下する部分で、蒸発した蒸着材料が堆積することを防止する。 - 特許庁

The deposition temperature in the first process can be made lower than the deposition temperature in the second process, as the vapor phase deposition technology, for example, an atomic layer deposition method is used.例文帳に追加

第１の工程における成膜温度を、第２の工程における成膜温度より低い温度とすることができ、気相成膜技術としては、例えば原子層堆積法を用いる。 - 特許庁

TEMPERATURE MEASURING INSTRUMENT, DEPOSITION DEVICE AND DEPOSITED SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

温度測定器、成膜装置、及び成膜基板製造方法 - 特許庁