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deposition temperatureとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 析出温度; 蒸着温度; たい積温度
「deposition temperature」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 887件
METHOD FOR MEASURING SUBSTRATE TEMPERATURE BY VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM AND VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加
真空成膜装置での基板温度測定方法、及び真空成膜装置 - 特許庁
The substrate 1 is carried into a deposition chamber 2 when the substrate temperature just before the insertion into the deposition chamber attains a desired deposition temperature.例文帳に追加
成膜室挿入直前の基板温度が所望の成膜温度になった時に、基板１を成膜室２に搬入する。 - 特許庁
INDICATOR FOR TEMPERATURE HYSTERESIS AND MOISTURE DEPOSITION HYSTERESIS例文帳に追加
温度履歴および水分付着履歴インジケータ - 特許庁
TEMPERATURE MEASURING INSTRUMENT, DEPOSITION DEVICE AND DEPOSITED SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
温度測定器、成膜装置、及び成膜基板製造方法 - 特許庁
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「deposition temperature」の部分一致の例文検索結果
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VACUUM VAPOR-DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE例文帳に追加
真空蒸着装置及び温度調整方法 - 特許庁
TEMPERATURE HISTORY AND MOISTURE DEPOSITION HISTORY INDICATOR COMPOSITION例文帳に追加
温度履歴および水分付着履歴インジケータ組成物 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus and a film deposition method capable of efficiently raising/dropping the temperature of a substrate.例文帳に追加
基板の温度の昇降を効率化することが可能な成膜装置、成膜方法を提供する。 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION APPARATUS, METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
気相成長装置、気相成長装置の温度制御方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
The silicon nitride film is deposited at a deposition temperature of 400°C or lower by atomic layer deposition, and the plasma nitriding is performed at a temperature equal to or lower than the deposition temperature in the atomic layer deposition.例文帳に追加
窒化珪素膜は、ＡＬＤ法により４００℃以下の成膜温度で成膜された窒化珪素膜であり、プラズマ窒化処理は、ＡＬＤ法における成膜温度を上限とする処理温度で行う。 - 特許庁
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