design defectとは 意味・読み方・使い方

The exposure mask is provided with a design pattern 3 which forms an actual device and a monitor pattern which possesses a defect having the smallest defect size exceeding a permissible range and further a defect detectable by a defect inspection apparatus and having the defect size within the permissible range together with the design pattern.例文帳に追加

露光マスクに、実デバイス形成用の設計パタン３と共に、許容範囲を越える最小の欠陥サイズを有する欠陥、さらには欠陥検査装置による検出が可能でかつ許容範囲内の欠陥サイズを有する欠陥を備えたモニタパタンとを設ける。 - 特許庁

To enhance the efficiency of a matching processing between a defect image obtained by a defect review device or the like and a layout image based upon design data.例文帳に追加

欠陥レビュー装置などで取得された欠陥画像と設計データに基づくレイアウト画像とのマッチング処理の効率向上を図る。 - 特許庁

To attain freer and easier design for suppressing an alignment defect in rubbing treatment.例文帳に追加

ラビング処理における配向不良を抑制するためのより自由で容易な設計を可能とすること。 - 特許庁

To support the design of a business process for suppressing the mismatching of data caused by a plurality of business process competitions caused by a design defect.例文帳に追加

設計不備による複数のビジネスプロセス競合によるデータの不整合などを抑制するためにビジネスプロセスの設計を支援すること。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR INSPECTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEFECT ANALYZER, SEMICONDUCTOR DESIGN DATA CORRECTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR INSPECTION METHOD, SEMICONDUCTOR DEFECT ANALYZING METHOD, SEMICONDUCTOR DESIGN DATA CORRECTING METHOD, AND COMPUTE-READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

半導体検査装置、半導体欠陥解析装置、半導体設計データ修正装置、半導体検査方法、半導体欠陥解析方法、半導体設計データ修正方法およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To provide a building panel 41 having a design surface provided with unevenness (undulation), further having acute angle cavity surfaces in its design surface and eliminating a feeling of physical disorder by making a defect inconspicuous even if the defect of a printing pattern due to gravure- offset printing is generated.例文帳に追加

凹凸（起伏）のある意匠面を有する建築板４１であって、更に、意匠面に鋭角な窪み部分があるものにおいて、グラビアオフセット印刷による印刷柄抜けが生じても、それを目立たなくして、違和感をなくす。 - 特許庁

To provide a semiconductor defect inspection device which automatically detects a defect on a semiconductor wafer using circuit design data to estimate the cause of the defect generation, and a method thereof.例文帳に追加

回路設計データを用いた半導体ウェーハ上の欠陥を自動的に検出し、欠陥発生原因の推定を行う半導体欠陥検査装置ならびにその方法を提供する。 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁