dimethylzincとは 意味・読み方・使い方

This polishing speed improver consists of polyacrylamide derivative, preferably homopolymer of N, N-dimethylzinc acrylamide, or copolymer of N, N-dimethylzinc acrylamide with acrylic (acid) as active ingredient.例文帳に追加

ポリアクリルアミド誘導体、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドの単独重合物、又はＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドとアクリル酸（塩）との共重合物、を有効成分とする研磨速度向上剤。 - 特許庁

TMGa(trimethylgallium), ammonia gas (NH3), DMZn(dimethylzinc) and SiH4(silane) are used as a raw material gas.例文帳に追加

原料ガスとして、ＴＭＧａ（トリメチルＧａ）、アンモニアガス（ＮＨ_3）、ＤＭＺｎ（ジメチル亜鉛）、ＳｉＨ_4 （シラン）を用いる。 - 特許庁

Alternatively, the method for forming the zinc oxide film on the surface of the substrate comprises alternately supplying a vaporized gas of dimethylzinc or diethylzinc, and the gas containing the oxidizing gas, to the CVD apparatus.例文帳に追加

または、ジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛の気化ガスと、酸化剤ガスを含むガスを、交互にＣＶＤ装置に供給して、基板の表面に酸化亜鉛膜を形成させる。 - 特許庁

In a process for forming a p-type AlGaInP III-V compound semiconductor layer comprising zinc by using dimethylzinc, etc., by a metal organic vapor phase epitaxy, a growth velocity is made at least 0.3 nm/s.例文帳に追加

有機金属気相成長法によりジメチル亜鉛などを用いて亜鉛を含有するｐ型ＡｌＧａＩｎＰ系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体層を成長させる工程において、成長速度を０．３ｎｍ／秒以上とする。 - 特許庁

The transparent conductive layer is a film containing at least diethyl zinc or dimethylzinc as a source of zinc, and zinc oxide (ZnO) produced by a low-pressure CVD method using water or alcohol of a carbon number of 1 to 5 as a source of oxygen.例文帳に追加

また、前記透明導電層が、少なくとも亜鉛源としてジエチル亜鉛、又はジメチル亜鉛、及び、酸素源として水、又は炭素数１〜５のいずれかのアルコールを用いて減圧ＣＶＤ法により作製された酸化亜鉛（以下、ＺｎＯ）を含む膜である事を特徴とする。 - 特許庁

The method for forming the zinc oxide film on the surface of the substrate comprises the steps of: evaporating a raw material containing dimethylzinc or diethylzinc dissolved in an organic solvent; supplying the gas to a CVD apparatus; and simultaneously supplying a gas containing an oxidizing gas to the CVD apparatus.例文帳に追加

ジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛を有機溶媒に溶解させた原料を、気化させてＣＶＤ装置に供給するとともに、酸化剤ガスを含むガスをＣＶＤ装置に供給して、基板の表面に酸化亜鉛膜を形成させる。 - 特許庁

An organic compound such as dimethylzinc and a gas element compound such as oxygen are used for starting materials, which are dissociated and ionized by non-resonant multiple photon absorption not through an intermediate level by emission of an excimer laser 21, and impurities are separated from the ionized elements by the mass separation method using an electromagnetic field 55 to deposit only the prescribed ionized elements onto a target 61.例文帳に追加

ジメチル亜鉛などの有機化合物及び酸素などの気体元素化合物を出発原料として、エキシマレーザー２１照射により中間準位を経ない非共鳴の多光子吸収により解離及びイオン化し、イオン化された元素を電磁場５５による質量分離法により不純物を分離して所定のイオン化元素のみをターゲット６１上に堆積させる。 - 特許庁