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e ganとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 イーガン
「e gan」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
The main surface of a GaN wafer includes an area (b) to an area (e).例文帳に追加
GaNウエハの主面は、エリア(b)〜エリア(e)を含む。 - 特許庁
A band gap E(15) of the group-III nitride crystal layer 15 is larger than a band gap E(GaN) of the gallium nitride semiconductor layer.例文帳に追加
III族窒化物結晶層15のバンドギャップE(15)は窒化ガリウム半導体層のバンドギャップE(GaN)より大きい。 - 特許庁
Next, the InN layer 13 formed under the GaN layer 14 is removed by polishing in the process shown in Fig. 1 (e).例文帳に追加
次に、図1(e)に示す工程で、GaN層14の下に形成されているInN層13を研磨により除去する。 - 特許庁
The method for producing the self-supporting substrate essentially consists of the step D of forming an intermediate layer comprising a thin ZnO film and a thick GaN film on the intermediate layer on a flat substrate comprising GaN in the given order a plurality of times and the step E of removing the plurality of intermediate layers and separating the substrate from the plurality of thick GaN films.例文帳に追加
GaNからなる平板状の基材の上に、ZnO薄膜からなる中間層と中間層の上にGaN厚膜を順に複数回形成する工程Dと、複数の中間層を除去し、基材と複数のGaN厚膜とを分離する工程Eと、を少なくとも具備した自立基板の製造方法。 - 特許庁
When film formation has been completed and the substrate temperature has been lowered to almost the room temperature, manufacture of a p-type GaN based semiconductor 17a and an epitaxial wafer E is completed.例文帳に追加
成膜を完了して、基板温度を室温近傍まで低下させたとき、p型GaN系半導体17a及びエピタキシャルウエハEの作製は完了している。 - 特許庁
Thereafter, the p-type GaN substrate 7 is turned into a thin film so as to be restrained from increasing in resistance and turned to a p-type GaN electrode forming region 8 (Figure 1 (d)), and a p-type electrode 11 and an n-type electrode 12 are formed using evaporation, lithography, and dry etching (Figure 1 (e)).例文帳に追加
その後、抵抗値を抑えるためにp型GaN基板7を薄膜化してp型GaN電極形成領域8とし(図1(d))、p型電極11およびn型電極12を、蒸着、リソグラフィ、ドライエッチングを用いて形成する(図1(e))。 - 特許庁
To improve Vf and the maximum drain current in E-mode operation of GaN/AlGaN-HEMT, to provide a satisfactory withstand voltage between gate and drain, and further to suppress a gate leak current.例文帳に追加
GaN/AlGaN−HEMTをE−mode動作させるに当たり、Vf及び最大ドレイン電流を向上させ、かつ良好なゲート−ドレイン間耐圧を有し、さらに、ゲートリーク電流を抑制する。 - 特許庁
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Wiktionary英語版での「e gan」の意味 |
Egan
出典:『Wiktionary』 (2025/07/12 22:17 UTC 版)
語源
From Irish Ó hAodhagáin, literally, “descendant of Aodhagán”, from Old Irish Áedacán, from Áed + -acán, from áed (“fire”).
発音
- IPA: /ˈiːɡən/
固有名詞
Egan (countable and uncountable, plural Egans)
- (countable) A surname from Irish.
- (countable) An unknown-gender given name transferred from the surname.
- A place in the United States:
- A ghost town in California.
- An unincorporated community in Leaf River Township, Ogle County, Illinois.
- A census-designated place in Acadia Parish, Louisiana.
- A minor city in Moody County, South Dakota.
- An unincorporated community in Wilson County, Tennessee.
- An unincorporated community in Johnson County, Texas.
関連する語
「e gan」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
Such a part as a crystal defect 8, e. g. dislocation, is generated by giving irregularities on a substrate 1 is limited to its level difference portion, and a GaN crystal having good quality in other portions is obtained.例文帳に追加
基板1に凹凸をつけることにより転位などの結晶欠陥8を発生させる箇所をその段差部分に限定し、それ以外の部分では良質なGaN結晶を得ることができる。 - 特許庁
Then, a ZnO single crystal film 130 is formed, and a treatment for preventing initial nitriding of the surface of the ZnO film 130 (e) is subsequently performed to impart Ga polarity to GaN 140 which grows a single crystal film on the ZnO film 130 (f).例文帳に追加
その後、ZnO膜130の表面の初期窒化を防ぐ処理する(e)ことで、その上に単結晶膜を成長させるGaN140の結晶極性をGa極性とする(f)。 - 特許庁
The GaN self-supporting 21 is conveyed to a flux crystal growth apparatus and a crystal is grown on the surface 21s in a sodium/gallium flux under high temperature and high pressure conditions to form a nitride gallium layer 3 having a layer thickness of 2 mm (1.E).例文帳に追加
GaN自立基板21をフラックス結晶成長装置に搬入し、高温高圧下、ナトリウム/ガリウムフラックス中で表面21sに結晶成長させて、膜厚2mmの窒化ガリウム層3を形成した(1.E)。 - 特許庁
The substrate for growing a GaN-based crystal usable in the ELO technology is obtained by forming a mask layer 2 with a pattern which is constituted of mask areas (d) and non-mask areas (e) on the surface of a crystal substrate 1 on which the GaNbased crystal can grow.例文帳に追加
GaN系結晶が成長可能な結晶基板1の該基板面に、マスク領域dと非マスク領域eとが形成されるパターンにてマスク層2を形成し、ELO技術に対応し得るGaN系結晶成長用基板とする。 - 特許庁
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