electron beam etchingとは 意味・読み方・使い方

This nitrogen-implanted C60 fullerene thin film is suitable for use as a negative resist for electron beam lithography because difference of etching rate is remarkable before and after electron beam exposure and etching selectivity to the substrate is high.例文帳に追加

この一様に窒素イオンを分布した窒素注入C60フラーレン薄膜は電子線露光前後のエッチングレートの差、基板に対する選択比がが著しく高いので、電子線リソグラフィー用ネガレジストに適している。 - 特許庁

The plasma processing system includes an electron source electrode, where direct current (DC) power is coupled to generate a ballistic electron beam in etching a substrate.例文帳に追加

基板のエッチング中に弾道電子ビームを生成するために、プラズマ処理システムは、直流（ＤＣ）電力が結合される電子源電極を含んでいる。 - 特許庁

In this aperture grill, the both ends of holes 2 in which an electron beam is passed through are made by half-etching in order to disperse its tension at the both ends.例文帳に追加

電子ビーム透過孔２の両端部が張力分散のためのハーフエッチングが施された両端部であること。 - 特許庁

Preferably, a column (an electron beam column 106 or a focused beam column) for generating different charged particle beams is provided, and treatments for imaging, etching, deposition or the like are carried out.例文帳に追加

好ましくは別の荷電粒子ビームを生成するカラム（電子ビームカラム１０６または集束イオンビームカラム）を備え、画像化、エッチング、堆積等の処理を行う。 - 特許庁

The height of the defect being machined by electron beam or gas ion beam etching is measured with one probe in the independently actuatable probes to detect an end point.例文帳に追加

独立に駆動できる探針のうち1本の探針で、電子ビームまたはガスイオンビームエッチングで加工中の欠陥の高さを測定して終点検出を行う。 - 特許庁

To form a high aspect etching pattern without being accompanied with positive-negative reverse or increasing the number of etching steps, to improve etching durability of a photoresist pattern and to prevent line thinning by electron beam irradiation.例文帳に追加

ポジネガ反転を伴うことなく、エッチング回数増なく、高アスペクトエッチングパターンを形成でき、また、フォトレジストパターンのエッチング耐性を向上させ、電子ビーム照射によるライン細りを防止できる。 - 特許庁

By applying etching to it, the stock for shadow mask in which electron beam transmission holes free from dispersion of hole diameter in the part pierced by etching and excellent uniformity of hole diameter are formed can be obtained.例文帳に追加

これをエッチング加工することにより、エッチング穿孔部の孔径ばらつきのない、孔径の均一性に優れる電子線透過孔を形成したシャドウマスク用素材が得られる。 - 特許庁

To provide an electron-beam excitation dry etching technique using a reaction gas having low toxicity and corrosiveness in the partial etching of a metallic material required in a fine machining technique.例文帳に追加

微細加工技術で必要な金属材料の局所的エッチングを毒性、腐食性の低い反応ガスを用いた電子ビーム励起ドライエッチング技術を提供する。 - 特許庁