electron plasma frequencyとは 意味・読み方・使い方

Since the frequency is low, even an ion having a heavier mass as compared with an electron can move while following up the frequency and the plasma sticks to the electrode plate 9 side.例文帳に追加

周波数が低いので、電子に比べて質量が重いイオンも周波数に追従して動くことができ、プラズマが電極板９側に張り付く。 - 特許庁

Radio frequency excitation of the emitter generates thermions through electron and field effect, as a result, an effective plasma is generated.例文帳に追加

エミッタの無線周波数励起は、熱電子およびフィールド効果を介して電子を発生し、その結果効果的プラズマが発生する。 - 特許庁

To reduce the electron energy in a plasma while a plasma is emitted in a high frequency discharge plasma generating device, and thereby, further minimize the charged voltage of the substrate.例文帳に追加

高周波放電型のプラズマ発生装置においてプラズマを点灯させたままで、当該プラズマ中の電子エネルギーを低下させることができ、ひいては基板の帯電電圧をより小さくすることができるようにする。 - 特許庁

Since the high-frequency plasma 13 is used instead of an ion beam used conventionally, the amount of secondary electron emission is increased, thereby measuring the secondary electrons with high sensitivity.例文帳に追加

従来用いられていたイオンビームに代えて高周波プラズマ１３を使用するので、２次電子の放出量が多くなり、２次電子を高感度に測定できる。 - 特許庁

The plasma processing device for performing plasma processing of a test piece by generating plasma inside a vacuum processing chamber 1 is provided with a plurality of groups (7, 7') of high frequency induction antennas for forming an induction electric field which rotates clockwise on an ECR face of a magnetic field formed in the vacuum processing chamber 1, and plasma is generated by an electron cyclotron resonance (ECR) phenomenon.例文帳に追加

真空処理室１内にプラズマを生成して試料をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、真空処理室１内に形成される磁場のＥＣＲ面に右回転する誘導電場を形成する高周波誘導アンテナを複数組（７、７’）設け、電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）現象によりプラズマを生成する。 - 特許庁

In order to lower a load of a plasma-generating power source 8 while controlling electron temperature of the plasma, a method is used in which drastic changes of outputs are avoided by continuously changing field strength of a high-frequency field as shown in (a), (b).例文帳に追加

プラズマの電子温度を制御しつつ、プラズマ発生用電源８の負担を減らすため、（ａ），（ｂ）に示すように高周波電界の電界強度を連続的に変化させて急激な出力の変化をさせない方法を用いる。 - 特許庁

Since electron attachment and detachment are apt to occur, after the plasma generating high-frequency pulse power is turned off, the density of electrons is decreased abruptly, and at the same time, anions are abruptly increased.例文帳に追加

プラズマ発生用の高周波パルス電力がオフになった後の状態では、電子付着解離が生じやすくなるので、電子密度が急速に低下すると共に負イオンは急激に増加する。 - 特許庁

Electron-hole plasma is induced on the surface of the substrate 3 such as a semiconductor by the laser beam via the optical delay circuit 5, and consequently, the high-frequency transmission line 2 is short-circuited and the input wave is reflected.例文帳に追加

光遅延回路５を介してレーザー光が半導体等の基板３の表面に電子−正孔プラズマを誘起することで高周波伝送線路２を短絡し、入力波を反射する。 - 特許庁