eximerとは 意味・読み方・使い方

A portion of an organic polymer film 6 is removed by locally irradiating the organic polymer film 6 with a laser beam by the use of an eximer laser excitation device 1, and then, a plasma treatment with a gas containing a nitrogen atom is carried out.例文帳に追加

有機高分子膜６に対してエキシマレーザ励起装置１を用いてレーザ光を局所的に照射することにより有機高分子膜６の一部を除去した後、窒素原子を含むガスによるプラズマ処理を行う。 - 特許庁

A pattern surface is irradiated with light using an eximer UV lamp having ≤240 nm wavelength in an atmosphere having oxygen for removing a resist residue remaining after pattern transfer.例文帳に追加

パターン転写後に残存するレジスト残渣を除去するために酸素含有雰囲気中において、波長２４０ｎｍ以下の波長を有するエキシマＵＶランプを用いてパターン面を光照射する。 - 特許庁

A substrate B which is the array substrate of a liquid crystal panel is inserted into a processing chamber 37a of an excimer laser anneal chamber 37 by a robot 35, and the substrate B is annealed by the eximer laser so that a polycrystalline film can be formed.例文帳に追加

液晶表示パネルのアレイ基板である基板Ｂを、ロボット35により、エキシマ・レーザ・アニール室37の処理チャンバー37a へ挿入し、エキシマ・レーザにより基板Ｂをアニールして多結晶膜を形成する。 - 特許庁

To optimize a wave front of a narrow band eximer laser by selecting a combination of optical components for obtaining high optical quality and controlling the characteristics of the optical components.例文帳に追加

狭帯域化エキシマレーザにおいて、良質な光品位を得ることのできる光学部品の組み合わせを選定し、この光学部品の特性を調整して波面の最適化を行なう。 - 特許庁

Thereby, by the eximer light wherein a single peak wavelength is provided and an energy of the photon is much, adhesion between the mold surface and a material stuck thereto is lowered, and the material of which the adhesion is lowered is vaporized by oxidizing decomposition.例文帳に追加

これにより、単一ピーク波長を有し光子のエネルギーが大きいエキシマ光により、型面とこれに付着した物質との間の密着性を低下させ、密着性が低下した物質を酸化分解し揮発させる。 - 特許庁

The eximer laser beam B is irradiated on the whole of amorphous silicon thin film 12 on the glass substrate 11 by only moving a substrate stage 28, installed on the glass substrate 11, along a direction orthogonal to the long picture direction of the excimer laser beam B.例文帳に追加

ガラス基板11を設置した基板ステージ28を、エキシマレーザビームＢの長尺方向に直交する方向に沿って移動させるだけで、ガラス基板11上のアモルファスシリコン薄膜12全体にエキシマレーザビームＢを照射できる。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing an ultraviolet light resistant optical material such as a lens or a prism, which has ultraviolet light resistance to light having wavelengths in the ultraviolet light region such as eximer laser and which is suitable for an optical device using high power laser of an ultraviolet light region.例文帳に追加

エキシマレーザなどの紫外線領域波長光に対する耐紫外線性を有し、紫外光線領域の高出力レーザを利用する光学装置に好適なレンズ、プリズム等の耐紫外線光学材料の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for far ultraviolet rays, particularly KrF eximer laser light, having improved line edge roughness, excellent sensitivity, resolution and focal depth and capable of reducing foreign substance on a resist pattern and decreasing standing wave.例文帳に追加

遠紫外光、特にＫｒＦエキシマレーザー光に好適で、ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、焦点深度が優れ、レジストパターン表面上の異物が減少し、更に定在波も低減したポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁