film formation technologyとは 意味・読み方・使い方

To provide technology that allows uniform formation of finely roughened surface texture on the surface of a stainless steel sheet, and especially technology suitable for a substrate of a thin film Si solar cell.例文帳に追加

ステンレス鋼板の表面に微細な粗面化テクスチャーを均一に形成させる技術であって、特に薄膜Ｓｉ太陽電池の基板に好適な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming a silicon thin film having good crystallinity even when scanning rate is raised in the formation of the silicon thin film using a zone melting recrystallization process, and to provide a solar cell using the formed silicon thin film.例文帳に追加

帯域溶融再結晶化法を使用してシリコン薄膜を形成するにあたり、走査速度を上げても結晶性の良い膜を形成できる技術及び、形成されたシリコン薄膜を使用した太陽電池を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive and a method of polishing a substrate, which can efficiently perform removal of an excessively formed film layer and planarization of a silicon oxide film and an embedded film of a metal or the like with high-level quality and with easy process control in a recess CMP technology such as for shallow trench isolation formation and for embedded metal wiring formation and in a planarization CMP technology for an interlayer insulation layer.例文帳に追加

シャロー・トレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のリセスＣＭＰ技術及び層間絶縁膜の平坦化ＣＭＰ技術において、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical thin film formation technology which can inhibit large volume shrinkage due to desorption of an organic component in a film and inhibit structural disorder such as cracks.例文帳に追加

膜中の有機成分の脱離による大きな体積収縮を抑制し、クラックなどの構造破壊を抑制することのできる光薄膜形成技術を提供する。 - 特許庁

To suppress discharge of liquid out of a substrate to be treated and uniformly form a liquid film in technology spirally feeding the liquid on the substrate to be treated to perform film formation.例文帳に追加

被処理基板上に渦巻き状に液体を供給して成膜を行う技術において、被処理基板外への液体の放出を抑制すると共に、均一に液膜を形成する。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming an excellent film with an accurate pattern by a heating film formation method using light and capable of producing a high definition light-emitting device with satisfactory productivity.例文帳に追加

光による加熱成膜法により正確なパターンで、かつ良質な膜を成膜し、高繊細な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。 - 特許庁

An insulating coating 44 coating-formed on the back face 14 of the cathode layer 26 by a film formation technology is interposed between the cathode layer 26 of the EL display part 16 and the upper conductive film 36 of the depression input part 18.例文帳に追加

ＥＬ表示部１６の陰極層２６と押下入力部１８の上部導電膜３６との間には、陰極層２６の背面１４に成膜技術により被着形成される絶縁皮膜４４が介在する。 - 特許庁