highly selective etchingとは 意味・読み方・使い方

To provide a highly selective Ru(ruthenium) etching technique, using a photoresist as an etching-resistant mask.例文帳に追加

フォトレジストを耐エッチングマスクに用いたＲｕ（ルテニウム）の高選択エッチング技術を提供する。 - 特許庁

To realize highly selective etching which enables plasma processing of superior uniformity.例文帳に追加

均一性に優れたプラズマ処理を可能とし、高選択なエッチングを実現する。 - 特許庁

In embodiments, the etching is highly selective between the material of the insulation layer and the material of the substrate.例文帳に追加

実施例でエッチングは、絶縁層の材料と基板の材料との間で高度に選択的である。 - 特許庁

In a method for manufacturing semiconductor storage device, highly selective anisotropic etching SAS(self-aligned source) etching is performed on a silicon oxide by using a resist 56, laminated gates 46, and thermally oxidized films 58 as a mask.例文帳に追加

レジスト５６、積層ゲート４６および熱酸化膜５８をマスクとしてシリコン酸化物に対する選択性の高い異方性エッチング（ＳＡＳエッチング）を行なう。 - 特許庁

To provide a method for effectively, easily and inexpensively producing carbonyl sulfide which is an important compound attracting attention as an etching gas for highly anisotropic and highly selective etching by a plasma of an organic reflection preventing film.例文帳に追加

有機系反射防止膜のプラズマによる高異方性および高選択性エッチング用のエッチングガスとして注目される重要な化合物である硫化カルボニルを効率よく簡便にかつ安価に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an etching solution which does not damage polycrystal Si(poly-Si) and a Si oxide film (SiO_2), has a highly selective etching rate to a hafnium oxide film of a hardly-soluble high-dielectric material used as a gate insulation film, and does not include hydrofluoric acid.例文帳に追加

多結晶Ｓｉ（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）、Ｓｉ酸化膜（ＳｉＯ_２）などにダメージを与えることなく、ゲート絶縁膜として用いられる難溶性の高誘電体材料であるハフニウム酸化膜等に対する選択エッチチングレートが大きく、なおかつフッ酸を含まないエッチング液を提供する。 - 特許庁

An impurity, for example oxygen, is introduced into a silicon substrate or a silicon layer, and heat treatment is carried out so that an impurity deposition region is formed, and highly selective ratio anisotropic etching is carried out by using the deposition region as a micromask 14.例文帳に追加

シリコン基板或いはシリコン層中に不純物、例えば酸素を導入し、熱処理することにより不純物析出領域を形成し、この析出領域をマイクロマスク１４として高選択比異方性エッチングを行う。 - 特許庁