homogeneous plasmaとは 意味・読み方・使い方

To control the intensity distribution of high frequency electric field consumed for plasma generation by using an electrode of homogeneous material and a driven body.例文帳に追加

均質素材の電極及び被駆動体を用いてプラズマ生成に消費される高周波の電界強度分布を制御する。 - 特許庁

To provide a surface-wave-excited plasma CVD apparatus which forms a homogeneous thin film with a uniform thickness on a substrate having a large area.例文帳に追加

大面積の基板に均一厚さ且つ均質な薄膜を成膜できる表面波励起プラズマＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

Owing to the gaseous mixture discharged through the opening 51c, a plasma beam PB can stably be formed, and a homogeneous film can be deposited on the wafer W with superior reproducibility.例文帳に追加

開口５１ｃから吐出される混合ガスにより、プラズマビームＰＢを安定して形成することができ、基板Ｗ上に均質な膜を再現性よく形成することができる。 - 特許庁

The ceramic coating 112 is formed by subjecting the core 110 to plasma thermal spraying with a single homogeneous powder containing about 22% titania, up to about 77% alumina and an organic binder.例文帳に追加

セラミック被膜１１２は、約２２％のチタニアと約７７％までのアルミナと有機バインダを含む単一の均質な粉体をコア１１０へプラズマ溶射することで形成される。 - 特許庁

To provide a plasma display device which is capable of achieving large-area and homogeneous adhesion and heat radiation between a PDP and a chassis member and of splitting the PDP and the chassis member from each other with a small peeling force.例文帳に追加

ＰＤＰとシャーシ部材との大面積で均一な接着と放熱を実現するとともに、小さな剥離力でＰＤＰとシャーシ部材との解体が可能なプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a plasma CVD apparatus, capable of efficiently forming a high quality deposited film with a very uniform film thickness and homogeneous film quality on a large area base body, at high speed and in stable manner.例文帳に追加

大面積の基体上に膜厚が極めて均一で且つ均質膜質である高品質な堆積膜を高速度で安定に、効率よく形成することのできるプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high frequency plasma CVD process and a high frequency plasma CVD system stably depositing a deposition film of high quality in which film thickness is extremely uniform and film quality is homogeneous on a substrate of a larger area with an optional shape at a high speed and capable of efficiently depositing a deposition film.例文帳に追加

任意形状の大面積の基体上に、膜厚が極めて均一で且つ均質膜質である高品質な堆積膜を高速度で安定に形成し、効率よく堆積膜を形成し得る高周波プラズマＣＶＤ法および高周波プラズマＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an Si-containing glassy carbon material having a homogeneous and dense composite texture structure containing Si uniformly distributed in the texture as a continuous phase and having excellent chemical stability such as oxidation resistance and plasma resistance.例文帳に追加

組織中にＳｉが連続相として均一に分布した均質緻密な複合組織構造を備え、耐酸化性や耐プラズマ性などの化学的安定性に優れたＳｉ含有ガラス状カーボン材を提供する。 - 特許庁