intensity regionとは 意味・読み方・使い方

The directional characteristics of the intensity of the light are controlled by the rugged region 2.例文帳に追加

その光強度の方向特性が凹凸領域２によって調整される。 - 特許庁

A white region 31 with the small intensity of an electric current vector, a gray region 32 with the middle intensity of the same, and a black region 33 with the large intensity of the same, and electric vectors 30 are displayed on the standard model 29 after the position alignment.例文帳に追加

位置合わせ後の標準モデル２９に，電流ベクトルの大きさが，小である白の領域３１，中程度である灰色の領域３２，大である黒の領域３３として表示され，電流ベクトル３０が表示される。 - 特許庁

The semiconductor region 44 contains impurities higher in intensity than that of the drift region 26.例文帳に追加

半導体領域４４は、ドリフト領域２６よりも不純物を高濃度に含んでいる。 - 特許庁

Also, for all the test patterns [n], the background region is displayed and driven by a driving level DDL_0.2 corresponding to the intensity level of 20% of the maximum intensity level so that it has the intensity level corresponding to 20% of the maximum intensity level.例文帳に追加

また、全てのテストパターン［ｎ］について、その背景領域は最大輝度レベルの２０％に対応する輝度レベルとなるように、最大輝度レベルの２０％の輝度レベルに対応する駆動レベルＤＤＬ_0.2で表示駆動される。 - 特許庁

Then, in the case of being within a character region on the basis of the position information comprising the gray intensity, when the reproducing intensity is equal to or lower than a prescribed value, intensity correction processing for correcting the reproducing intensity is executed (step S7).例文帳に追加

次に、グレー濃度で構成される位置情報に基づいて、文字領域内である場合に、再現濃度が所定値以下である場合には、再現濃度を補正する濃度補正処理を実行する（ステップＳ７）。 - 特許庁

The integrated intensity of the diffracted X-ray on the X-ray recording region is determined in a region inside the intensity calculation frame 26, and the result is used as the intensity of the diffraction spot 34.例文帳に追加

強度算出枠２６の内側の領域で，Ｘ線記録領域上の回折Ｘ線の積分強度を求めて，これを回折斑点３４の強度とする。 - 特許庁

The wafer WF is subjected to heat treatment in such a manner that the first region is subjected to heat treatment in the first intensity, while the second region is subjected to heat treatment in the second intensity higher than the first intensity.例文帳に追加

第１の領域が第１の強度で熱処理され、かつ第２の領域が第１の強度よりも大きい第２の強度で熱処理されるように、ウエハＷＦが熱処理される。 - 特許庁

The resist film on the second region of the substrate is exposed to the light, having second intensity weaker than the first intensity.例文帳に追加

基板の第２の領域上のレジスト膜を、第１の強度よりも弱い第２の強度の光で露光する。 - 特許庁