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意味・対訳 干渉法測定
「interferometric measurement」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
METHOD AND APPARATUS FOR LASER TRACKING INTERFEROMETRIC LENGTH MEASUREMENT例文帳に追加
レーザ干渉追尾測長方法及び装置 - 特許庁
To provide an apparatus for determining a height map of a surface of an object through both interferometric measurement and non-interferometric measurement.例文帳に追加
干渉測定および非干渉測定の両方を通して物体表面の高さマップを定める装置を提供する。 - 特許庁
To provide a compact, inexpensive and highly efficient heterodyne interferometric displacement measurement apparatus.例文帳に追加
小型かつ低価格で高効率なヘテロダイン干渉変位計測装置を提供する。 - 特許庁
A measurement beam is irradiated to the surface of an optical element, and the beam reflected or refracted therefrom is measured by an interferometric measurement device.例文帳に追加
測定ビームが光学素子の表面に照射され、そこから反射されたまたは屈折されたビームは、干渉計測定デバイスで測定される。 - 特許庁
To provide an interferometer having a high measuring accuracy and a method to determine the moving speed of any object through an interferometric measurement.例文帳に追加
測定精度の高い干渉計と、対象物の運動速度を干渉測定により求めることのできる方法とを提供する。 - 特許庁
To provide a heterodyne laser interferometric measuring machine which accurately eliminates the influence of a dead path from the measurement results.例文帳に追加
測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。 - 特許庁
Measurement values of an interferometric measurement system are corrected for variations of atmospheric conditions such as pressure, temperature and turbulence using measurement values from a second harmonic interferometer.例文帳に追加
干渉計測システムの測定値は、第２高調波干渉計からの測定値を使用して、圧力、温度および乱流のような大気の状態の変動に対して補正される。 - 特許庁
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「interferometric measurement」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
This lithography equipment comprises a radiation system, a second support for supporting a first support substrate supporting a patterning device for patterning a radiation beam, a projection system for projecting the patterned beam on the target of the substrate, and an interferometric measurement system for providing an interferometric measurement beam extending along an axis in an elongated volume of gas extending under the projection system.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射線システム、および放射線ビームをパターン化するパターニングデバイスを支持する第一支持体基板を支持する第二支持体、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システム、および投影システムの下に延在するガスの細長いボリューム内で、軸線に沿って延在する干渉計測定ビームを提供する干渉計測定システムを含む。 - 特許庁
To provide an interferometric displacement measuring system for use in a lithographic projection apparatus having increased precision in spite of pressure and temperature disturbances in the optical paths of measurement and reference beams.例文帳に追加
測定ビームおよび基準ビームの光路内の圧力および温度の外乱があっても、精度の高いリソグラフィ投影装置で使用するための干渉計変位測定システムを提供する。 - 特許庁
To provide a method and system for providing environmental control for a vibration sensitive system such as an interferometric measurement system, while minimizing acoustic noise during data acquisition.例文帳に追加
干渉計測システムなどの振動感知システムのために、データ取得中は音響ノイズを最小限にしながら、環境制御をするための方法およびシステムの提供。 - 特許庁
To provide a measuring apparatus for optical, for example interferometric, measurement of an optical imaging system, for imaging an effective pattern in an imaging operation, including a device for producing radiation information, for example interference information, which indicates heating-dependent imaging errors.例文帳に追加
撮像動作において有効パターンを撮像する光学撮像システムの、光学、例えば、干渉計測定用の測定装置であって、例えば、加熱依存性撮像エラーを示す干渉情報である、放射情報を製造する装置の実現。 - 特許庁
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