interlayer dielectricとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF DRY-ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

To provide an interlayer dielectric that has a low dielecttic constant and a low relative dielectric constant, and is easily manufactured, and a method for manufacturing the interlayer dielectric.例文帳に追加

誘電率が低く、製造が容易な低比誘電率の層間絶縁膜及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING INTERLAYER DIELECTRIC FILM, INTERLAYER DIELECTIC FILM, SEMICONDUCTOR DEVICE AND APPARATUS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

層間絶縁膜形成方法、層間絶縁膜、半導体デバイス、および半導体製造装置 - 特許庁

Furthermore, an interlayer dielectric 10 is selectively formed on the gate polysilicon 5, and an emitter electrode 11 is formed on the interlayer dielectric.例文帳に追加

さらに、ゲートポリシリコン５の上に選択的に層間絶縁膜１０を形成し、その上にエミッタ電極１１を形成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING INTERLAYER DIELECTRIC FILM AND METHOD OF FORMING STORAGE CAPACITOR HAVING INTERLAYER DIELECTRIC FILM例文帳に追加

層間絶縁膜の形成方法、および当該層間絶縁膜を有するストレージキャパシタの形成方法 - 特許庁

A pad opening 22 reaching from the surface of the interlayer dielectric 21 to a second wiring 13 is formed on the interlayer dielectric 21 of the second wiring 13.例文帳に追加

第２配線１３上の層間絶縁膜２１には、その表面から第２配線１３に達するパッド開口２２が形成されている。 - 特許庁

An interlayer dielectric 101 is formed on the top of a semiconductor substrate, and a lower layer wiring 105 is formed in the interlayer dielectric 101.例文帳に追加

半導体基板の上面に層間絶縁膜１０１が形成されており、層間絶縁膜１０１内に下層配線１０５が形成されている。 - 特許庁

An interlayer dielectric 26 is formed on an interlayer dielectric 22 where a bit line 24, a connecting conductor layer 25, and an MTJ element 30 are formed.例文帳に追加

ビット線２４、接続導体層２５及びＭＴＪ素子３０が形成された層間絶縁膜２２上には、層間絶縁膜２６が形成されている。 - 特許庁