interlayer dielectricとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR DRY-ETCHING LOW DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

A reflection-preventing film 4 is formed flatly on the interlayer dielectric 3, and the end point of the interlayer dielectric 3 is detected by monitoring reflected light intensity from the interlayer dielectric 3 while polishing the interlayer dielectric 3.例文帳に追加

層間絶縁膜３上に反射防止膜４を平成し、層間絶縁膜３を研磨しながら、層間絶縁膜３からの反射光強度をモニタすることにより、層間絶縁膜３のエンドポイントを検出する。 - 特許庁

METHOD OF DRY ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF DRY-ETCHING LOW-DIELECTRIC CONSTANT INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

A plug 6 is formed in the first interlayer dielectric 5, and a stopper film 7 and a second interlayer dielectric 8 are formed.例文帳に追加

第１の層間絶縁膜５内にプラグ６を形成し、ストッパ膜７および第２の層間絶縁膜８を形成する。 - 特許庁

An interlayer dielectric 11 is stacked on the epitaxial layer 3.例文帳に追加

エピタキシャル層３には、層間絶縁膜１１を積層する。 - 特許庁

First, a resist (not shown) for forming a hole is patterned on an interlayer dielectric 13, and according to it the interlayer dielectric 132, a stopper film 12, and the interlayer dielectric 131 are sequentially etched.例文帳に追加

層間絶縁膜１３上に、まずホール形成のためのレジスト（図示せず）をパターニングし、それに従って層間絶縁膜１３２、ストッパ膜１２、層間絶縁膜１３１を順にエッチングする。 - 特許庁

INTERLAYER DIELECTRIC, ITS FORMING METHOD AND FORMING METHOD OF WIRING例文帳に追加

層間絶縁膜、その形成方法及び配線の形成方法 - 特許庁