iodine etching solutionとは 意味・読み方・使い方

To provide an etching solution excellent in selectively etching a compound semiconductor film, an etching method using the etching solution, and a method for recovering iodine from the etching waste solution of the etching solution.例文帳に追加

選択性に優れた化合物半導体膜のエッチング液とそれを用いたエッチング方法、及びそのエッチング廃液のヨウ素の回収方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR FILM, ETCHING METHOD USING IT, AND METHOD FOR RECOVERING IODINE FROM ITS ETCHING WASTE SOLUTION例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液とそれを用いたエッチング方法、及びそのエッチング廃液のヨウ素の回収方法 - 特許庁

The etching solution for etching a compound semiconductor film selectively etches Al_xGa_1-xAs layer (0.4≤x≤1), where the etching solution is an aqueous solution including an anion with iodine atoms.例文帳に追加

Ａｌ_xＧａ_1-xＡｓ（０．４≦ｘ≦１）層を選択的にエッチングするエッチング液であって、前記エッチング液がヨウ素原子含有アニオンを含む塩酸酸性水溶液よりなる化合物半導体膜のエッチング液とする。 - 特許庁

The method for collecting gold from the etching waste comprises the steps of: adding a sulfite solution to a waste liquid of an iodine-based etching solution to reduce iodine, which has been used for etching gold; then adding a metallic powder to reduce gold remaining in the waste liquid; and separating the solid from the liquid.例文帳に追加

金のエッチングに使用した後のよう素系エッチング液の廃液に亜硫酸塩溶液を添加し、よう素を還元した後、金属粉を添加し廃液中の残りの金を還元し、固液分離するエッチング廃液からの金の回収方法。 - 特許庁

The iodine etching solution for etching the noble metal on the semiconductor material comprising both the noble metal and the base metal has an etching rate ratio for the noble metal to the base metal (etching rate of the noble metal/etching rate of the base metal) of ≥0.03.例文帳に追加

貴金属と卑金属が共存する半導体材料から貴金属をエッチングするヨウ素系のエッチング液であって、該エッチング液の貴金属と卑金属のエッチングレート比（貴金属のエッチングレート／卑金属のエッチングレート）が０．０３以上である、前記エッチング液。 - 特許庁

The etchant of the compound semiconductor used for etching the Ga_xIn_1-xP semiconductor (0.9≤x≤1.0) is characterized in that it is composed of aqueous solution containing iodine, potassium iodide, and ammonia.例文帳に追加

Ｇａ_xＩｎ_1-xＰ半導体（0.9≦ｘ≦1.0）をエッチングするために用いられる化合物半導体のエッチング液であって、ヨウ素、ヨウ化カリウム及びアンモニアを含む水溶液からなること。 - 特許庁

The etching solution for a silver-based thin film deposited on a substrate contains, by weight, 3 to 30% iodine and 10 to 50% iodide in a water base medium.例文帳に追加

沃素３〜３０重量％と沃化物１０〜５０重量％とを水性媒体中に含有することを特徴とする基板上に形成された銀系薄膜用エッチング液。 - 特許庁