laser activationとは 意味・読み方・使い方

The laser ignition device for the internal combustion engine is provided with a laser beam irradiation device 4 for irradiating an air-fuel mixture in a combustion chamber 10 of the internal combustion engine with laser beams to activate the air-fuel mixture, and a laser beam recovery device 6 for recovering unconsumed laser beams not consumed for the activation of the air-fuel mixture out of the laser beams.例文帳に追加

内燃機関の燃焼室１０内の混合気にレーザ光を照射して混合気を活性化させるレーザ光照射装置４と、レーザ光のうち混合気の活性化に消費されなかった未消費レーザ光を回収するレーザ光回収装置６とを備える。 - 特許庁

Consequently, thermal activation can be utilized in place of high cost laser annealing for impurity implantation and activation in the fabrication process of a polysilicon type thin film transistor.例文帳に追加

従って、ポリシリコン型薄膜トランジスタの製造工程で不純物注入活性化に高コストのレーザーアニーリングの代わりに熱活性化を利用できる。 - 特許庁

By the irradiation of laser light, the implanted ion impurities and the crystal damaged at the time of implantation are subjected to the activation and the restoration process, respectively.例文帳に追加

レーザ光を照射してイオン注入した不純物の活性化と注入時に損傷を受けた結晶の回復処理を行う。 - 特許庁

For the photo-activation, laser rays (or other light emitting devices) are used generally and a pattern is formed on the material.例文帳に追加

この光活性化には一般に、レーザ線（または他の発光装置）が用いられ、この材料上にパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide an activation analysis method executed by activating a sample with a terawatt table top laser.例文帳に追加

テラワットテーブルトップレーザーによって試料を放射化して行う放射化元素分析法に関するものである。 - 特許庁

To provide a laser beam irradiation method, a laser irradiation equipment to perform irradiation, and a method to manufacture a semiconductor device, which includes the processes of semiconductor film crystallization, activation, heating and the like performed by means of laser beam irradiation.例文帳に追加

レーザ光の照射方法及びそれを行うレーザ照射装置と、レーザ光の照射により半導体膜の結晶化、活性化、加熱等を工程に含む半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser irradiation device which can make light intensity distribution uniform satisfactorily even if a laser with high coherence is employed as a laser light source, and which can be used for an impurity activation procedure that can activate impurities in the depths from a substrate surface of a semiconductor substrate with the impurities added.例文帳に追加

表層に不純物が添加された半導体基板の基板表面から深い位置に存在する不純物の活性化を行うことができる不純物活性化方法に用いることができるレーザ照射装置を提供する。 - 特許庁

A side surface excitation fiber laser 11 constituting the side surface excitation laser device 10 is constituted with inclusion of a core 12, to which a laser activation substance is added, provided within a long-length clad 14 extended in the optical axis direction of the oscillated laser beam and a wedge-shaped light collecting part 18 provided within the clad 14.例文帳に追加

側面励起レーザ装置１０を構成する側面励起ファイバレーザ１１は、発振するレーザの光軸方向に長手のクラッド１４内に設けられレーザ活性物質が添加されたコア１２と、クラッド１４内に設けられた楔状集光部１８とを備えて構成されている。 - 特許庁