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liquid jet processingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 液体ジェット加工
「liquid jet processing」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 58件
PROCESSING LIQUID AND INK-JET RECORDING METHOD例文帳に追加
処理液及びインクジェット記録方法 - 特許庁
WASTE INK PROCESSING DEVICE, RECORDING DEVICE, WASTE LIQUID PROCESSING DEVICE AND LIQUID JET APPARATUS例文帳に追加
廃インク処理装置、記録装置、廃液処理装置および液体噴射装置 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID DROPLET JET HEAD, AND LIQUID DROPLET JET DEVICE例文帳に追加
基板の加工方法、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置 - 特許庁
LIQUID-REPELLENT PROCESSING METHOD OF INK-JET HEAD AND INK-JET HEAD MADE BY THIS METHOD例文帳に追加
インクジェットヘッドの撥液処理方法およびこれにより作製したインクジェットヘッド - 特許庁
PROCESSING LIQUID FOR INK JET RECORDING, INK SET FOR INK JET RECORDING, INK JET RECORDING METHOD, CURL SUPPRESSING METHOD, AND INK JET RECORDING DEVICE例文帳に追加
インクジェット記録用処理液、インクジェット記録用インクセット、インクジェット記録方法、カール抑制方法およびインクジェット記録装置 - 特許庁
The jet nozzle emits processing liquid onto the substrate and also injects processing gas toward the processing liquid emitted from the jet nozzle while adjusting flow of the processing gas.例文帳に追加
噴射ノズルは処理液を基板に排出すると同時に、処理ガスの気流を調節して処理ガスを噴射ノズルから排出される処理液側に噴射する。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING SILICON WAFER AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID JET HEAD例文帳に追加
シリコンウェハの処理方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁
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「liquid jet processing」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 58件
METHOD FOR PROCESSING SILICON SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID JET HEAD例文帳に追加
シリコン基板の加工方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁
The substrate processing apparatus includes a jet nozzle which injects processing liquid and dries a substrate.例文帳に追加
基板処理装置は、処理液を噴射して基板を乾燥する噴射ノズルを備える。 - 特許庁
To provide a flushing method or the like of a liquid jet apparatus which can suppress a liquid jet amount from a liquid jet head at the time of flushing processing to a minimum.例文帳に追加
フラッシング処理時における液体噴射ヘッドからの液体噴射量を最小限に抑えることができる液体噴射装置のフラッシング方法等を提供する。 - 特許庁
The partial liquid filling section 2 may be provided with a processing liquid head of the same structure as that of an ink jet head.例文帳に追加
部分液盛り処理部2は、インクジェットヘッドと同様な構造の処理液ヘッドを備えていてもよい。 - 特許庁
The processing base 70 is disposed below the processing head 12 and supplies liquid or gas jet for processing the wafer.例文帳に追加
処理ベース70は、処理ヘッド12の下方に配置され、液体又はガスのジェットをウエーハの処理のために供給する。 - 特許庁
DRILLING PROCESSING DEVICE OF FINE HOLE, METHOD OF PROCESSING THEREFOR, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID JET HEAD USING THE SAME例文帳に追加
微細穴の穿設加工装置、その加工方法およびそれを用いた液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁
To prevent a shield member used in liquid honing processing from being worn by slurry jet out of a jet gun to hit the shield member.例文帳に追加
液体ホーニング加工の際に用いられる遮蔽部材が、噴射ガンから噴射されたスラリーの衝突によって摩耗するのを防ぐ。 - 特許庁
To obtain a liquid jet device which efficiently performs correction pattern-forming processing for correcting the deviation of a dot-forming position, and to obtain a liquid jet system.例文帳に追加
ドット形成位置のズレを補正するための補正用パターンの形成処理を効率的に行う液体吐出装置、及び、液体吐出システムを実現することにある。 - 特許庁
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