micro-diameter holeとは 意味・読み方・使い方

The micro-holed array having a plurality of micro-holes is configured such that respective micro-holes are communicated with a groove thinner than the diameter of the micro-hole.例文帳に追加

複数のマイクロ穴を有するマイクロホールアレイにおいて、マイクロ穴部間を、マイクロ穴径よりも小さな溝部を設けて連結するよう構成した。 - 特許庁

The diameter of the communicating hole communicating the pore 2 with the foam 3 is set larger than that of the micro-pores of the skin layer 4a.例文帳に追加

多孔２及び発泡３を連通する連通孔の孔径は、スキン層４ａの微多孔より大きく形成されている。 - 特許庁

To provide a wiring board which is manufactured, while using a forming method for fine via hole for completely filling a hole for fine micro-via hole (having a hole diameter of ≤50 μm and an aspect ratio of ≥1), and to provide a producing method therefore.例文帳に追加

微細なマイクロビアホール用穴（穴径５０μｍ以下、アスペクト比１以上）に導体を完全に埋め込む微細ビアホールの形成方法を用いて作製した配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This micro-boring method of the disk for generating microplasma with the thickness of 100-500 μm executes electric discharge machining at a prescribed position of the disk 11 for generating the microplasma while stepwisely and gradually exchanging a plurality of electric discharge machining electrodes 12 from a large diameter to a small diameter and taperedly forms a micro-hole with an aperture diameter of 5-10 μm.例文帳に追加

厚さ１００〜５００μｍのマイクロプラズマ発生用ディスクの微細穴あけ加工方法であって、マイクロプラズマ発生用ディスク１１の所定位置に対し、複数本の放電加工電極１２を直径の大きいものから小さいものへと段階的に漸次交換しながら放電加工を行い、そのディスクに開口径が５〜１０μｍの微細穴をテーパ状に形成する。 - 特許庁

The method for producing the micro ring-like inorganic oxide particles includes subjecting an inorganic oxide sol having an average particle diameter of 3-100 nm to spray drying and then treating the obtained particles with an acid or a base to form the through-hole.例文帳に追加

平均粒子径が３〜１００ｎｍの無機酸化物ゾルを噴霧乾燥したのち、得られた粒子を、酸または塩基で処理することで、貫通孔を形成するマイクロリング状無機酸化物粒子の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device in which sufficient contact can be ensured between first and second gate electrodes even when a contact hole of micro diameter is made in a semiconductor device subjected to fine patterning.例文帳に追加

微細化された半導体装置において微小径のコンタクトホールを形成する場合においても，第１のゲート電極と第２のゲート電極との間で充分なコンタクトを取ることができる半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device of a higher integration degree which is better in productivity and by which a pattern such as a hole of a micro-diameter is formed without causing deterioration of productivity due to an increase of the number of processes.例文帳に追加

工程数の増大による生産性の低下を招くことなく、微小径の孔等のパターンを形成することができ、集積度の高い半導体装置を生産性良く製造することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁