nano-imprintingとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR MANUFACTURING MOLD FOR LITHOGRAPHY BY NANO-IMPRINTING例文帳に追加

ナノインプリンティングによってリソグラフィのためのモールドを製造する方法 - 特許庁

Consequently, the life, durability, and economy of the hardening nano-imprinting stamp 10 are improved.例文帳に追加

その結果、硬化ナノインプリントスタンプ10の寿命、耐久性、及び経済性が向上する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF STRUCTURAL OBJECT HAVING LINEAR RECESSED STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD OF MOLD FOR NANO-IMPRINTING例文帳に追加

ライン状凹構造を有する構造体の製造方法、ナノインプリント用モールドの製造方法 - 特許庁

The photo-setting type nano-imprinting device includes, as other units: an imprinting station 120 imprinting a mold against a resin on a substrate; and a curing unit 140 radiating ultraviolet rays.例文帳に追加

光硬化型のナノインプリント装置は、モールドを基板上の樹脂に押し付ける押印ステーション１２０と、紫外線を照射する硬化ユニット１４０と、を別個のユニットとして備えている。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for nano-imprinting lithography capable of relaxing characteristics fitted to a nano-imprinting, that is, an imprinting condition under high pressure during thermal imprinting, capable of reducing damage to a mold, further having properties capable of relaxing the imprinting condition at a high temperature and having favorable transfer properties with respect to the mold.例文帳に追加

ナノインプリントに適合した特性、すなわち、熱インプリント時の高圧でのインプリント条件が緩和でき、型（モールド）へのダメージを軽減でき、更に、高温でのインプリント条件を緩和できる性能を有し、かつ、型に対する転写性が良好なナノインプリントリソグラフィ用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a detergent composition with high detergency to resin stain remaining and adhering to a mold for nano imprinting and capable of cleaning the mold without damaging it, and an easy and convenient cleaning method of the mold for nano imprinting.例文帳に追加

ナノインプリント用モールドに付着残存した樹脂汚れに対する洗浄力が高く、かつ、モールドを傷めずに洗浄できる洗浄剤組成物、及びナノインプリント用モールドの簡便な洗浄方法の提供。 - 特許庁

If the coordinates of the flaw by the scatterometry method coincide with those of the foreign matter or crack, the flaw is determined to be not the flaw during nano-imprinting and, if the coordinates of the flaw do not coincide with those of the foreign matter or crack, the flaw is determined to be the flaw during nano-imprinting.例文帳に追加

スキャットロメトリー法による欠陥の座標が異物あるいは傷の座標と一致すれば、ナノプリント時の欠陥ではないと判断し、一致しなければナノプリント時の欠陥と判断する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nano-imprinting mold which includes a master formed of Si, SiO_2, or the like and having a nano-scale minute structure, the nano-imprinting mold faithfully transferring the minute structure even if an aspect ratio of indentation of the minute structure is as large as 1 or more.例文帳に追加

本発明は、ＳｉやＳｉＯ_２等から形成される母型がナノスケールの微細構造を有し、かつ、当該微細構造の凹凸のアスペクト比が１以上の大きい場合であっても忠実に当該微細構造を転写可能なナノインプリント用金型の製造方法を提供する。 - 特許庁