near field patternとは 意味・読み方・使い方

To extremely make an influence of dispersion of an illumination strength by a near-field pattern and a far-field pattern which a semiconductor laser light source has less.例文帳に追加

半導体レーザ光源の有する近視野パターン及び遠視野パターンによる照明強度のばらつきの影響を極力少なくする。 - 特許庁

PHOTORESIST FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

近接場露光用フォトレジスト、及びこれを用いた微細パターンの作製方法 - 特許庁

To provide a method that easily performs the exposure transfer of a fine pattern by taking advantage of near-field light.例文帳に追加

近接場光を利用した微細パターンの露光転写を容易に行えるようにする。 - 特許庁

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

近接場露光用マスク及び該マスクを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

The sensor includes a transmission antenna adapted for transmitting an RF field having a quasi-collimated antenna pattern in a near field.例文帳に追加

センサは、近傍界において擬似コリメートアンテナパターンを有するＲＦ信号を送信するようになっている送信アンテナを含む。 - 特許庁

The near field pattern of the optical waveguide element is made to coincide with the near field pattern of the laser by forming the cross section of the incident side end of the core of the optical waveguide element into an oblong which becomes narrow in width as the cross section approaches the end surface.例文帳に追加

光導波路素子のコアの入射側の端部の断面を端面に近づくにつれて幅が狭くなる長方形として、光導波路素子のニアフィールドパターンをレーザのニアフィールドパターンに一致させる。 - 特許庁

PHOTOMASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, METHOD OF FORMING PATTERN BY USING THE PHOTOMASK, AND DEVICE FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

近接場光露光用のフォトマスク、該フォトマスクを用いたパターン作製方法およびパターン作製装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY NEAR-FIELD EXPOSURE, A METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

近接場露光によるレジストパターンの形成方法、及び該レジストパターンの形成方法を用いた基板の加工方法、デバイスの作製方法 - 特許庁