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one atomic layerとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 一原子層
「one atomic layer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 63件
When the surface is exposed to the NH_3, one atomic AlN layer is formed on the substrate 900.例文帳に追加
この時、基板９００上には、ＡｌＮが一原子層形成される。 - 特許庁
To provide an atomic layer (molecular layer) deposition apparatus which can surely separate reaction gases from one another.例文帳に追加
反応ガス同士をより確実に分離することが可能な原子層（分子層）成膜装置を提供する。 - 特許庁
When the substrate 900 is exposed to the NH_3, one atomic GaN layer is formed on the AlN of the substrate 900.例文帳に追加
この時、基板９００のＡｌＮ上には、ＧａＮが一原子層形成される。 - 特許庁
A first layer is made of one and more materials having a small Z/A (atomic number/atomic weight) ratio selectively decreasing electron and proton radiation.例文帳に追加
第１層は、選択的に電子及び陽子放射線を減じる小なるZ/A（原子番号／原子量）比を有する１つ以上の材料からなる。 - 特許庁
A second layer is made of one and more materials having a large Z2/A (the square of an atomic number/atomic weight) ratio selectively decreasing braking radiation.例文帳に追加
第２層は、選択的に制動放射線を減じる大なるZ^2/A（原子番号の二乗／原子量）比を有する１つ以上の材料からなる。 - 特許庁
In the gas barrier film alternately having barrier layers which consist of much more inorganic substance at least, and organic layers much more at least on a plastic plate; at least one layer of the barrier layers is a gas barrier film formed by the atomic layer depositing method (the Atomic Layer Deposition: ALD method).例文帳に追加
プラスチック基板上に、少なくとも一層の無機物からなるバリア層と少なくとも一層の有機層とを交互に有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層の少なくとも一層が原子層デポジッション法（Atomic Layer Deposition：ＡＬＤ法）によって形成されたことを特徴とするガスバリアフィルム。 - 特許庁
To provide a dry etching method removing a solid material composed of plural constituting elements by one atomic layer or by one molecular layer and capable of controlling the order of the atomic layers or the order of the molecular layers, and to provide a device therefor.例文帳に追加
複数の構成元素からなる固体材料を１原子層又は１分子層ずつ除去して、原子層オーダー又は分子層オーダーの制御が可能なドライエッチング方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
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「one atomic layer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 63件
The gas barrier film comprises a transparent thin film layer containing 2 to 64 atomic % of an oxygen, 0.5 to 56 atomic % of a nitrogen, 0.5 to 55 atomic % of a silicon and 5 to 80 atomic % of an aluminum and formed on at least one surface of a plastic film.例文帳に追加
プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、酸素濃度２〜６４原子％、窒素濃度０．５〜５６原子％、珪素濃度０．５〜５５原子％、およびアルミニウム濃度５〜８０原子％からなる透明薄膜層が形成されたガスバリヤー性フィルムである。 - 特許庁
A core 3 is constituted of the laminated structure of a rare earth containing layer 301, containing Er and having a thickness of one atomic layer, for example, and a rare earth not containing layer 302, not containing rare earth element and having a thickness of 4 atomic layers, for example.例文帳に追加
コア３を、Ｅｒを含む例えば膜厚が１原子層の希土類含有層３０１と、希土類元素を含まない例えば膜厚が４原子層の希土類非含有層３０２との積層構造とする。 - 特許庁
The solar cell includes a semiconductor structure coupling body and the atomic layer multilayer structure formed of at least one oxide.例文帳に追加
半導体構造結合体および少なくとも１つの酸化物で形成される原子層多層構造を含む。 - 特許庁
The outermost layer is composed of one kind or more selected from aluminum nitride and aluminum carbonitride, and includes chlorine by 0 to 0.5 atomic % or less in the outermost layer.例文帳に追加
最外層は、窒化アルミニウム、炭窒化アルミニウムから選ばれる1種以上からなり、最外層中に塩素を0超0.5原子％以下含有する。 - 特許庁
As the Al-Si-Fe-based reaction layer, e.g., the one comprising 2 to 4 atomic% Cu is a suitable object.例文帳に追加
前記Ａｌ−Ｓｉ−Ｆｅ系反応層は、例えばＣｕ：２〜４原子％を含有するものが好適な対象となる。 - 特許庁
A third layer is made of one and more materials having a small Z/A (atomic number/ atomic weight) ratio generated from the second layer and decreasing the electron and proton passing through the first and second layers and the photoelectron.例文帳に追加
第３層は、第１及び第２層を通過する電子及び陽子とともに、光電子を減じる比率が前記第２層から発した小なるZ/A（原子番号／原子量）を有する１つ以上の材料からなる。 - 特許庁
The upper layer 35b is composed of a material containing at least one kind of the elements, each of which has a larger atomic weight than that of Si.例文帳に追加
上層３５ｂは、Ｓｉよりも単体の原子量が大きい元素を少なくとも一種類含む材料からなる。 - 特許庁
The atomic spacing of the primer layer or at least one of the primer layers and that of the electrode matches to within about 15%.例文帳に追加
該プライマー層または前記プライマー複数層の少なくとも一層と該電極層の原子間隔は、約１５％以内にマッチする。 - 特許庁
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