optimum measure methodとは 意味・読み方・使い方

To provide an image measuring device, an image measuring method, and a computer program enabling an operator to select the optimum illumination system without a skill, and to measure a desired shape highly accurately.例文帳に追加

操作者が熟練を要することなく最適な照明方式を選択することができ、高い精度で所望の形状を計測することができる画像計測装置、画像計測方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus, method and program for calculating radio wave measuring route for calculating an optimum measurement route to actually measure an area wherein a radio wave is shielded by an obstacle and providing the route to measurer.例文帳に追加

障害物により電波が遮蔽されるエリアを実測するための最適測定ルートを算出して測定者に提供するための電波遮蔽エリア測定ルート算出装置及び方法ならびにプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal projector device which eliminates the need to directly measure the temperature of a liquid crystal panel and can make a display of the optimum picture quality without any influence of temperature variation on the picture quality and a driving method for the liquid crystal projector device.例文帳に追加

液晶パネルの温度を直接測定する必要がなく、温度変化が画質に影響を与えずに最適な画質で表示することができる液晶プロジェクタ装置および液晶プロジェクタ装置の駆動方法を提供すること。 - 特許庁

To carry out the optimum driving assistance to a vehicle driver by comprehensively determining traveling data of the vehicle, environment data at the periphery and behavior data of the driver in a driving assist measure determination method and a driving assist device.例文帳に追加

本発明は、運転支援方策決定方法および運転支援装置に関し、車両の走行データ、周辺の環境データ、及び運転者の行動データを総合的に判断して車両運転者への最適な運転支援を行うことを目的とする。 - 特許庁

To measure the thickness of a recessed area and the thickness of a projected area of a wafer and to securely grind the projected area to an optimum thickness in a processing method of removing only a reverse-side region corresponding to a device formation region by a desired thickness and then removing the projected area of the wafer whose outer circumferential excessive region forms the projected area as a result.例文帳に追加

デバイス形成領域に対応する裏面側の領域のみを所望厚さ除去して、その結果、外周余剰領域が凸部となったウェーハの凸部を除去する加工方法において、凹部の厚さおよび凸部の厚さを測定し、凸部を最適の厚さまで確実に研削する。 - 特許庁

To measure and evaluate before formation of a thin deposition film, behaviors of a weblike plastic film under various conditions in vacuum inside a film testing machine in the weblike plastic film formed thereon with the thin deposition film by a chemical vapor deposition method(CVD) or the like, grasp the optimum film-forming condition based on a measuered result provided by the testing machine, and form the stable thin deposition film.例文帳に追加

化学気相成長法（ＣＶＤ）等により蒸着薄膜を成膜させるウェブ状プラスチックフイルムを薄膜形成前に、フイルム試験機内で真空中の各種条件下でのフイルムの挙動を測定、評価出来るようにし、該フイルム試験機で得られた測定結果を基に成膜の最適条件を把握し、安定した蒸着薄膜を形成させることを可能にすることである。 - 特許庁