overlay errorとは 意味・読み方・使い方

DEVICE AND METHOD FOR DETECTING OVERLAY ERROR USING SCATTERING MEASUREMENT例文帳に追加

散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 - 特許庁

METHOD OF MEASURING OVERLAY ERROR, INSPECTION APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

オーバレイエラーの測定方法、検査装置及びリソグラフィ装置 - 特許庁

Then the overlay correcting value which is used at the time of exposing the semiconductor device in an exposing step is calculated from the overlay error due to the difference between the exposure systems and the overlay error between the patterns formed in the semiconductor device.例文帳に追加

そして、露光装置間の機差で発生する重ね合わせ誤差と半導体装置に形成されているパターンの重ね合わせ誤差から、半導体装置の露光工程の露光処理を行う際の合わせ補正値を算出する。 - 特許庁

In addition, the overlay error between patterns formed in a semiconductor device is calculated from past measured overlay values.例文帳に追加

また、半導体装置に形成されているパターンの重ね合わせ誤差を過去の重ね合わせ測定値から算出する。 - 特許庁

Variation in the asymmetry indicates the presence of an overlay error in layers on the substrate, where overlay targets are printed on subsequent layers.例文帳に追加

非対称性のばらつきが、連続する層上にオーバーレイターゲットがプリントされる基板上の層内に、オーバーレイエラーがあることを示す。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate while positioning it so as to reduce an overlay error generated by the exposure apparatus to be smaller than the first overlay error based on the basis of an output from the position detector of the exposure apparatus which detects the position of the mark, and the estimated first overlay error.例文帳に追加

そして、前記露光装置の前記マークの位置を検出する位置検出器からの出力と推定した第１重ね合わせ誤差とに基づいて、前記露光装置が発生させる重ね合わせ誤差が前記第１重ね合わせ誤差よりも小さくなるように基板を位置決めしながら該基板を露光する。 - 特許庁

Rather than simply averaging the overlay error value for all the pixels, filtering is performed.例文帳に追加

全ピクセルのオーバレイエラー値を単純に平均するのではなく、フィルタリングが実行される。 - 特許庁

Next, an overlay error is calculated using the angular resolution spectrum of the reflected radiation.例文帳に追加

次に、オーバーレイエラーが、反射された放射の角度分解スペクトルを用いて計算される。 - 特許庁