「overlay error」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SEMICONDUCTOR DEVICE FOR MEASURING OVERLAY ERROR, METHOD FOR MEASURING OVERLAY ERROR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

オーバーレイエラーを測定するための半導体デバイス、オーバーレイエラーを測定するための方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR DETECTING OVERLAY ERROR USING SCATTERING MEASUREMENT例文帳に追加

散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 - 特許庁

The first order of diffraction is used to detect an overlay error.例文帳に追加

１次回折次数はオーバーレイエラーを検出するために使用される。 - 特許庁

In addition, the overlay error between patterns formed in a semiconductor device is calculated from past measured overlay values.例文帳に追加

また、半導体装置に形成されているパターンの重ね合わせ誤差を過去の重ね合わせ測定値から算出する。 - 特許庁

To provide a process error measurement method and a process error measuring apparatus that minimize process errors, and an overlay measurement method and an overlay measuring apparatus that utilize them.例文帳に追加

工程エラーを最少化するための工程エラー測定方法及び装置と、これを利用したオーバーレー測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide overlay error measuring method and system for a high electron energy base.例文帳に追加

高電子エネルギベースのオーバーレイ誤差測定方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

To reduce influence of an overlay error caused by heating of a reticle or lens.例文帳に追加

レチクルまたはレンズの加熱によって生じるオーバーレイエラーの影響を小さくする。 - 特許庁

Variation in the asymmetry indicates the presence of an overlay error in layers on the substrate, where overlay targets are printed on subsequent layers.例文帳に追加

非対称性のばらつきが、連続する層上にオーバーレイターゲットがプリントされる基板上の層内に、オーバーレイエラーがあることを示す。 - 特許庁

To provide a method of determining an overlay error between two layers of a multiple layer sample.例文帳に追加

複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus capable of preventing micro-slip of a mask and reducing an overlay error.例文帳に追加

マスクのマイクロスリップを防ぎ、オーバレイ誤差を低減できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING PROCESS ERROR, AND METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING OVERLAY UTILIZING THE SAME例文帳に追加

工程エラー測定方法及び装置とこれを利用したオーバーレー測定方法及び装置 - 特許庁

Rather than simply averaging the overlay error value for all the pixels, filtering is performed.例文帳に追加

全ピクセルのオーバレイエラー値を単純に平均するのではなく、フィルタリングが実行される。 - 特許庁

Next, an overlay error is calculated using the angular resolution spectrum of the reflected radiation.例文帳に追加

次に、オーバーレイエラーが、反射された放射の角度分解スペクトルを用いて計算される。 - 特許庁

To provide a multicolor printing system which minimizes a color overlay registration error due to a periodic belt swing error.例文帳に追加

周期的なベルト揺れ誤差に起因する色重ね見当合わせ誤差を最小化する多色刷り印刷システムを提供する。 - 特許庁

Then the overlay correcting value which is used at the time of exposing the semiconductor device in an exposing step is calculated from the overlay error due to the difference between the exposure systems and the overlay error between the patterns formed in the semiconductor device.例文帳に追加

そして、露光装置間の機差で発生する重ね合わせ誤差と半導体装置に形成されているパターンの重ね合わせ誤差から、半導体装置の露光工程の露光処理を行う際の合わせ補正値を算出する。 - 特許庁

To improve the reliability of the calculation of a double patterning overlay error.例文帳に追加

試験構造を有する基板上のダブルパターニング・オーバレイ誤差の計算の信頼性を改良する。 - 特許庁

OVERLAY REGISTRATION ERROR MEASUREMENT CARRIED OUT FOR MORE THAN TWO SEMICONDUCTOR WAFER LAYERS AT THE SAME TIME例文帳に追加

二つよりも多くの半導体ウェハー層に対して同時になされるオーバーレイ・レジストレーション・エラー測定 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus which improves a focusing error during exposure and/or offset in overlay.例文帳に追加

露光中の合焦誤差及び／又はオーバーレイにおけるオフセットを改善するリソグラフィ装置の提供。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate while positioning it so as to reduce an overlay error generated by the exposure apparatus to be smaller than the first overlay error based on the basis of an output from the position detector of the exposure apparatus which detects the position of the mark, and the estimated first overlay error.例文帳に追加

そして、前記露光装置の前記マークの位置を検出する位置検出器からの出力と推定した第１重ね合わせ誤差とに基づいて、前記露光装置が発生させる重ね合わせ誤差が前記第１重ね合わせ誤差よりも小さくなるように基板を位置決めしながら該基板を露光する。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING ASYMMETRY IN SCATTEROMETER, METHOD OF MEASURING OVERLAY ERROR IN SUBSTRATE AND METROLOGY APPARATUS例文帳に追加

スキャトロメータの非対称性を測定する方法、基板のオーバレイエラーを測定する方法および計測装置 - 特許庁

Overlay error is determined based on comparison of the relative position with reference values from design or simulation.例文帳に追加

相対的位置とデザインまたはシミュレーションからの基準値との比較に基づいてオーバレイ・エラーが決定される。 - 特許庁

These are used for re-construction of an asymmetry parameter of a single lattice or calculation of an overlay error.例文帳に追加

そして、これをオーバーレイエラーの計算、または単一格子の非対称パラメータの再構築に用いる。 - 特許庁

Pixels may be filtered according to the detected value of the overlay error or the detected intensity of the pixel.例文帳に追加

ピクセルは、オーバレイエラーの検出値又はピクセルの検出強度に従ってフィルタリングすることができる。 - 特許庁

A semiconductor device for determining an overlay error on a semiconductor substrate includes a first and a second transistor.例文帳に追加

半導体基板上のオーバーレイエラーを決定するための半導体デバイスは第１および第２のトランジスタを含む。 - 特許庁

To provide an alternative method for calculating overlay error requiring a smaller area of a substrate.例文帳に追加

基板のより小さな面積が必要とされるオーバーレイエラーを算出するための代替的な方法を提供することである。 - 特許庁

The data on the overlay error obtained as the measuring result are transferred to a software program, wherein the contribution of the lens is obtained with respect to the error-in-the-field map of the photolithographic projection scanning system.例文帳に追加

次に、結果として得たオーバーレイ誤差データはソフトウェアプログラムに転送され、フォトリソグラフィ投影走査システムのフィールド内誤差マップに対するレンズ寄与を生成する。 - 特許庁

For this reason, the method can be used in order to reduce the overlay error resulting from a certain kind of positioning error, without the sacrifice of machine modification and/or a throughput.例文帳に追加

それで、この発明の方法を、ある種の位置決め誤差から生じるオーバレイ誤差を機械改造および／またはスループットの犠牲なしに減少するために使うことができる。 - 特許庁

An error calculation unit 240 calculates the overlay errors for the plurality of semiconductor chips 12 on the basis of the coordinates of the plurality of semiconductor chips 12 within the surface of the semiconductor wafer 10 and the overlay errors stored in the error storage unit 230.例文帳に追加

誤差算出部２４０は、半導体ウェハ１０の面内における複数の半導体チップ１２の座標、及び誤差記憶部２３０が記憶している重ね合わせ誤差に基づいて、複数の半導体チップ１２別に重ね合わせ誤差を算出する。 - 特許庁

To provide a self-alignment technique capable of forming a fine pattern regardless of the overlay error between first and second exposure masks.例文帳に追加

第１の露光マスクと第２の露光マスクのオーバーレイ誤差によらず、微細なパターンを形成できる自己整合技術を提供する。 - 特許庁

To solve a problem of an overlay error by substrate cooling action connected with the vaporization of high refractive index liquid which exists on a substrate.例文帳に追加

基板上に存在する高屈折率液体の気化にまつわる基板冷却作用によってオーバレイ誤差が引き起こされる。 - 特許庁

The overlay error between exposure systems due to the difference between the systems is calculated by eliminating the influence of the difference between the systems from the previously acquired performance information of the systems or past measured overlay values.例文帳に追加

露光装置間の機差による重ね合わせ誤差を、予め取得した露光装置の性能情報または過去の重ね合わせ測定値から露光装置間の機差の影響を取り除くことにより算出する。 - 特許庁

An overlay error between the first and second structures is determined by analyzing the measured optical signals from the periodic targets using a scatterometry overlay technique based on the predefined offsets.例文帳に追加

散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。 - 特許庁

An overlay error is determined between the first and second structures by analyzing the measured optical signals from the periodic targets using a scatterometry overlay technique and based on the predefined offsets.例文帳に追加

散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。 - 特許庁

The specific position is based on an arrangement position to minimize an overlay error or based on an arrangement position to minimize deformation of the substrate.例文帳に追加

特定の位置は、オーバレイ誤差が最小になるような配置の位置に基づくか、基板の変形が最小になるような配置の位置に基づく。 - 特許庁

To provide a method for reducing an overlay error between devices on the front side and that on the back side of a substrate, in the case of manufacturing the devices on both sides of the substrate, without a severe request on an absolute positioning error.例文帳に追加

基板の両面にデバイスを製造する場合、絶対位置決め誤差に厳しい要求することなく、基板の表側のデバイスと裏側のそれとのオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

To accurately measure overlay error for patterns, by removing the influence of asymmetry of pattern steps, using simple processes using asymmetry matching.例文帳に追加

対称性マッチング法を用い、簡単な処理でパターンの段差の非対称性の影響を除去して、パターンの重ね合わせ誤差を精度良く測定する。 - 特許庁

An error storage unit 230 stores overlay errors measured at multiple points within the surface of a semiconductor wafer 10 to be cut into a plurality of semiconductor chips 12.例文帳に追加

誤差記憶部２３０は、複数の半導体チップ１２が切り出される半導体ウェハ１０の面内の複数点で測定された重ね合わせ誤差を記憶する。 - 特許庁

The first and second directions are orthogonal to each other, thus eliminating crosstalk between the directions and improving the accuracy of overlay error calculations.例文帳に追加

第１方向及び第２方向は直交しているので、両方向間でのクロストークがなくなるとともに、オーバーレイエラーの算出精度が向上する。 - 特許庁

The first and second gate each have a non-uniform shape, and the second gate is oriented with respect to an orientation of the first gate in such a way that an effect of an overlay error on a device parameter of the second transistor has an opposite sign in comparison to an effect of the overlay error on a corresponding device parameter of the first transistor.例文帳に追加

第１および第２のゲートはそれぞれ不同形状を有し、そして、第２のゲートは、第２のトランジスタのデバイスパラメータに対するオーバーレイエラーの影響が、第１のトランジスタのデバイスパラメータに対するオーバーレイエラーの影響に比較して逆の符号を有する形で第１のゲートの向きに対して配向されている。 - 特許庁

A first overlay error generated by the exposure apparatus is estimated based on the first evaluation value, a second evaluation value obtained by evaluating an electrical signal in a position detector of the another exposure apparatus in accordance with the evaluation criterion, and a second overlay error generated by the other exposure apparatus.例文帳に追加

そして、前記第１評価値と、他の露光装置の位置検出器における電気信号を前記評価基準に従って評価して得られた第２評価値と、前記他の露光装置が発生させる第２重ね合わせ誤差とに基づいて、前記露光装置が発生させる第１重ね合わせ誤差を推定する。 - 特許庁

The methods of the invention produce micro- structures with more accurate cavity areas by minimizing overlay error and avoiding the need for lithography over extreme topography.例文帳に追加

本発明の方法は、重ね合わせ誤差を最小化し、極端なトポグラフィの上へのリソグラフィの必要性を回避することにより、精確なくぼみ領域を有する微細構造を製造する。 - 特許庁

Then, if this is a false overlay error calculation of magnitude greater than the bias but smaller than the pitch of the diffraction grating, then, the 0-th order of diffraction is used to flag.例文帳に追加

その後、これがバイアスより大きくしかし回折格子のピッチより小さい大きさの誤ったオーバーレイエラー計算である場合、フラグを立てるために０次回折次数が使用される。 - 特許庁

To provide a method of correcting the distortion of a pattern image projected in an imaging process and decreasing an overlay error, when the pattern is overlaid on a substrate by a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置によって基板上にパターン形成を重ねる場合に、投影するパターン像の歪みを結像プロセス中に修正してオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

In the calibration of overlay property, position error data of a first set is obtained by carrying out the exposure of a first substrate (S1) during a first test exposure sequence using a test structure of the first set and measuring the test structure (S2).例文帳に追加

オーバレイ特性のキャリブレーションにおいて、第１基板を、第１セットのテスト構造を用いて第１テスト露光シーケンスの露光（Ｓ１）しテスト構造を測定（Ｓ２）して第１セットの位置誤差データを得る。 - 特許庁

Duet to the present invention, the distortion of a wafer grid produced by the non-flatness during the period of alignment and exposure can be corrected by feed-forward and thus an overlay error caused by the difference in the flatness characteristic can be reduced.例文帳に追加

本発明によって、位置合わせおよび露光中に非平坦度によって生じたウェハグリッドの歪みをフィードフォワード補正し、平坦度特徴の違いが引き起こすオーバレイエラーを軽減することができる。 - 特許庁