oxygen defectsとは 意味・読み方・使い方

When a sample in which defects are formed as precipitation of oxygen by heat treatment is etched by anisotropic etching at a high selectivity ratio against SiO2, conical projections having the defects as precipitation of oxygen on their tops are formed as etching residues.例文帳に追加

酸素析出欠陥等の結晶欠陥に対して選択比の大きい条件で異方性エッチングを行い、Secco液等によるエッチングでは検出できない微小な欠陥を精度良くかつ簡単に検出する。 - 特許庁

When the insulation film includes a region containing oxygen more than a stoichiometric composition ratio, oxygen is supplied to the oxide semiconductor film and oxygen defects in the oxide semiconductor film are reduced.例文帳に追加

さらに該絶縁膜が、化学量論的組成比より酸素が多い領域を含むことにより、酸化物半導体膜に酸素を供給し、酸化物半導体膜中の酸素欠陥を低減する。 - 特許庁

The crystal lattice defects are formed by implanting ions of hydrogen, oxygen, tantalum, sodium or potassium.例文帳に追加

結晶格子欠陥は、水素イオン、リチウムイオン、酸素イオン、タンタルイオン、ナトリウムイオンまたはカリウムイオンの注入により形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a semiconductor layer in which oxygen-vacancy defects are formed.例文帳に追加

酸素・空孔欠陥が形成された半導体層を有する半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This way, defects caused by oxygen vacancy (defects of generating excessive electron donors) in the oxide semiconductor film 14, in the insulation films 12 and 18, or in the interface therebetween can be controlled.例文帳に追加

酸化物半導体膜１４や絶縁膜１２，１８、あるいはこれらの界面における酸素空孔起因の欠陥（過剰電子ドナーを生成する欠陥）を制御できる。 - 特許庁

To provide novel fluorine-added quartz glass in which a decrease in ultraviolet light transmittance due to oxygen deficiency defects is improved.例文帳に追加

酸素欠乏欠陥による紫外光透過性の低下等が改善された新規なフッ素添加石英ガラスを提供する。 - 特許庁

To provide a new method for producing quartz glass in which the deterioration or the like of light transmissivity due to oxygen deficiency defects is improved.例文帳に追加

酸素欠乏欠陥による光透過性の低下等が改善された石英ガラスを製造し得る新規な方法を提供する。 - 特許庁

That is, by using a substance suppressing or preventing permeation of oxygen as the protective material, movement of oxygen to the surface of the substrate 10 through the defects 21 is suppressed or prevented.例文帳に追加

すなわち、保護材として酸素の透過を抑制または防止する性質の物質を用い、欠陥２１を通じた基材１０の表面への酸素の移動を抑制または防止する。 - 特許庁