oxygen precipitationとは 意味・読み方・使い方

To provide a processing method of wafer for making a silicon wafer having a precipitation of oxygen density optimal for a device by controlling increase/decrease in precipitation of oxygen density even in a low temperature process.例文帳に追加

低温プロセスにおいても酸素析出物密度の増大／減少を制御し、デバイスにとって最適の酸素析出密度を持つシリコンウェーハを作成するウェーハ処理方法を提供する。 - 特許庁

When a sample in which defects are formed as precipitation of oxygen by heat treatment is etched by anisotropic etching at a high selectivity ratio against SiO2, conical projections having the defects as precipitation of oxygen on their tops are formed as etching residues.例文帳に追加

酸素析出欠陥等の結晶欠陥に対して選択比の大きい条件で異方性エッチングを行い、Secco液等によるエッチングでは検出できない微小な欠陥を精度良くかつ簡単に検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial wafer in which oxygen precipitation occurs uniformly in the substrate surface and the epitaxial layer has excellent crystal quality.例文帳に追加

酸素析出が基板面内で均一に発生し、エピ層の結晶品質に優れたエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

A silicon wafer 1 includes an oxygen precipitate layer 4, the depth of the DZ layer 5 from the surface of the wafer to the oxygen precipitate layer 4 is 2 to 10 μm and the oxygen precipitation density of the oxygen precipitate layer 4 is 5×10^7precipitates/cm^3 or more.例文帳に追加

酸素析出物層４を有するシリコンウェーハ１であって、該ウェーハの表面から酸素析出物層４に至るまでのＤＺ層５の深さを２〜10μｍ、かつ該酸素析出物層４の酸素析出物密度を５×10^７個／cm^３以上とする。 - 特許庁

To execute an adequate dissolved oxygen control by precisely measuring the quantity of the dissolved oxygen within an aeration tank, and to prevent the destruction of precipitation of a floc by overaeration.例文帳に追加

エアレーションタンク内の溶存酸素量をより適切に測定し、より適切な溶存酸素制御を遂行すると共に、過曝気による沈降性フロックの破壊を防止する。 - 特許庁

Thereby, the oxygen in the surface layer of the wafer is diffused from the wafer surface to the outside, the oxygen- precipitation core is stabilized (more than a critical core), and the DZ layer is produced.例文帳に追加

よってウェーハ表層の酸素がウェーハ表面から外方拡散され、酸素析出核が安定化（臨界核以上）し、ＤＺ層１１が現出する。 - 特許庁

To provide an excellent oxygen occluding material which can be obtained by forming a co-precipitation material from cerium and at least one second metal M^1, finally drying and calcining the co-precipitation material to form an oxide particle mixture (a Ce/M^1 oxide particle mixture) from cerium and the second metal M^1.例文帳に追加

セリウムと少なくとももう１種の金属Ｍ^１とから共沈物を形成し、最終的に共沈物を乾燥及びか焼し、セリウムと他の金属Ｍ^１とから混合酸化物粒子（Ｃｅ／Ｍ^１混合酸化物粒子）を形成することにより得られる優れた酸素吸蔵材料を提供する。 - 特許庁

To provide a Czochralski single crystal silicon wafer, in which oxygen clusters and precipitates have been dissolved and its manufacturing method, and to provide such a wafer which will not form oxygen precipitates or clusters upon being subjected to an oxygen precipitation heat treatment.例文帳に追加

酸素クラスターおよび酸素析出物が溶解されているチョクラルスキー単結晶シリコンウエハならびにその製造方法を提供すること；および酸素析出熱処理に供されたときに酸素析出物または酸素クラスターが形成されないそのようなウエハを提供すること。 - 特許庁