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pattern defectsとは 意味・読み方・使い方
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「pattern defects」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 578件
METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERN DEFECTS例文帳に追加
パターン欠陥検査方法及びその装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERN DEFECTS例文帳に追加
パターン欠陥検査方法およびその装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING PATTERN DEFECTS例文帳に追加
パターン欠陥検査方法および検査装置 - 特許庁
INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR PATTERN DEFECTS例文帳に追加
パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置 - 特許庁
To suppress the shape defects of a pattern that is formed with a resist pattern as a mask.例文帳に追加
レジストパターンをマスクにして形成されるパターンの形状不良を抑制すること。 - 特許庁
A pattern imprinted on a substrate to be processed is inspected for defects to generate image data containing the defects.例文帳に追加
被処理基板上に転写されたパターンの欠陥検査を行い、欠陥の画像データを生成する。 - 特許庁
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「pattern defects」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 578件
To diminish defects in a pattern of a photosensitive material due to dust etc.例文帳に追加
塵埃等による感光性材料のパターン欠陥を低減する。 - 特許庁
To form a pattern having less scum and fewer water mark defects.例文帳に追加
スカム及びウォーターマーク欠陥が少ないパターンの形成を可能とする。 - 特許庁
To form a proper quality resist pattern on a wafer without causing defects.例文帳に追加
欠陥を含まない品質の良いレジストパターンをウエーハに形成する。 - 特許庁
A CBED pattern is disturbed by lattice defects inside the illuminated area.発音を聞く 例文帳に追加
CBED図形は、照射領域内部の格子欠陥によって乱される。 - 科学技術論文動詞集
To provide a pattern formation method capable of suppressing the generation of pattern defects when forming a pattern on a substrate.例文帳に追加
基板上にパターンを形成する際におけるパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
METHOD FOR REPAIRING DEFECTS OF PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
パターン欠陥の補修方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁
To provide a photomask in which production of pseudo defects during inspection of pattern defects is prevented to carry out inspection with high reliability, and to provide a method for detecting pattern defects in the photomask and a method for forming a pattern by using the same.例文帳に追加
パターン欠陥検査時の擬似欠陥の発生を防止して高い信頼性の検査を行うことができるフォトマスク、そのパターン欠陥検出方法及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a photomask in which pattern defects arising from defects of a photomask blank are preferably reduced.例文帳に追加
フォトマスクブランクの欠陥に由来するパターン欠陥を好適に低減させたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
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