「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To suppress the shape defects of a pattern that is formed with a resist pattern as a mask.例文帳に追加

レジストパターンをマスクにして形成されるパターンの形状不良を抑制すること。 - 特許庁

A pattern imprinted on a substrate to be processed is inspected for defects to generate image data containing the defects.例文帳に追加

被処理基板上に転写されたパターンの欠陥検査を行い、欠陥の画像データを生成する。 - 特許庁

To diminish defects in a pattern of a photosensitive material due to dust etc.例文帳に追加

塵埃等による感光性材料のパターン欠陥を低減する。 - 特許庁

To form a pattern having less scum and fewer water mark defects.例文帳に追加

スカム及びウォーターマーク欠陥が少ないパターンの形成を可能とする。 - 特許庁

To form a proper quality resist pattern on a wafer without causing defects.例文帳に追加

欠陥を含まない品質の良いレジストパターンをウエーハに形成する。 - 特許庁

A CBED pattern is disturbed by lattice defects inside the illuminated area. 例文帳に追加

CBED図形は、照射領域内部の格子欠陥によって乱される。 - 科学技術論文動詞集

To provide a pattern formation method capable of suppressing the generation of pattern defects when forming a pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上にパターンを形成する際におけるパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR REPAIRING DEFECTS OF PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

パターン欠陥の補修方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

To provide a photomask in which production of pseudo defects during inspection of pattern defects is prevented to carry out inspection with high reliability, and to provide a method for detecting pattern defects in the photomask and a method for forming a pattern by using the same.例文帳に追加

パターン欠陥検査時の擬似欠陥の発生を防止して高い信頼性の検査を行うことができるフォトマスク、そのパターン欠陥検出方法及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask in which pattern defects arising from defects of a photomask blank are preferably reduced.例文帳に追加

フォトマスクブランクの欠陥に由来するパターン欠陥を好適に低減させたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To reliably inspect defects generated in a repetition pattern in a short time.例文帳に追加

繰り返しパターンに生じた欠陥を、短時間で、信頼性よく検査する。 - 特許庁

To provide a substrate with a light shielding film hardly causing defects such as pattern deflects.例文帳に追加

パターン欠け等の欠陥が発生しにくい遮光膜付き基板を得る。 - 特許庁

The resist pattern 15 is inspected to detect defects.例文帳に追加

その後にレジストパターン１５の検査を行いレジストパターン欠陥の有無を検出する。 - 特許庁

The generated shape group is compared with an actual pattern to detect defects.例文帳に追加

作成された形状群と実パターンの比較により欠陥を検出する。 - 特許庁

INSPECTION SUBSTRATE AND INSPECTION METHOD OF DEFECTS OF TRANSFER PATTERN例文帳に追加

転写パターンの欠陥検査用基板及び転写パターンの欠陥検査方法 - 特許庁

As a result, possibility of defects existing on the same positions in pattern regions on the different masks can be practically avoided, so that a mask pattern image which is deteriorated by defects is overlapped with a mask pattern image which has no defects, and restoration of the mask pattern image becomes possible.例文帳に追加

この結果、異なったマスク上のパターン領域の同一位置に欠陥がある可能性はほとんど回避されるため、欠陥によって劣化したマスクパターン像には、欠陥の無いマスクパターン像が重ね合わされることとなり、その修復が可能となる。 - 特許庁

To provide a lost pattern casting method by which a casting having an excellent quality without developing residual defects and burnt defects can be obtained.例文帳に追加

残渣欠陥及び焼着欠陥のない優れた品質の鋳物が得られる消失模型鋳造法を提供する。 - 特許庁

To provide an auxiliary agent for forming a fine pattern having preferable filtering property and excellent in avoiding coating defects, development defects and stability over time.例文帳に追加

ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition useful to form a fine pattern in semiconductor manufacturing and remarkably reducing pattern collapse, development defects, liquid immersion defects (residual water defects, bubble defects) and scum, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

半導体製造における微細なパターン形成に有用な、パターン倒れ、現像欠陥、液浸欠陥（水残り欠陥、バブル欠陥）、スカムを著しく低減できる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To securely detect pattern-formed scabby defects without having remarkable projection and recession shape.例文帳に追加

顕著な凹凸性を持たない模様状ヘゲ欠陥を確実に検出する。 - 特許庁

To prevent shape defects of a pattern by improving the adhesiveness of a resist pattern with a film to be treated.例文帳に追加

レジストパターンの被処理膜との密着性を向上して、パターンの形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a small number of development defects, and to provide a resist composition.例文帳に追加

現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法及びレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a foreign object and pattern defect inspecting apparatus which is capable of easily discriminating the types of foreign objects and pattern defects.例文帳に追加

異物や欠陥の種類を容易に区別することができる異物及びパターン欠陥検査装置を得る。 - 特許庁

To reduce defects in a resist pattern when reducing the size of the resist pattern by using the RELACS technology.例文帳に追加

ＲＥＬＡＣＳ技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する際に、レジストパターンの欠陥を低減する。 - 特許庁

To increase a repair execution rate of, in particular, open defects occurring in a first wiring layer and short defects occurring in a second wiring layer among various defects occurring in a circuit pattern.例文帳に追加

回路パターンに生じる種々のパターン欠陥のうち、特に、第一の配線層に生じるオープン欠陥や第二の配線層に生じるショート欠陥のリペア実施率を上げる。 - 特許庁

To accurately detect defects without executing special processing when detecting defects in the outermost part, particularly, of a periodic pattern.例文帳に追加

特に周期的パターンの最外部における欠陥の検出に際し、特別な処理をすることなく、欠陥を正確に検出する。 - 特許庁

To prevent pattern defects when extreme ultraviolet rays are used as exposure light.例文帳に追加

露光光に極紫外線を用いた場合のパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a nano imprint type pattern forming method which suppresses generation of defects.例文帳に追加

欠陥の発生を抑制したナノインプリント方式のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To quantify fatal defects accurately to control manufacturing process by analyzing foreign substances and pattern defects found in an electronic device forming a circuit pattern.例文帳に追加

回路パターンを形成する電子デバイスに発生する異物やパターン欠陥の解析を行い，欠陥の致命性を精度よく定量化し，製造工程の管理を行う。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprint being excellent in pattern formability regardless of an atmosphere in which a pattern is formed and also having fewer pattern defects.例文帳に追加

パターンを形成する雰囲気にかかわらず、パターン形成性に優れ、かつ、パターンの欠陥が少ないインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device and a pattern inspection method capable of detecting finer defects and at a higher speed.例文帳に追加

より微細な欠陥をより高速に検出することができるパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

By comparing a signal intensity pattern extracted from the CCD 26 to a reference pattern, undulations and recess defects are detected.例文帳に追加

ＴＤＩラインＣＣＤ２６から得られた信号強度パターンを標準パターンと比較し、うねりや凹欠陥を検知する。 - 特許庁

To provide a pattern plate and a producing method of the pattern plate free from the generation of defects.例文帳に追加

パターンに欠陥が生じることがないパターン板を製造するパターン板の製造方法およびパターン板を提供する。 - 特許庁

To provide an additive for a lost pattern by which, the defects of residue can sufficiently in the use of a lost pattern be solved.例文帳に追加

消失模型を用いた場合に、残渣欠陥を十分に解消できる消失模型用添加剤を提供する。 - 特許庁

To prevent pattern defects from occurring in extreme ultraviolet light exposure and to form a fine pattern having a good shape.例文帳に追加

極紫外線露光におけるパターン不良を防止して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁

To form metal-containing patterns free of pattern defects, such as loss of shoulders and remaining without being etched.例文帳に追加

肩落ちやエッチング残り等のパターン欠陥のない金属含有パターンを形成する。 - 特許庁

To accurately form a fine thin film pattern without causing defects.例文帳に追加

欠陥を発生させることなく、微細な薄膜パターンを精度よく形成することを可能にする。 - 特許庁

To provide an inorganic material paste by which a pattern without defects and having high reliability can be formed.例文帳に追加

欠陥がなく、高信頼性なパターンを作成できる無機材料ペーストを提供する。 - 特許庁

In the wiring pattern inspection method, electromagnetic waves are irradiated to a wiring pattern, and the presence or absence of defects of the wiring pattern is detected, on the basis of the amount of transmission of the electromagnetic waves.例文帳に追加

配線パターンに電磁波を照射し、該電磁波の透過量から前記配線パターンの欠陥の有無を検知する配線パターンの検査方法である。 - 特許庁

To detect minute defects with improved sensitivity by preventing pseudo-defects from occurring because of minute variations of a pattern to be inspected for a method of inspecting defects for comparing inspection and reference patterns.例文帳に追加

検査パターンと参照パターンとの比較を行う欠陥検査法に関し、検査対象パターンの微小な変動による擬似欠陥の発生を防ぎ、微小な欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

Then, when the metal lamination film 20 is etched by the hard mask 17, a metal wiring pattern 19 having few pattern defects can be obtained.例文帳に追加

その後、ハードマスク１７を用いてメタル積層膜２０をエッチングすると、パターン欠陥の少ないメタル配線パターン１９が得られる。 - 特許庁

To prevent variations in pattern forming positions and pattern sizes from affecting detection precision of defects even if those variations are present.例文帳に追加

パターンの形成位置や大きさにばらつきがあっても、そのばらつきが欠陥の検出精度に影響を及ぼさないようにする。 - 特許庁

Since polarization change is reacted with sensitivity with a fine pattern, circuit pattern defects can be detected at a high S/N ratio.例文帳に追加

偏光の変化が微細なパターンに敏感に反応するので、高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる。 - 特許庁

To provide an evaporative pattern casting process where the parts at which defects are easy to be generated are sucked, so as to produce a casting free from defects.例文帳に追加

不良の発生しやすい箇所を吸引して欠陥のない鋳物を製造することができる消失模型鋳造法を提供する。 - 特許庁

The 1st pattern data are so corrected that when defects generated at the corner parts of the pattern when the 1st pattern data are used do not occur and then 2nd pattern data corresponding to the 1st pattern data are generated.例文帳に追加

そして、かかる第一パターンデータを用いたときにパターンの角部に発生する欠陥が生じないように第一パターンデータを補正することにより、当該第一パターンデータに対応する第二パターンデータを作成する。 - 特許庁