「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a pattern in which random crystal grain boundary or defects are decreased so as to obtain a recording medium which uses fine particles and to obtain a method for manufacturing the recording medium.例文帳に追加

微粒子を用いた記録媒体および記録媒体の製造を第１の目的とした、ランダムな結晶粒界や、欠陥を低減させることが可能なパターンの形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a resist material having good appliability, suppressing the generation of micro-bubbles in a solution and less liable to cause various defects that cause the lowering of yield in a device process and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

塗布性が良好で、溶液でのマイクロバブルの発生を抑え、しかもデバイス工程での歩留まり低下を引き起こす各種欠陥の発生が少ない、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect detecting device, a defect detecting method, and a computer program capable of correctly detecting defects such as dirt, flaw, and contamination, even when there is a uniformly continued background pattern.例文帳に追加

一様に連続している背景模様が存在する場合であっても、ゴミ、傷、汚れ等の欠陥を正しく検出することができる欠陥検出装置、欠陥検出方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

Logical sum of the defect map and mask data is then operated (ST15) and compared and then a decision is made whether a thin film having defects along the defect map can be utilized or not for a pattern along the mask data (ST16).例文帳に追加

次に、欠陥マップとマスクデータとろ論理和を演算処理して（ＳＴ１５）比較し、欠陥マップに沿った欠陥を有する薄膜がマスクデータに沿ったパターンに対して利用可能か判定する（ＳＴ１６）。 - 特許庁

To provide an overlay vernier of a semiconductor element that not only prevents pattern defects due to a level difference thereof caused when carrying out the exposure for forming a sub vernier but also accurately measures the alignment degree thereof.例文帳に追加

子バーニアを形成するための露光工程時に段差によるパターン不良が生じるのを防止し、整列度を正確に測定できる半導体素子のオーバーレイバーニアとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the generation of particles to be the cause of fine pattern formation defects and to improve the yield of a semiconductor device without lowering productivity when forming a high density plasma CVD film.例文帳に追加

高密度プラズマＣＶＤ膜を形成する際に、生産性を低下させることなく、微細パターン形成不良の原因となるパーティクルの発生を抑制し、半導体デバイスの歩留りを向上する。 - 特許庁

To improve surface roughness (Ra) of a flat part of a mold made of resin used for a nano imprinting method and to reduce defects of formation of a pattern of a magnetic recording medium so as to enhance the productivity.例文帳に追加

ナノインプリント法に用いられる樹脂製モールドの平坦部の表面粗さ（Ｒａ）を改善し、磁気記録媒体のパターンの形成不良を低減し、生産性を向上させることができるようにする。 - 特許庁

To reduce shape defects at an end of a portion corresponding to the teeth pattern of an interdigital pixel electrode in a method for manufacturing a liquid crystal display device for forming an interdigital pixel electrode by use of maskless exposure.例文帳に追加

マスクレス露光を利用して櫛歯形状の画素電極を形成する液晶表示装置の製造方法において、当該画素電極の歯に相当する部分の端の形状不良を低減する。 - 特許庁

To provide an optoelectronic device capable of suppressing the lowering of display quality while preventing defects and degradation by preventing the occurrence of discharge in the vicinity of the outer peripheral part of an electrode pattern and its manufacturing method.例文帳に追加

電極パターンの外縁部近傍の放電を防止することによって、欠陥や劣化を防止し、表示品位の低下を抑制することのできる電気光学装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved by overcoming the problem of development defects, provided with a superior in-plane uniformity of line width, and also superior in LWR performance, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that is excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, and DOF, as well as a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To surely detect defects by surely equalizing an image quality condition of an image to be inspected and a reference image as pre-conditioning a pattern inspection through comparison of the image to be inspected which is a multi-valued image with the reference image.例文帳に追加

多値画像である被検査画像と参照画像との比較によるパターン検査の前処理として両画像の画質条件を確実に等しくすることにより確実に欠陥を検出する。 - 特許庁

To eliminate difference in the positional relation between a mounted layer and a substrate caused by a pattern shape of an inspected wafer and a shift in its order, so as to prevent pseudo-defects from being generated.例文帳に追加

検査すべきウエハのパターン形状、目ズレによる上地、下地の位置関係の差をなくし、疑似欠陥を発生させないようにしたウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of occurrence of film defects even in the case of a thick film, excellent in heat resistance, mechanical characteristics, workability and electrical properties, and capable of forming a high resolution circuit pattern.例文帳に追加

厚膜でも塗膜欠陥が発生せず、耐熱性、機械特性、加工性および電気特性に優れ、かつ高解像回路パターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Thereafter, the image processing means 12 images the transmitted light from the illumination emission part 8 by the line sensor camera 1, and processes the taken image to determine the pattern of the inspection area and defects of the peripheral part.例文帳に追加

その後、画像処理手段１２は、ラインセンサカメラ１で照明発光部８からの透過光を撮像し、撮像した画像を処理して当該検査エリアのパターンと周辺部の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transpar ency to a radiation, ensuring few development defects and excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に現像欠陥が極めて少なく、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical substrate manufacturing method capable of molding a core part and an external pattern at high positional accuracy as to a manufacturing method for molding a core part by using a molding die in which a core pattern formation part is formed and filling the core pattern part of the molding die with a core material in consideration of defects in conventional technology.例文帳に追加

本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑みてなされたもので、コアパターン形成部を形成した成形型を用い、この成形型のコアパターン部にコア材を充填してコア部を成形する製造方法で、コア部の成形と外形の成形を位置精度よく行うことが可能な光基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This inhibiting method comprises: providing a semiconductor having a conductive pattern for conductive busbars and current collecting lines and a dielectric layer coating spaces between the conductive pattern on a front side of the semiconductor, the dielectric layer including one or more defects; contacting at least the dielectric layer with one or more oxidizing agents; and selectively depositing a metal layer on the conductive pattern.例文帳に追加

導電母線および集電ラインのための導電パターンと、半導体の前面上の導電パターンの間のスペースを覆う誘電層とを有し、当該誘電層が１以上の欠陥を含有する半導体において、少なくとも誘電層を１種以上の酸化剤と接触させ、並びに、導電パターン上に金属層を選択的に堆積させる。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which can suppress planar shape degradation due to coating and can form a colored film with few defects, to provide a colored pattern having an excellent plane shape and few defects by using the colored curable composition, and to provide a color filter, a manufacturing method of the color filter, and a liquid crystal display element.例文帳に追加

塗布に起因する面状劣化を抑制し、且つ、欠陥の少ない着色膜を形成し得る着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いてなる、面状が良好で、且つ、欠陥の少ない着色パターン、カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

Or the detection of the untrue defects can be suppressed and the pattern can be rapidly inspected by setting the selected area to reference data by using a conversion part, reading a predetermined threshold corresponding to inspection accuracy of each area and determining and detecting the defects.例文帳に追加

また、本発明によれば、変換部で基準データに選択エリアを設定し、欠陥判定部でアルゴリズムを用いて、各エリアの検査精度に応じた所定のしきい値を読み出し、欠陥の判定、検出を行うことにより、擬似欠陥の検出を抑制しつつ、かつ迅速なパターン検査をすることが可能である。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which resolves on a vertical sidewall in forming a contact hole pattern, ensures enhanced EDW, improves side lobe resistance, and reduced the number of Blob defects, as well as a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and can suppress crystal deposition of a photopolymerization initiator.例文帳に追加

カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、光重合開始剤の結晶析出を抑制しうる着色感光性組成物を得ること。 - 特許庁

To provide a plasma display panel that enables formation of a light- shielding pattern between the display electrodes uniformly and without causing defects or the like to be generated, in the process of forming the light-shielding pattern (black stripe) and enables to make a high quality display, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

遮光パターン（ブラックストライプ）を形成する工程で、均一でかつ欠陥等を発生させることなく表示電極間に遮光パターンを形成することを可能とし、高品位な表示を可能とするプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board of which patterning accuracy is never lowered and which hardly causes pattern defects even if a pattern pitch becomes very small, and which allows the reduction in size of manufacturing facilities relatively easily and can make the lead time relatively short.例文帳に追加

フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can attain high sensitivity, a favorable pattern shape, favorable roughness characteristics and reduction of residue defects, and to provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, with which a pattern having good corner proximity and fewer developing defects can be formed, and which causes little elution of an acid into an immersion liquid and shows proper properties to the immersion liquid, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used, when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, which is superior in resist profile, sensitivity, resolution and line edge roughness, and which is free from pattern collapse and of the problems of development defects, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、レジスト形状、感度、解像力、ラインエッジラフネスが優れるとともに、パターン倒れのなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition and a resist pattern forming method capable of suppressing the occurrence of development defects at an unexposed part while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure and hydrophilicity during developing on a resist-coated surface and maintaining excellence in the resulting pattern shape.例文帳に追加

レジスト被膜表面における液浸露光時の疎水性と現像時の親水性とを確保し、かつ得られるパターン形状の良好性を保持しつつ、未露光部における現像欠陥の発生を抑制できる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition which prevents occurrence of defects in a resist pattern in an imprint lithography process and can improve the durability of a mold, a method for forming a resist pattern using the same, a method of fabricating an array substrate using the same, and an array substrate fabricated using the same.例文帳に追加

インプリントリソグラフィ工程でレジストパターンの不良を防止して、モールドの寿命を向上させることができるレジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To automatically divide an exposure mask into regions without requiring manual work of a worker by extracting and classifying a characteristic part of the mask pattern in the process of inspecting pattern defects in the exposure mask, and to improve inspection efficiency and its reliability or the like.例文帳に追加

露光用マスクにおけるパターン欠陥を検査するのにあたり、マスクパターンの特徴部分を抽出分類することで、作業者の手作業を要することなく自動的にその露光用マスク上を領域分割し得るようにし、これにより検査効率やその信頼性の向上等が図れるようにする。 - 特許庁

Especially, in the case of a pattern on which an electrode is divided at its center, occurrence of defects such as a pinhole of a dielectric layer in the vicinity of the part where the electrode is divided, residues of the barrier material, rupture of the electrode and the like can be prevented.例文帳に追加

特に、電極が中央で分割されているパターンの場合、電極分割部付近における誘電体層のピンホール、障壁材料の残渣、電極の断線等の欠陥の発生を防止することができる。 - 特許庁

For example, when three defects 5a, 5b and 5c are detected by the defect inspection, only the defect 5a which has influence on the circuit pattern in the DSA region 8 out of them is sorted out.例文帳に追加

例えば欠陥検査で３つの欠陥５ａ，５ｂ，５ｃが検出されている場合には、それらの中からＤＳＡ領域８内の配線パターンに影響を及ぼす欠陥５ａのみを選別することが可能になる。 - 特許庁

To correct failures and defects of a thermohardening type or photo-hardening type transferred rough pattern caused when peeling off from an original in the nano imprint lithography and reduce the failures of device of a wafer after dry etching.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィで原版から引き剥がすときなどに発生する転写された熱硬化型もしくは光硬化型の凹凸パターンの欠損欠陥を修正し、ドライエッチング後のウェーハのデバイス不良を低減する。 - 特許庁

To provide a projector type headlight capable of obtaining a stable overhead light distribution pattern in a simple structure, by eliminating a second reflecting face that used to cause defects in the past.例文帳に追加

本発明は、従来の欠点を引き起こす原因となっていた第２反射面を無くすことにより、簡単な構成で安定したオーバーヘッド用配光パターンを得ることができるプロジェクター型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁

To obtain a correction value more accurately to correct a deviation by reducing the effect of a satellite when in obtaining the correction value for correcting the tilting deviation causing image defects such as unevenness and streaks from a test pattern.例文帳に追加

ムラやスジなどの画像弊害を起す傾きずれを補正するための補正値をテストパターンから取得するにあたり、サテライトの影響を低減して、ずれを補正するための補正値をより正確に取得すること。 - 特許庁

To provide a new development pretreatment agent for lithography which efficiently reduces defects without varying a composition of a resist composition or without inducing quality degradation of a resist pattern to be obtained by using the agent.例文帳に追加

レジスト組成物自体の組成を変えることなく、しかも使用することによって得られるレジストパターンの品質低下を伴わずに、効率よくディフェクトを減少させうる新規なリソグラフィー用現像前処理剤を提供する。 - 特許庁

To reduce resist development defects in development of a positive chemically amplifying photoresist film on a large diameter substrate of ≥8 in and to form a resist pattern of a good shape free from T-top shape or the like.例文帳に追加

８インチ以上の大口径基板におけるポジ型の化学増幅型フォトレジスト膜現像時のレジスト現像欠陥を低減するとともに、Ｔ−トップ形状などのない良好な形状のレジストパターンを形成する。 - 特許庁

This automatic optical inspection system determines the presence of pattern defects in brightness of image data captured by the printed circuit board, by utilizing transmitted light and/or reflected light, through the 1st reference value of an illuminometer.例文帳に追加

本発明の自動光学検査システムは印刷回路基板から透過光および／または反射光を利用して獲得した映像データの明るさを照度計の第１基準値によってパターンの不良の有無を判別する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure having a large receding contact angle to a liquid for immersion exposure and giving a photoresist film less liable to cause development defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁