rinsing solutionとは 意味・読み方・使い方

To provide a rinsing solution used particularly for rinsing a substrate after the treatment of residue on ashing with a removing solution in the treatment of the substrate subjected to ashing after dry etching through a photoresist pattern formed on the substrate as a mask and a method for treating a substrate with the rinsing solution.例文帳に追加

特に、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとしてドライエッチング、アッシングが施された基板の処理において、該アッシング後の残渣物を剥離液で処理した後の基板の洗浄（リンス）に用いられるリンス液およびこれを用いた基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of the cleaning nozzles 9 are arranged so as to face to each other in a longitudinal and horizontal directions, for injecting rinsing solution and the other cleaning solution E.例文帳に追加

洗浄ノズル９は、前後左右にわたり多数対向配設されており、水洗液その他の洗浄液Ｅを噴射する。 - 特許庁

METHOD FOR PATTERN FORMATION, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION, AND RINSING LIQUID FOR USE IN METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液 - 特許庁

METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND RINSING PROCESS SOLUTION例文帳に追加

半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法及びリンス処理溶液 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD USING DEVELOPER CONTAINING ORGANIC SOLVENT, AND RINSING SOLUTION FOR USE IN THE SAME例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びこれに用いるリンス液 - 特許庁

This membrane-soaked solid-liquid separation device is equipped with a means 15 to supply a rinsing solution to the membrane soaking tank 1A.例文帳に追加

膜浸漬槽１Ａにリンス液を供給する手段１５を設けた膜浸漬型固液分離装置。 - 特許庁

Since the nozzle 11 is positioned in the direction in which the rinsing solution dropped onto the wafer W is diffused, the diffused developer already used for development is immediately removed by the rinsing solution.例文帳に追加

リンス液供給ノズル１１はウエハＷ上に滴下された洗浄液が拡散する方向に位置するので、現像処理に既に使われた拡散した処理済の現像液はリンス液により直ちに除去される。 - 特許庁

These steps include surface cleaning or rinsing steps in which a cleaning or rinsing solution travels across the wafer or wafer batches immersed in the solution contained in a cartridge.例文帳に追加

このような段階はカートリッジに含まれて洗浄またはリンシング溶液中に浸るウェーハまたはウェーハバッチを横切って洗浄またはリンシング溶液が通過する段階を含む表面洗浄またはリンシング段階を含みうる。 - 特許庁