「rinsing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To reduce consumption of washing water used for rinsing after bottles are washed with a caustic solution, and to shorten a rinsing process.例文帳に追加

壜を苛性溶液で洗浄した後の濯ぎ用の洗浄水の使用量を削減すると共に、濯ぎ洗浄工程を短縮する。 - 特許庁

In an intermediate treating section 33, a developing solution and a rinsing solution are blasted from a shower 42 for the developing solution and a shower 43 for the rinsing solution, respectively, and the blasted solutions are crossed and mixed with each other on the resist film 25 for plating.例文帳に追加

中間処理部３３では、現像液用シャワー４２およびリンス液用シャワー４３から現像液およびリンス液が吹き出され、メッキレジスト膜２５上で吹き出された両液が交差して混合される。 - 特許庁

To provide a rinsing solution used particularly for rinsing a substrate after the treatment of residue on ashing with a removing solution in the treatment of the substrate subjected to ashing after dry etching through a photoresist pattern formed on the substrate as a mask and a method for treating a substrate with the rinsing solution.例文帳に追加

特に、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとしてドライエッチング、アッシングが施された基板の処理において、該アッシング後の残渣物を剥離液で処理した後の基板の洗浄（リンス）に用いられるリンス液およびこれを用いた基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR REDUCING NUMBER OF DEFECT OF PATTERN COLLAPSE IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND RINSING PROCESS SOLUTION例文帳に追加

半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法及びリンス処理溶液 - 特許庁

METHOD FOR PATTERN FORMATION, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION, AND RINSING LIQUID FOR USE IN METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD USING DEVELOPER CONTAINING ORGANIC SOLVENT, AND RINSING SOLUTION FOR USE IN THE SAME例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びこれに用いるリンス液 - 特許庁

This membrane-soaked solid-liquid separation device is equipped with a means 15 to supply a rinsing solution to the membrane soaking tank 1A.例文帳に追加

膜浸漬槽１Ａにリンス液を供給する手段１５を設けた膜浸漬型固液分離装置。 - 特許庁

These steps include surface cleaning or rinsing steps in which a cleaning or rinsing solution travels across the wafer or wafer batches immersed in the solution contained in a cartridge.例文帳に追加

このような段階はカートリッジに含まれて洗浄またはリンシング溶液中に浸るウェーハまたはウェーハバッチを横切って洗浄またはリンシング溶液が通過する段階を含む表面洗浄またはリンシング段階を含みうる。 - 特許庁

Since the nozzle 11 is positioned in the direction in which the rinsing solution dropped onto the wafer W is diffused, the diffused developer already used for development is immediately removed by the rinsing solution.例文帳に追加

リンス液供給ノズル１１はウエハＷ上に滴下された洗浄液が拡散する方向に位置するので、現像処理に既に使われた拡散した処理済の現像液はリンス液により直ちに除去される。 - 特許庁

The developer and a rinsing solution are simultaneously supplied onto a wafer W from a developer supply nozzle 40 and a rinsing solution supply nozzle 11 by moving the nozzles 40 and 11 while the wafer W is rotated.例文帳に追加

ウエハＷを回転させ、現像液供給ノズル４０及びリンス液供給ノズル１１を移動させながら、現像液供給ノズル４０及びリンス液供給ノズル１１から現像液およびリンス液を同時に供給する。 - 特許庁

A plurality of the cleaning nozzles 9 are arranged so as to face to each other in a longitudinal and horizontal directions, for injecting rinsing solution and the other cleaning solution E.例文帳に追加

洗浄ノズル９は、前後左右にわたり多数対向配設されており、水洗液その他の洗浄液Ｅを噴射する。 - 特許庁

The bag includes: at least two compartments, namely a first compartment 1 containing a medicament in the form of a solution and a second compartment 2 containing a rinsing solution; and means for separating/communicating the compartments, which prevent the rinsing solution from automatically entering the medicament compartment except at the end of the infusion period.例文帳に追加

少なくとも２つの区画室、すなわち第一の区画室１は液体の形態で薬剤を収納し、第二の区画室２はすすぎ溶液を収納し、輸液時間の終了時以外にすすぎ溶液が自動的に薬剤用区画室に流入するのを抑制する区画室分離／連通手段を備えている。 - 特許庁

This substrate developing and processing device is provided with a separating plate 14 which prevents a developer 1 piled up on a substrate W from being pushed forward by a rinsing solution 2, when the solution 2 is discharged onto the substrate W from the slit-like discharge opening of a rinsing solution discharge nozzle 12 and flows forward in the moving direction of the nozzle 12.例文帳に追加

リンス液吐出ノズル１２のスリット状吐出口から基板Ｗ上へ吐出されたリンス液２がリンス液吐出ノズルの移動方向における前方へ流れリンス液によって基板上の現像液１が前方側へ押し流されないようにする仕切り板１４を備えた。 - 特許庁

The metallic strip 1 on which the degreasing solution is sprayed in a degreasing tank 4, is sprayed with water or hot water while held by a wringer roll 10 in a rough rinsing tank 5 and a finish rinsing tank 6 to continuously achieve the degreasing and cleaning.例文帳に追加

脱脂槽４で脱脂液がスプレーされた金属帯１は、粗リンス槽５および仕上げリンス槽６で、リンガロール１０で挟持されながら水または湯をスプレーされ、連続的に脱脂および洗浄が行われる。 - 特許庁

The rinsing liquid for lithography comprises a solution containing (A) a water-soluble fluorine compound and (B) an organosilane compound.例文帳に追加

（Ａ）水溶性含フッ素化合物及び（Ｂ）オルガノシラン化合物を含有する溶液からなるリソグラフィー用リンス液とする。 - 特許庁

To provide a washing apparatus capable of achieving high washing effect and rinsing effect by accurately detecting concentration of detergent molecules contained in a solution.例文帳に追加

溶液中に含まれた洗剤分子の濃度をより正確に検出し、高い洗浄効果とすすぎ効果とを実現できる洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The wafer 110 is then washed with a rinsing solution and the cassette 106 is detached from the treatment vessel 201.例文帳に追加

その後、リンス液で半導体ウェーハ１１０を洗浄した後、カセット１０６を処理容器２０６から取り外す。 - 特許庁

A sample dog is shampooed with a medicinal shampoo, the adjusted solution is spread over the whole hair and the hair is dried without rinsing.例文帳に追加

供試犬に対して薬用シャンプーでシャンプーした後、前記調整液を被毛全体に行き渡るようにかけ回し濯がずに乾燥する。 - 特許庁

In washing or rinsing a down quilt, an activated EM solution including a group of effective microorganisms is supplied through an input port 44 to the tub 32.例文帳に追加

投入口４４から、羽毛布団の洗いまたは濯ぎのとき、有用微生物群が含まれるEM活性液が槽３２に供給される。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.例文帳に追加

（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

The treatment method for the surface of the hot-dip zinc plating comprises steps of immersing the surface in a sulfuric acid solution and rinsing, immersing it in a potassium permanganate solution and rinsing, then subjecting it to chromate treatment and rinsing, and drying after applying a water-borne acrylic paint by dipping.例文帳に追加

溶融亜鉛メッキ面の処理方法として、硫酸水溶液浸漬処理を施し、水洗する工程、その後、過マンガン酸カリウム水溶液に浸漬処理を施し、水洗する工程、その後、クロム酸処理を施し、水洗する工程、及び水系アクリル樹脂塗料浸漬塗装した後、乾燥する工程からなる、溶融亜鉛メッキの処理方法。 - 特許庁

During the scanning, the suction nozzle 170 in the front part sucks the development solution R with a prescribed suction force and the discharge nozzle 172 in the rear part discharges the rinsing solution S with a prescribed pressure or flow rate to suck the development solution R and simultaneously or immediately supply the rinsing solution S immediately under the double nozzle unit 168.例文帳に追加

この走査中、前部の吸引ノズル１７０は基板Ｇ上の現像液Ｒを所定の吸引力で吸い取り、後部の吐出ノズル１７２はリンス液Ｓを所定の圧力または流量で吐出することで、二重ノズルユニット１６８の真下で現像液Ｒが吸い取られると同時またはその直後にリンス液Ｓが供給される。 - 特許庁

To prevent impurity metal components from depositing on the surface of a cleaned article and adhering thereto due to rinsing which follows to cleaning with cleaning solution by circulating the cleaning solution and reducing the impurity metal components in the cleaning solution before the cleaning solution is returned to a cleaning tub.例文帳に追加

洗浄溶液を循環させて，その洗浄溶液中の不純物金属成分を低減させてその洗浄溶液を再び洗浄槽に戻すことにより，洗浄溶液による洗浄後のすすぎ洗浄によって被洗浄物の表面に不純物金属成分が析出して付着することを防止する。 - 特許庁

In an automatic photosensitive material developing apparatus 100 provided with a development part 122, a rinsing part 124 and a gum part 130, a gum solution temperature control means 130a which controls gum solution temperature in the solution tank 130 is disposed in the gum solution tank 130.例文帳に追加

現像部１２２と水洗部１２４とガム部１３０とを備えた感光材料の自動現像装置１００において、ガム液槽１３０のガム液温度を制御するガム液温度制御手段１３０ａをガム液槽１３０内に設けた。 - 特許庁

This method includes the sequential steps of removing the CMP and a barrier layer, buffing polishing with a solution comprising citric acid, ammonium hydroxide and deionized water to remove a copper oxide, rinsing with the deionized water or an inhibitor solution, buffering with an abrasive slurry, and rinsing with the deionized water or inhibitor solution.例文帳に追加

ある態様は、ＣＭＰおよび障壁層を除去し、酸化銅を除去するためにクエン酸、水酸化アンモニウムおよび脱イオン水を含む溶液を使用してバフ研磨を行い、脱イオン水または抑制剤溶液を使用してリンスを行い、研磨スラリーを使用してバフ研磨を行い、脱イオン水または抑制剤溶液を使用してリンスを行うという連続的なステップを有する。 - 特許庁

After a substrate W, to which a developing solution has been supplied by a developing solution supply part 50, is subjected to a first rinsing process with a rinsing solution supply part (60), the surface of the substrate W is entirely heated by supplying heated nitrogen gas to the main surface of the substrate W from a heated gas supply part 80.例文帳に追加

現像液供給部５０によって現像液の供給された基板Ｗに対してリンス液供給部６０により第１のリンス処理を施した後、加熱気体供給部８０によって基板Ｗに対して加熱された窒素ガスを基板Ｗの主面に供給して基板Ｗ全面を加熱する。 - 特許庁

To remove deposits on a wafer while adverse effect on wiring due to chemical solution or rinsing solution is controlled for a semiconductor wafer on which fine metal wiring patterns are formed.例文帳に追加

微細な金属配線パターンが形成された半導体ウェハに対して、薬液やリンス液による配線への悪影響を抑制しつつウェハ上の堆積物を除去する。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

A positive electrolyte polymer solution is put into a water bath 151, a negative electrolyte polymer solution is put into a water bath 154 and water for a rinsing bath is put into residual water baths 152, 153, 155, 160.例文帳に追加

水槽１５１に正の電解質ポリマー溶液を入れ、水槽１５４に負の電解質ポリマー溶液を入れ、残りの水槽１５２，１５３，１５５，１６０にはリンス浴用の水を入れる。 - 特許庁

Resist residue is removed with a removing solution containing a fluorine-containing compound and then rinsing is carried out with an aqueous solution of ≤pH 10 containing a quaternary ammonium compound.例文帳に追加

レジスト残渣を、フッ素系化合物を含有する剥離液で剥離処理した後、第四級アンモニウム化合物を含有するｐＨ１０以下の水溶液でリンスを行う。 - 特許庁

To obtain an admixture for giving an etching solution, a polishing solution, or suspension that can be easily removed by rinsing by using high wetting force to a surface to be treated in a semiconductor industry.例文帳に追加

半導体産業において処理するための表面に対する高い湿潤力を用い、次いで水洗により容易に除去し得るエッチングまたはポリッシング溶液または懸濁液を与え得る添加物を入手可能とすること。 - 特許庁

To prevent gum repelling even when a developing solution is degraded because the developing solution is used for a long period in an automatic developing apparatus of photosensitive material provided with a development part, a rinsing part, a gum part and a drying part.例文帳に追加

現像部と水洗部とガム部と乾燥部とを備えた感光材料の自動現像装置において現像液を長期間使用して現像液が疲労しても、ガムハジキを生じないようにする。 - 特許庁

The method includes: cleaning the semiconductor substrate by using a chemical solution; removing the chemical solution by using pure water; forming a water repellent protective film on the surface of the semiconductor substrate; rinsing the semiconductor substrate by using pure water; and drying the semiconductor substrate.例文帳に追加

薬液を用いて半導体基板を洗浄し、純水を用いて前記薬液を除去し、前記半導体基板表面に撥水性保護膜を形成し、純水を用いて前記半導体基板をリンスし、前記半導体基板を乾燥させる。 - 特許庁

The method includes: cleaning the semiconductor substrate by using a chemical solution; removing the chemical solution by using pure water; forming a water repellent protective film on the surface of the semiconductor substrate; rinsing the semiconductor substrate by using pure water; and drying the semiconductor substrate.例文帳に追加

薬液を用いて半導体基板を洗浄し、純水を用いて前記薬液を除去し、前記半導体基板表面に撥水性保護膜を形成し、純水を用いて前記半導体基板をリンスし、前記半導体基板を乾燥させる - 特許庁

A rinsing process with a chelate aqueous solution is prepared after an HPM treating process is carried out, so that the speed of removing heavy metal particles from the surface of the substrate is accelerated by the metal sealing mechanism of a chelating agent contained in the chelate aqueous solution.例文帳に追加

ＨＰＭ処理工程の後に、キレート水によるリンス工程を設けることにより、キレート水に含まれるキレート剤の金属封鎖機構によって基板表面からの重金属の除去速度を速める。 - 特許庁

The washing solution to be fed into a water tub in the washing process or rinsing process penetrates into a fan case 34, and one end of the shaft 52 is submerged in the washing solution.例文帳に追加

洗い工程時またはすすぎ工程時に水槽内に供給される洗濯液がファンケース３４内部に侵入し、シャフト５２の一方の端部は洗濯液に没する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To obtain a rinsing solution having good solvent power and removing ability not only to a resist or an antireflection film formed from a solution in an organic solvent but also to an antireflection film formed from an aqueous solution, reducing the danger of a fire and easy to handle.例文帳に追加

有機溶剤溶液から形成されるレジスト又は反射防止膜などに対してのみならず、水溶液から形成される反射防止膜などに対しても良好な溶解性、剥離性を有し、かつ火災の危険性が改善され、取扱いも容易なリンス液を提供すること。 - 特許庁

While the substrate G is held by a holding plate 41 and not moved substantially, the coating treatment of the development solution for the substrate G, the cut-off treatment of development solution by slanting the substrate G, the rinse treatment of the rinsing solution for the substrate G, and the drying treatment of the substrate G are carried out.例文帳に追加

基板Ｇに対する現像液の塗布処理、基板Ｇを傾斜させる現像液の液切り処理、基板Ｇのリンス液によるリンス処理、基板Ｇの乾燥処理を、基板Ｇが保持プレート４１に保持された実質的に移動しない状態で行う。 - 特許庁

The hot rolled steel sheet containing ≥0.03 mass% Cu in the steel is pickled with hydrochloric or sulfuric aqueous solution, is thereafter roughly rinsed in a rinsing solution containing 0.1 to 4% nitric acid, and is successively subjected to normal rinsing.例文帳に追加

鋼材中にCuを0.03質量% 以上含有する普通鋼熱延鋼板を酸洗処理する方法において、該熱延鋼板を塩酸または硫酸水溶液により酸洗した後、硝酸を0.1〜４%含有するリンス液中にて粗リンスし、引き続いて本リンスすることを特徴とする色調性に優れたＣｕ含有普通鋼熱延鋼板の酸洗方法。 - 特許庁

To provide a retrieving method of rinse water, which retrieves only supernatant water separated after rinsing a mortar grimed truck agitator drum by a dilute solution.例文帳に追加

モルタルが付着したトラックアジテータのドラムを希釈溶液で洗浄して、その後分離される上澄水のみを回収する洗浄水の回収方法を提供する。 - 特許庁

After acid cleaning with a solution containing sulfuric acid and before and/or during washing (rinsing), the photomask surface of the photomask having the light blocking film pattern formed on the light-transmissive substrate on the photomask surface is electrostatically charged to the negative potential.例文帳に追加

透光性基板上に遮光性膜パターンを形成したフォトマスクを硫酸を含む溶液で酸洗浄後、水洗（リンス）を行う前及び／又は水洗（リンス）中に、フォトマスク表面を負の電荷に帯電させる。 - 特許庁

To provide a novel organ formalin fixing/rising vessel which uniformly performs the formalin fixing of an organ in a short time, simply disposes an already used aqueous formaldehyde solution, and performs the fixing and rinsing of formalin.例文帳に追加

臓器のフォルマリン固定が短時間で均一に行うことができ、使用済みホルムアルデヒド水溶液の処分が簡単であり、フォルマリン固定と水洗を行うことができる新たな臓器フォルマリン固定・水洗槽を提供する。 - 特許庁

To provide a machine and a method for coating, which cause neither edge swelling nor solution residues on an organic antireflective film and photoresist when edge rinsing.例文帳に追加

エッジリンスの際に形成される有機反射防止膜やフォトレジストのエッジ盛り上がりや溶解残りが生じることのない塗布機及び塗布方法を提供する。 - 特許庁

An activated EM solution including a group of cultured effective microorganisms is supplied through an input port 44 into the tub 32 in an ultimate cycle of the rinsing operation performed by a plurality of cycles.例文帳に追加

投入口４４から、複数回の濯ぎのうちの最後の濯ぎをするとき、培養された有用微生物群が含まれるEM活性液が槽３２に供給される。 - 特許庁