「"rinsing solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In an intermediate treating section 33, a developing solution and a rinsing solution are blasted from a shower 42 for the developing solution and a shower 43 for the rinsing solution, respectively, and the blasted solutions are crossed and mixed with each other on the resist film 25 for plating.例文帳に追加

中間処理部３３では、現像液用シャワー４２およびリンス液用シャワー４３から現像液およびリンス液が吹き出され、メッキレジスト膜２５上で吹き出された両液が交差して混合される。 - 特許庁

Since the nozzle 11 is positioned in the direction in which the rinsing solution dropped onto the wafer W is diffused, the diffused developer already used for development is immediately removed by the rinsing solution.例文帳に追加

リンス液供給ノズル１１はウエハＷ上に滴下された洗浄液が拡散する方向に位置するので、現像処理に既に使われた拡散した処理済の現像液はリンス液により直ちに除去される。 - 特許庁

The developer and a rinsing solution are simultaneously supplied onto a wafer W from a developer supply nozzle 40 and a rinsing solution supply nozzle 11 by moving the nozzles 40 and 11 while the wafer W is rotated.例文帳に追加

ウエハＷを回転させ、現像液供給ノズル４０及びリンス液供給ノズル１１を移動させながら、現像液供給ノズル４０及びリンス液供給ノズル１１から現像液およびリンス液を同時に供給する。 - 特許庁

The wafer 110 is then washed with a rinsing solution and the cassette 106 is detached from the treatment vessel 201.例文帳に追加

その後、リンス液で半導体ウェーハ１１０を洗浄した後、カセット１０６を処理容器２０６から取り外す。 - 特許庁

Then, rinsing liquid 9 is dropped on the resist film 2, substitution is made between the second development solution 6 and the rinsing solution 9, and the resist film 2 is rinsed.例文帳に追加

次に、リンス液９をレジスト膜２に滴下して、第２の現像液６とリンス液９とを置換し、レジスト膜２を洗浄する。 - 特許庁

A plurality of the cleaning nozzles 9 are arranged so as to face to each other in a longitudinal and horizontal directions, for injecting rinsing solution and the other cleaning solution E.例文帳に追加

洗浄ノズル９は、前後左右にわたり多数対向配設されており、水洗液その他の洗浄液Ｅを噴射する。 - 特許庁

The bag includes: at least two compartments, namely a first compartment 1 containing a medicament in the form of a solution and a second compartment 2 containing a rinsing solution; and means for separating/communicating the compartments, which prevent the rinsing solution from automatically entering the medicament compartment except at the end of the infusion period.例文帳に追加

少なくとも２つの区画室、すなわち第一の区画室１は液体の形態で薬剤を収納し、第二の区画室２はすすぎ溶液を収納し、輸液時間の終了時以外にすすぎ溶液が自動的に薬剤用区画室に流入するのを抑制する区画室分離／連通手段を備えている。 - 特許庁

To provide a rinsing solution used particularly for rinsing a substrate after the treatment of residue on ashing with a removing solution in the treatment of the substrate subjected to ashing after dry etching through a photoresist pattern formed on the substrate as a mask and a method for treating a substrate with the rinsing solution.例文帳に追加

特に、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとしてドライエッチング、アッシングが施された基板の処理において、該アッシング後の残渣物を剥離液で処理した後の基板の洗浄（リンス）に用いられるリンス液およびこれを用いた基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

This substrate developing and processing device is provided with a separating plate 14 which prevents a developer 1 piled up on a substrate W from being pushed forward by a rinsing solution 2, when the solution 2 is discharged onto the substrate W from the slit-like discharge opening of a rinsing solution discharge nozzle 12 and flows forward in the moving direction of the nozzle 12.例文帳に追加

リンス液吐出ノズル１２のスリット状吐出口から基板Ｗ上へ吐出されたリンス液２がリンス液吐出ノズルの移動方向における前方へ流れリンス液によって基板上の現像液１が前方側へ押し流されないようにする仕切り板１４を備えた。 - 特許庁

During the scanning, the suction nozzle 170 in the front part sucks the development solution R with a prescribed suction force and the discharge nozzle 172 in the rear part discharges the rinsing solution S with a prescribed pressure or flow rate to suck the development solution R and simultaneously or immediately supply the rinsing solution S immediately under the double nozzle unit 168.例文帳に追加

この走査中、前部の吸引ノズル１７０は基板Ｇ上の現像液Ｒを所定の吸引力で吸い取り、後部の吐出ノズル１７２はリンス液Ｓを所定の圧力または流量で吐出することで、二重ノズルユニット１６８の真下で現像液Ｒが吸い取られると同時またはその直後にリンス液Ｓが供給される。 - 特許庁

To remove deposits on a wafer while adverse effect on wiring due to chemical solution or rinsing solution is controlled for a semiconductor wafer on which fine metal wiring patterns are formed.例文帳に追加

微細な金属配線パターンが形成された半導体ウェハに対して、薬液やリンス液による配線への悪影響を抑制しつつウェハ上の堆積物を除去する。 - 特許庁

By using the process solution as a rinsing solution during or after developing a patterned photoresist layer, post-development defects such as pattern collapse and line width roughness can be reduced.例文帳に追加

この処理溶液は、パターニングされたフォトレジスト層の現像の際又はその後にリンス溶液として用いられた場合に、パターンの倒壊又はライン幅の凹凸のような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

These steps include surface cleaning or rinsing steps in which a cleaning or rinsing solution travels across the wafer or wafer batches immersed in the solution contained in a cartridge.例文帳に追加

このような段階はカートリッジに含まれて洗浄またはリンシング溶液中に浸るウェーハまたはウェーハバッチを横切って洗浄またはリンシング溶液が通過する段階を含む表面洗浄またはリンシング段階を含みうる。 - 特許庁

A tube wall part of a tubular member 4 is provided with a circular hole 52, a slot 54, a spiral opening part and the like so as to allow introducing of a rinsing solution into the tubular member 4.例文帳に追加

管状部材４の管壁部に、洗滌用の洗滌液を前記管状部材４の内部に導入可能な円孔５２、長孔５４、螺旋状の開口部などを設けた。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTIPLE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液 - 特許庁

To prevent the generation of an insoluble material and to stably obtain good image quality while reducing the number of washing tanks and the amount of a rinsing solution to be replenished when a silver halide color photographic sensitive material is processed.例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理に際し、水洗槽の数及びリンス液補充量を低減しつつ、不溶性物質の発生を防止し、良質な画質を安定して得ること。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

The rinsing solution for lithography comprises a homogeneous solution containing one or more solvents selected from the group comprising 1,3-propanediol alkyl ethers, 1,3-propanediol alkyl ether acetates, 1,3-propanediol dialkyl ethers and 1,3-propanediol diacetate and water.例文帳に追加

１，３−プロパンジオールアルキルエーテル、１，３−プロパンジオールアルキルエーテルアセテート、１，３−プロパンジオールジアルキルエーテル、１，３−プロパンジオールジアセテートの群から選ばれる１種以上の溶剤及び水を含有する均質溶液からなることを特徴とするリソグラフィー用リンス液。 - 特許庁

To obtain a rinsing solution having good solvent power and removing ability not only to a resist or an antireflection film formed from a solution in an organic solvent but also to an antireflection film formed from an aqueous solution, reducing the danger of a fire and easy to handle.例文帳に追加

有機溶剤溶液から形成されるレジスト又は反射防止膜などに対してのみならず、水溶液から形成される反射防止膜などに対しても良好な溶解性、剥離性を有し、かつ火災の危険性が改善され、取扱いも容易なリンス液を提供すること。 - 特許庁

The resist film 11 is then developed with an alkaline developing solution 14 and an alkaline rinsing solution 17 is supplied onto the resist film 11 to form the objective resist pattern comprising the unexposed regions 11b of the resist film 11.例文帳に追加

次に、レジスト膜１１に対してアルカリ性現像液１４を用いて現像を行なった後、レジスト膜１１に対して、アルカリ性リンス液１７をレジスト膜１１上に供給して、レジスト膜１１の未露光部１１ｂからなるレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The step for forming the silicon-containing resin layer includes: a step for spin-coating a silicon-containing resin solution; a step for heating the silicon-containing resin layer 13 to a first temperature; and a step for spin-coating a rinsing solution 14 containing a volatile component on an outer edge 13e1 of the silicon-containing resin layer 13.例文帳に追加

シリコン含有樹脂層形成工程は、シリコン含有樹脂溶液を回転塗布する工程と、シリコン含有樹脂層１３を第１の温度まで加熱する工程と、シリコン含有樹脂層１３の外縁部１３ｅ１に揮発性成分を有するリンス液１４を回転塗布する工程とを有する。 - 特許庁

While the substrate G is held by a holding plate 41 and not moved substantially, the coating treatment of the development solution for the substrate G, the cut-off treatment of development solution by slanting the substrate G, the rinse treatment of the rinsing solution for the substrate G, and the drying treatment of the substrate G are carried out.例文帳に追加

基板Ｇに対する現像液の塗布処理、基板Ｇを傾斜させる現像液の液切り処理、基板Ｇのリンス液によるリンス処理、基板Ｇの乾燥処理を、基板Ｇが保持プレート４１に保持された実質的に移動しない状態で行う。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

The hot rolled steel sheet containing ≥0.03 mass% Cu in the steel is pickled with hydrochloric or sulfuric aqueous solution, is thereafter roughly rinsed in a rinsing solution containing 0.1 to 4% nitric acid, and is successively subjected to normal rinsing.例文帳に追加

鋼材中にCuを0.03質量% 以上含有する普通鋼熱延鋼板を酸洗処理する方法において、該熱延鋼板を塩酸または硫酸水溶液により酸洗した後、硝酸を0.1〜４%含有するリンス液中にて粗リンスし、引き続いて本リンスすることを特徴とする色調性に優れたＣｕ含有普通鋼熱延鋼板の酸洗方法。 - 特許庁

The rinsing solution for photolithography has pH 8-12 and contains a chelating agent and one or more saccharides.例文帳に追加

基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとして基板をエッチング後、アッシングし、続いて該アッシング後の残渣物を剥離液で処理した後のリンス処理に用いるためのリンス液であって、該リンス液のｐＨが８〜１２であり、かつ、キレート剤、および糖類の中から選ばれるいずれか１種以上を含有することを特徴とするホトリソグラフィー用リンス液、およびこれを用いた基板の処理方法。 - 特許庁

After a substrate W, to which a developing solution has been supplied by a developing solution supply part 50, is subjected to a first rinsing process with a rinsing solution supply part (60), the surface of the substrate W is entirely heated by supplying heated nitrogen gas to the main surface of the substrate W from a heated gas supply part 80.例文帳に追加

現像液供給部５０によって現像液の供給された基板Ｗに対してリンス液供給部６０により第１のリンス処理を施した後、加熱気体供給部８０によって基板Ｗに対して加熱された窒素ガスを基板Ｗの主面に供給して基板Ｗ全面を加熱する。 - 特許庁

In this platemaking method is carried out by exposing a planographic printing material, having physical developing nuclei between an aluminum supporting body and a silver halide emulsion layer, and then treating the plate material with at least a developing solution and a rinsing solution, the developing solution contains a polymer which is practically insoluble in water and soluble with alkali.例文帳に追加

アルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する平版印刷材料に、露光後少なくとも現像液及び水洗液の順で処理を施す平版印刷版の製版方法において、前記現像液に実質的に水不溶性かつアルカリ可溶性ポリマーを含有する銀塩平版印刷版の製版方法。 - 特許庁