「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

This optical pattern inspecting apparatus detects the shape defects by moving the condenser.例文帳に追加

本発明の光学的検査装置は、半導体ウェーハに検査用光線を照射し、該半導体ウェーハから散乱された光を集光部で集光した後に、光検出部で取得し、該半導体ウェーハ中の形状欠陥を検出する光学的パターン検査装置において、集光部が移動することによって、該形状欠陥を検出することを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and few development defects particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、ラインエッジラフネス、現像欠陥の特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a glass substrate with a circuit pattern which can be finely patterned and can keep down a manufacturing cost and reduce the effects on the environment without using a large amount of chemicals such as a developer and an etchant, and never cause laser irradiation defects, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

微細なパターニングが可能であり、大量の現像液やエッチング剤等の薬液等を使用せず製造コストおよび環境負荷を抑制すること等ができ、さらにレーザ照射欠陥が生じない、回路パターンを有するガラス基板の製造方法、およびこれにより製造される回路パターンを有するガラス基板の提供。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation and superior developability, excellent in adhesiveness to a substrate as well as in basic solid state properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, causing no development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、現像性に優れ、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、基板に対する接着性にも優れ、かつ微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inspecting method and an inspecting apparatus achieving high-speed and high-accuracy detection of foreign substances and pattern defects by position correction of a photographed image of an inspected article and orientation adjustment and correction of an inspected article photographing image sensor in addition to correction and controlling of positional displacement of a stage.例文帳に追加

本発明は、ステージの位置ズレ補正制御だけに頼ることなく、被検査物を撮影した撮像画像の位置補正や被検査物を撮影するイメージセンサの向きを調整補正する等の対応により、異物やパターン欠陥が高速・高精度に検出でき、コストＵＰが抑制できる検査方法および検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent streaks for which marks of mirror surface working of an intaglio printing plate appear on a surface of a primer layer exposed at an opening from becoming optical defects, when forming a conductor pattern layer of an electromagnetic wave shielding material, as a conductive composition layer comprising conductive particles and a resin binder by a drawing primer type intaglio printing method on a transparent base material by interposing a primer layer.例文帳に追加

電磁波遮蔽材の導電体パターン層を導電性粒子と樹脂バインダからなる導電性組成物層として、プライマ層を介在さて透明基材上に引抜プラマイ方式凹版印刷法で形成した時に、凹版版面の鏡面加工の跡が開口部で露出するプライマ層表面に現れる筋が光学欠陥になるのを防ぐ。 - 特許庁

To provide a substrate having a multilayer reflection film suppressed the generation of particles caused by the peeling of the conductive film and abnormal discharge at the electrostatic chucking of substrate provided with the conductive film, a high quality reflection type mask blanks for exposure having less surface defects caused by particles, and a high quality reflective type mask for exposure having no defect pattern caused by particles.例文帳に追加

導電膜を設けた基板の静電チャック時の導電膜の膜剥れや異常放電によるパーティクルの発生を抑制した多層反射膜付き基板、パーティクルによる表面欠陥の少ない高品質の露光用反射型マスクブランクス、及びパーティクルによるパターン欠陥のない高品質の露光用反射型マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

By using a sputtering target 14, containing silicon and having a hardness of 900 HV or more in Vickers' hardness, a thin film for forming the mask pattern on a substrate 1 is formed by sputtering, and the high-quality mask blank that suppresses generating of defects is manufactured; and further, the transfer mask is manufactured by patterning the thin film.例文帳に追加

シリコンを含有するスパッタリングターゲット１４であって、ターゲットの硬度が、ビッカース硬さで９００ＨＶ以上であるスパッタリングターゲットを用いて、基板１上にマスクパターンを形成するための薄膜をスパッタリング法で形成し、欠陥発生を抑えた高品位のマスクブランクを製造し、さらに、薄膜をパターニングすることで転写マスクを製造した。 - 特許庁

The method for correcting pattern defects includes the steps for: feeding raw material gas to a correcting portion of a correcting object mask in a reduced-pressure atmosphere, applying an energy beam thereto, and depositing a material including silicon by energy beam-induced chemical vapor deposition; and performing either of an oxidation treatment, a nitriding treatment, and an oxynitriding treatment for at least a part of the deposited material.例文帳に追加

減圧雰囲気中で被修正マスクの修正部位に原料ガスを供給するとともにエネルギビームを照射してエネルギビーム誘起化学蒸着によりシリコンを含有する材料を堆積させる工程と、前記堆積した材料の少なくとも一部に対して酸化処理、窒化処理、或いは、酸窒化処理のいずれかを行う工程とを設ける。 - 特許庁

The black ink for correcting microscopic defects in a coloring pattern contains at least red, yellow and blue coloring agents, a polymer, a monomer having a reactive functional group, and a solvent, with the solvent being blended by 25 to 70 wt.% of the entire ink, and the viscosity of the ink being 40 to 300 mPa sec.例文帳に追加

少なくとも、赤色及び黄色及び青色着色剤と、ポリマーと、反応性官能基を有するモノマーと、溶剤を含有し、前記溶剤の配合量が全体の２５重量％〜７０重量％であり、且つ、インキの粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであることを特徴とする微小着色パターン欠陥修正用黒インキである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a luminous material compounded molding in which occupied time or working time of a molding die in molding is short, in which formation of a local luminous pattern is easy while generation of pinhole defects hardly occurs, and in which durability against wear is superior, and to provide a method of manufacturing a luminous material compounded resin sheet and a luminous material compounded molding.例文帳に追加

成形における成形型の占有時間や作業時間が短く、局所的な蓄光模様の形成が容易で、ピンホール不良が発生し難い、摩耗への耐久性に優れた蓄光材配合成形品を製造できる方法、及び蓄光材配合樹脂シートの製造方法、並びに蓄光材配合成形品の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which, as a chemically amplified resist, is high in transparency to radiation and superior in resolution and is not only superior in dry-etching resistance, sensitivity, and pattern shape or the like, but also remarkably improves the yield of semiconductor elements by suppressing the occurrence of development defects during microfabrication.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In the inspection apparatus using an electron microscope which senses the defects present on the pattern of a sample based on the sensed signal of secondary charged particles generated by a scanning electron beam, there is provided such a function that the informations obtained by its ADC function are so fed back to its inspection function in the form of an inspection/non-inspection region as to improve its inspection and ADC performances.例文帳に追加

電子線を走査して発生する二次荷電粒子の検出信号に基づいて試料のパターン上の欠陥を検出する電子顕微鏡を用いた検査装置において、ＡＤＣ機能で得られた情報を検査／非検査領域という形で検査機能にフィードバックさせ、検査性能、ＡＤＣ性能の向上を図る機能を備える。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when F_2 excimer laser light (157nm) is used and ensuring improved line edge roughness, few development defects and improved heat resistance of a resist pattern formed on a substrate.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及び基板上に形成されたレジストパターンの耐熱性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide an electrical inspection method of a film carrier tape for mounting determinable electronic components, without generating external appearance defects due to discharge breakage until a distance between projections extended between pieces of wiring is a comparatively long wiring pattern so that the insulation fault can be caused by folding a film carrier, and to provide an electrical device and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

例えばフィルムキャリアを折り曲げることにより絶縁不良が引き起こされる可能性があるような、配線間に延出する突起間の距離が比較的長い配線パターンまで、放電破壊による外観不良を生じることなく判別可能な電子部品実装用フィルムキャリアテープの電気検査方法および電気検査装置ならびにコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a high quality printed matter by performing a single process to correct defects in barrier walls and an ink layer in regard to the method of manufacturing the printed matter which comprises a substrate, the pattern-like barrier walls disposed on the substrate and the ink layer disposed on an opening part divided by the barrier walls by using an ink delivery printer.例文帳に追加

本発明の課題とするところは、基板と、基板上にパターン状に設けられた隔壁と、この隔壁によって区切られた開口部に設けられたインキ層を含む印刷物を、インキ吐出印刷装置を用いて製造する方法において、隔壁とインキ層の欠陥の修正を一度の工程で行い、高品質な印刷物を効率よく製造する方法を提供することである。 - 特許庁

To solve the problems, in a method where a mask is provided on a substrate, and a transparent conductive film is pattern-formed on the substrate by a sputtering process, that, since the energy of particles made incident on the substrate is the extremely high one of about 600 eV, the particles infiltrate into the substrate, and the atoms composing the substrate are beaten out or defects are occurred in the substrate.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、スパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成する透明導電膜形成方法において、基板に入射する粒子のエネルギーは６００ｅＶ程度と非常に高く、粒子が基板内に入り込んだり、基板を構成する原子が叩き出されたり、あるいは基板に欠陥を発生させるといった問題が発生する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an EL element capable of greatly reducing defects when performing transfer such as excessive transfer and defective transfer at a comparatively low transfer temperature and obtaining high-quality EL element when manufacturing the EL element by transferring an organic EL layer on a substrate like a pattern by a transfer method.例文帳に追加

本発明は、転写法により有機ＥＬ層を基板上にパターン状に転写させてＥＬ素子を製造する際に、比較的低い転写温度を用い、かつ過剰転写や転写不良といった転写に際しての不具合を大幅に低減させることができ、高品質のＥＬ素子を得ることができるＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁

In detecting defects in a TFT array on a TFT substrate by applying a voltage to the TFT array and detecting secondary electrons obtained by irradiation with an electron beam, the voltage pattern of applying the voltage to the source and/or the gate of the TFT is set to such characteristics parameters as increase a leak current due to an internal leak in the TFT depending on the voltage level and/or the timing of application.例文帳に追加

ＴＦＴ基板のＴＦＴアレイに対して電圧を印加し、電子線照射により得られる二次電子を検出してＴＦＴアレイの欠陥を検出するＴＦＴアレイの欠陥検出において、ＴＦＴのソースおよび／又はゲートへの電圧を印加する電圧パターンにおいて、電圧値および／又は印加時期によってＴＦＴの内部リークによるリーク電流を増加させる特性パラメータに設定する。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for a column spacer exhibiting excellent adhesiveness particularly to a substrate formed with an acrylic resin film, forming a desired pattern form, and also not stripped off by rubbing treatment in a manufacturing process of a liquid crystal display element, not generating low temperature bubbling in a manufactured liquid crystal display element, and forming the column spacer effectively suppressing generation of color heterogeneity caused by gravity defects.例文帳に追加

特にアクリル樹脂膜が形成された基板に対する優れた密着性を示し、所望のパターン形状を形成することができ、かつ、液晶表示素子の製造過程におけるラビング処理よって剥離することがなく、製造する液晶表示素子に低温発泡を生ずることなく、重力不良による色ムラの発生を効果的に抑制できるカラムスペーサを形成できるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁