「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a resist pattern in which dimensional variations and defects are minimized as much as possible with high throughput.例文帳に追加

寸法ばらつき及び欠陥を可及的に低減したレジストパターンを高いスループットで形成する。 - 特許庁

To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.例文帳に追加

水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting method and a pattern defect correcting device capable of satisfactorily correcting pattern defects, and enhancing correction efficiency.例文帳に追加

パターン欠陥修正を良好に行なうとともに修正効率の向上を図ることが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus that can accurately detect relatively large defects generated in a repetition pattern region, and to provide a pattern inspection method.例文帳に追加

繰り返しパターン領域に発生した比較的大きな欠陥を正確に検出することができるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for defect inspection, capable of reliably detecting defects regardless of the kind of the defects, and to provide a method of manufacturing a pattern substrate.例文帳に追加

欠陥の種別によらず、確実に欠陥を検出する欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To suppress effectively generation of pseudo-defects, in defect detection for detecting pattern defects on a sample surface, by inspecting a photographed image on the sample surface.例文帳に追加

試料表面の撮像画像を検査して試料表面のパターンの欠陥を検出する欠陥検出において疑似欠陥の発生を効果的に抑制する。 - 特許庁

To provide a substrate treating device capable of preventing contamination in an aligner and preventing dimensional defects and shape defects from occurring in an exposure pattern.例文帳に追加

露光装置内の汚染を防止でき、露光パターンの寸法不良および形状不良の発生を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an improved lost foam pattern casting method by which casting defects caused by the thermal decomposition of a pattern can be prevented by a simple process.例文帳に追加

簡単な工程で、模型の熱分解に起因する鋳物欠陥を防止できる、改良された消失模型鋳造法の提供。 - 特許庁

To provide an imprinting method capable of forming a pattern with high yield by suppressing or preventing the occurrence of pattern defects, a wiring pattern forming method using the imprinting method, and a multilayer electronic component having a wiring pattern formed by the wiring pattern forming method.例文帳に追加

パターン欠陥の発生を抑制、防止して、パターンを歩留まりよく形成できるインプリント方法、それを用いた配線パターンの形成方法、該方法により形成された配線パターンを備えた積層電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a chemically amplified resist composition, which can reduce development defects on a pattern.例文帳に追加

パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

Defects are determined thereby at the same time in the pattern inspection, and a through-put of the inspection is enhanced thereby.例文帳に追加

これにより、パターン検査の欠陥判定を同時に行えるとともに、検査のスループットが向上する。 - 特許庁

Therefore, the defects such as the lead part C being broken and thinned are reduced, and the electrode pattern can be improved.例文帳に追加

リード部Ｃの断線や細りなどの欠陥が減少し、電極パターンを改善することができる。 - 特許庁

To provide a device for inspecting defects, which can inspect a pattern of a top layer with a high S/N ratio.例文帳に追加

最上層のパターンの検査を、高いＳ／Ｎ比で行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To form a resist pattern having few defects, an excellent shape, and excellent line edge roughness.例文帳に追加

欠陥が少なく、かつ優れた形状及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

Defects D1 and D2 are extracted through binarization of a reference image and the inspection image after the pattern matching thereof.例文帳に追加

基準画像と検査画像とをパターンマッチングした後に二値化し、欠陥Ｄ１，Ｄ２等を抽出する。 - 特許庁

To accurately inspect pattern defects by utilizing a mask size checking mark formed in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクに描画されたマスク寸法検査マークを利用して、パターン欠陥検査を精度良く実行する。 - 特許庁

To provide an inspecting device for a wafer that classifies defects of a wafer on which a circuit pattern is formed.例文帳に追加

回路パターンが形成されたウエハの欠陥の種類を分類するウエハ検査装置を提供する。 - 特許庁

To prevent malfunctions caused by defects of a pattern for servo control in a recording medium.例文帳に追加

記録媒体のサーボ制御用のパターンの欠陥に起因する動作不良を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD uniformity can be produced and a frequency of occurrence of defects in obtained resist pattern is reduced.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a system for inspecting defects of a pattern shape and positional deviation of a servo pattern at high speed in inspection of a patterned medium for a hard disk.例文帳に追加

ハードディスク用のパターンドメディアの検査において、パターン形状及びサーボパターンの位置ずれの欠陥を高速に検査する方式を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film pattern in which defects, such as disconnections and short-circuitings can be prevented in the thin-film pattern formed using an ink jet method.例文帳に追加

インクジェット法により形成される膜パターンに、断線や短絡等の欠陥の発生を抑止できる配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method using a water-soluble pattern formation material capable of suppressing defects in development simply and at low cost.例文帳に追加

簡便かつ低コストに現像欠陥を抑制することが可能な水溶性パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which enables to form a pattern with few development defects, and an organic processing liquid used in the method.例文帳に追加

現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる有機系処理液を提供する。 - 特許庁

To provide a test pattern with which a circuit pattern can be inspected for defects with high sensitivity in a semiconductor manufacturing process, a method for detecting defect, and a method for managing manufacturing process both of which use the test pattern.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける回路パターンの不良を高感度に検査可能なテストパターンと、これを用いた不良検出方法および製造プロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

The method for correcting projection defects is carried out by irradiating abnormal projections on the surface of a metal plating film having a rugged pattern with laser at least once so as to correct the abnormal projection defects.例文帳に追加

凹凸形状を有する金属メッキ膜表面の異常突起にレーザーを少なくとも１回照射し、異常突起を修正する突起欠陥修正方法。 - 特許庁

To provide a novel surface defect inspection device and surface defect inspection method for accurately and almost simultaneously detecting small rugged defects and pattern-like defects.例文帳に追加

小さな凹凸欠陥や模様状欠陥を精度良くかつほぼ同時に検出することができる新規な表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of surely preventing defects in various patterns based on lithography by preventing the unwanted decomposited products from occurring in a hydrophobic treatment and by suppressing resist pattern defects.例文帳に追加

疎水化処理時における不要な分解物の発生を防止し、レジストパターン欠陥を抑止して、リソグラフィーに基づく各種パターンの欠陥発生を確実に抑止する。 - 特許庁

The multilayer wiring board includes a plurality of laminated wiring layers, a defects identification pattern arranged on each wiring layer, an input and an output section prepared for each defects identification pattern, and an input-output signal line evaluation pattern connected to each input section.例文帳に追加

積層された複数の配線層と、前記各配線層に配置された欠陥識別用パターンと、前記各欠陥識別用パターンに対して設けられた入力部及び出力部と、前記各入力部に接続された入出力用信号線評価パターンとを含む。 - 特許庁

To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.例文帳に追加

透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁

To provide a resist composition having excellent temporal stability of a resist pattern and achieving decrease in development defects, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの経時安定性に優れ、かつ現像欠陥低減を達成可能なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent losing of a defect correcting material in a washing precess of carbon-based contamination in a method for correcting pattern defects and a pattern defect correcting device.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法及びパターン欠陥修正装置に関し、炭素系汚染の洗浄プロセスにおける欠陥修正材料の消失を防止する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves edge roughness of a pattern, remedies the problem of development defects and gives an excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent lithography properties and capable of forming a resist pattern with defects reduced, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

優れたリソグラフィー特性を有し、ディフェクトの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which diminishes defects in a resist pattern and has necessary lithography properties, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンのディフェクトが低減されるとともに、必要とされるリソグラフィー特性を有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of preventing the occurrence of pattern defects even when there is a liquid residue of an alicyclic saturated hydrocarbon compound.例文帳に追加

脂環式飽和炭化水素化合物の液残りがあってもパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

Moreover, since discharging is performed perpendicularly to the insulating substrate, the wiring pattern is not affected by dust or defects on the insulating substrate and no faulty pattern is formed.例文帳に追加

また、絶縁基板に対して垂直に吐出することで、ほこりや絶縁基板に存在する欠陥に影響されず、パターン不良を発生させない。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device and a method capable of detecting with high accuracy defects of an opening pattern, even if there remain adjustment residues of alignment.例文帳に追加

アライメントの合わせこみ残差があっても、開口パターンの欠陥を高精度に検出することが可能なパターン検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board which can be made fine in pitch of a wiring pattern, without causing defects in the wiring pattern, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

配線パターンの不良を生じることなく、配線パターンのファインピッチ化が可能な配線回路基板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of effectively preventing the occurrence of pattern defects by improving the hydrophilicity of a resist.例文帳に追加

本発明は、レジストの親水性を向上させることにより、パターン欠陥の発生を効果的に防止することができるパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which ensures improved edge roughness of a pattern, solves the problem of development defects and gives excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The pattern inspecting method comprises photographing an object substrate to obtain a digital picture, detecting defects, using the digital picture, and switching to indicate or not indicate those defects agreeing with registered features among the detected defects or indicating the detected defects distinguishable from others.例文帳に追加

又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。 - 特許庁

To manufacture an sheet having an irregular surface with a high quality without defects such as lowering in accuracy of its pattern structure and poor peeling.例文帳に追加

パターン構造の精度低下や剥離不良などの欠陥のない、高品質な凹凸状シートを製造する。 - 特許庁

To easily set an inspection area for accurately inspecting defects of a pattern formed on a wafer.例文帳に追加

ウェハに形成されたパターンの欠陥を高精度で検出できる検査領域の設定を簡単に実行する。 - 特許庁

To provide a pattern correction device correcting defects on various kinds of substrates at a higher speed.例文帳に追加

各種基板に存在する欠陥を一層高速で修正することができるパターン修正装置を実現する。 - 特許庁

A phase-change substance layer pattern, which the HARS is fully filled through an in-situ reflow mechanism without defects, is formed.例文帳に追加

インサイチュリフローメカニズムを通じてＨＡＲＳを欠陥なく充分に満たす相変化物質層パターンを形成する。 - 特許庁