「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor wafer inspecting system capable of highly accurately determining correlation between the distribution pattern of defects in the semiconductor wafer and the distribution pattern in a defective semiconductor chip in a short time, and to provide an inspecting method.例文帳に追加

半導体ウエハの欠陥の分布パターンと、不良半導体チップの分布パターンとの間の相関関係を高精度且つ短時間に行うことが可能な半導体ウエハの検査システムと検査方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain the resolution sufficiently coping with the fining tendency in the case of exposing a pattern by using extreme ultraviolet light, and to avoid defects such as a difference from line width and positional deviation of the pattern.例文帳に追加

極短紫外光を用いて露光を行う場合に、微細化の進展に十分に対応可能な解像性を得られるようにし、さらには線幅の相違やパターンの位置ずれ等といった不具合を招かないようにする。 - 特許庁

To provide a crystallized glass article for building which has a clear projection-shaped pattern free from glass defects in the surface, and to provide a method for producing a crystallized glass article for building which forms a projection-shaped pattern by heat treatment.例文帳に追加

表面にガラス欠陥がない明確な凸状模様を有する建築用結晶化ガラス物品、及び熱処理により凸状模様を形成する建築用結晶化ガラス物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a defect-free metal barrier layer without any bubbles of a front plate for a field emission type display which requires a plating pattern of high aspect ratio by solving problems that bubbles easily remain in the aperture of a plating resist pattern, and plating defects easily occurs.例文帳に追加

電界放出型ディスプレイ用前面板の障壁層はアスペクト比の高いめっきパタ−ンが求められるが、めっき用レジストパタ−ンの開口部内に気泡が残り易く、めっき欠陥が生じ易い。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves a pattern shape and exposure latitude and reduces bridge defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

パターン形状及び露光ラチチュード（Exposure Latitude）の改善とブリッジ欠陥の低減との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To suppress generation of defects such as disconnection in a PDP pattern due to dust or the like depositing on a photomask in an exposure step, and to obtain a uniform pattern width even in a large screen with high definition.例文帳に追加

露光工程時におけるフォトマスクに付着したダスト等によりＰＤＰのパターンに断線などの欠陥が発生することを抑制し、且つ、大画面、高精細であっても均一なパターン幅を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a polyester film for a minute pattern photoresist which is superior in transparency, slipperiness, scratching resistance, wrinkle resistance, jag on the side of a resist pattern and resolution, hardly generating defects and has ease of handleability.例文帳に追加

透明性、易滑性、耐けずれ性、耐しわ性に優れ、レジストパターンの側面のギザ性および解像度に優れかつ欠陥が少なく、取り扱い性が容易な微細パターンフォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for applying a filter process only reacting to the shape of a wiring pattern instead of the reaction to foreign substances, and detecting the disconnections of the wiring pattern and defects of width abnormality from a processed result.例文帳に追加

異物に反応せずに、配線パターンの形状にのみ反応するフィルタ処理を適用し、その処理結果から配線パターンの断線または幅異常の欠陥を検出する方法を提供することにある。 - 特許庁

The appearance inspection is applied to the downward surface 1a where the transfer pattern of the transfer mold 1 is formed and determines whether there are defective parts on the transfer mold 1 so as to prevent the defects of the wiring pattern prior to transferring to the substrate.例文帳に追加

配線パターンの欠陥を防止するため、基板への転写に先立ち、転写用型１に欠損部があるかどうか、転写用型１の転写パターンの形成面１ａを下向きにして外観検査を行う。 - 特許庁

Since the minute defect of the mold which causes the destruction of the mold by an imprint and the defect of the transfer pattern can be reduced, the extension of the life of the mold and the formation of a good transfer pattern with defects reduced are made possible.例文帳に追加

これにより、インプリントによるモールド破壊や転写パターン欠陥の原因になるモールドの微小欠陥を低減できるため、モールドの長寿命化と欠陥の少ない良好な転写パターン形成が可能となる。 - 特許庁

To provide a treating agent which is used to decrease the surface defects, so-called, defects, caught by a specific inspection apparatus relating to the resist patterns formed by using a chemical amplification type positive resist and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジストを用いて形成したレジストパターンについて、特定の検査装置によりキャッチされる表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させるために用いられる処理剤、及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide manufacturing technology of a semiconductor device, which can extract a representative defect that reflects an occurrence situation of a detected defect in a process for detecting a plurality of the defects existing in a pattern formed in a semiconductor substrate, extracting the prescribed number of the defects from a plurality of the detected defects and inspecting an appearance on the prescribed number of the extracted defects.例文帳に追加

半導体基板に形成されたパターンに存在する複数の欠陥を検出し、検出した複数の欠陥の中から所定数の欠陥を抽出した後、抽出した所定数の欠陥について外観検査を実施する工程において、検出した欠陥の発生状況を反映した代表的な欠陥を抽出することができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and forms a green colored pattern having excellent chemical resistance.例文帳に追加

カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、耐薬品性に優れた緑色着色パターンを形成しうる着色感光性組成物を得ること。 - 特許庁

To provide a pattern for evaluation and a photomask for forming the pattern for evaluation capable of evaluating irregularity defect detection capacity and capacity for detecting and analyzing periodicity of irregularity defects in an inspection device for inspecting irregularities of a body to be inspected having a periodic pattern.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ検査をする検査装置の、ムラ欠陥検出能力やムラ欠陥の周期性を検出・解析する能力を評価することが可能な、評価用パターンおよびその評価用パターンを形成したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a conform extruding device with which extruding pressure is adjusted so that defects such as a wave pattern and necking are not generated on products and which contributes to the improvement of productivity.例文帳に追加

製品に波模様やくびれなどの欠陥が生じないように押出圧力調整が図れ、生産性の向上を寄与する、コンフォーム押出装置の提供。 - 特許庁

This treating agent for decreasing the chemical amplification type resist pattern defects consisting of an aqueous solution of a pH ≤3.5 containing a hardly volatile aromatic sulfonic acid of a molecular weight ≥200 is prepared.例文帳に追加

分子量２００以上の難揮発性芳香族スルホン酸を含む、ｐＨ３．５以下の水性溶液からなる化学増幅型レジストパターンディフェクト低減用処理剤とする。 - 特許庁

To provide a multi-pattern wiring board assuredly and effectively inspecting defects caused by displaced laminates in a green sheet on manufacturing, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

製造時におけるグリーンシートの積層ずれに起因する不良を確実に且つ効率良く検査できる多数個取り配線基板、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In defect detection of conductor patterns 20, 21, there is a case that defects cannot be detected by a comparative inspection, using a periodic pitch, in each outermost pattern 22, 23, 26, and 27.例文帳に追加

導体パターン２０，２１の欠陥検出において、最外部パターン２２，２３，２６，２７での周期ピッチを用いた比較検査では、欠陥を検出できない場合がある。 - 特許庁

To provide a pattern evaluation method using an electron beam device, having good beam resolution, eliminating the problem of deviation of rotation attitude, capable of inspecting defects of masks with high throughput.例文帳に追加

電子線装置を使用し、ビーム分解能が良く、しかも回転姿勢のズレの問題を無くしたパターン評価方法、及び高スループットでマスクの欠陥検査を可能とする。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition excellent in sensitivity and resolving power, suppressing the occurrence of development residue and development defects and excellent also in shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist material capable of suppressing pattern defects of a chemically amplified resist film caused by base species from outside, and to provide a patterning method using the same.例文帳に追加

外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

The copy of the test pattern may exhibit readily-detectable image defects, manifest as 'readings' which the user can communicate to a computer, such as through a user interface.例文帳に追加

このテストパターンのコピーは、容易に検出可能な画像欠陥を示し、また、「読み取り値」として現れ、ユーザインタフェースのようなものを通じてユーザがコンピュータに伝達することができる。 - 特許庁

To form the gate, source and drain electrodes of a compound semiconductor device without causing any of pattern defects by using a simple method and not using a lift-off method.例文帳に追加

リフトオフ法を用いずに、簡易な手法で化合物半導体装置のゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を各種パターンに欠陥を生ぜしめることなく形成する。 - 特許庁

To provide a novel fluorine-containing compound that suppresses occurrence of defects in resist pattern formation, and a polymer compound comprising the fluorine-containing compound as a monomer unit thereof.例文帳に追加

レジストパターン形成におけるディフェクトの発生を抑制できる、新規な含フッ素化合物、および該含フッ素化合物をモノマー単位とする高分子化合物を提供する。 - 特許庁

To form a barrier of desired line pattern without making defects at the vicinity of the end portion in forming a barrier by sandblast method.例文帳に追加

サンドブラスト法により障壁を形成するに際して、端部付近に欠陥を生じることなく、所望のラインパターンの障壁を形成することができるようにすること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, without producing coverage defects caused in the cross-sectional shape of a conduction film pattern by simplifying the manufacturing process, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

製造プロセスの簡略化が図れ、導電膜パターンの断面形状に起因するカバレッジ不良が生じることのない半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method capable of shortening a cycle time for correcting defects by correcting a plurality of defective parts of a rib with a simple procedure.例文帳に追加

リブの複数の欠陥部を簡単な手順で修正することによって、欠陥修正のタクトタイムを短縮することが可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition from which a good pattern is obtained with high sensitivity and which suppresses time lapse deterioration and prevents the occurrence of image defects such as a chip even after the passage of time.例文帳に追加

高感度に良好なパターンが得られ、経時劣化を抑えて経時後でも欠け等の画像欠陥の発生が防止された感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition that improves edge roughness of a pattern and suppresses occurrence of development defects and a change in line width with the lapse of time.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥が抑制され、且つ引きおき経時による線幅変動が改善されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for dyeing a bath towel fabric, by which a pattern having natural delicate changes in stead of partial irregular color changes as defects can be applied to the bath towel fabric.例文帳に追加

本発明は、欠陥としての部分的な色ムラではなく、自然で微妙な変化に富んだ模様を浴用タオル布帛に施すことのできる染色方法を提供する。 - 特許庁

To aim at reduction of pattern-forming defects of an organic EL element part and restraint of degradation of a light volume, in an illuminating device made by arraying a plurality of organic EL elements in parallel.例文帳に追加

複数の有機ＥＬ素子を並列させてなる照明装置において、有機ＥＬ素子部のパターン形成不良の低減や、光量低下の抑制を図る。 - 特許庁

To provide a color filter in which the peeling of a colored pattern is suppressed and which can suppress the occurrence of display defects due to a light leak and foreign matter when used in a display device.例文帳に追加

着色パターンの剥がれが抑制され、表示装置に用いた際、光漏れや異物による表示欠陥の発生を抑制し得るカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for refining a resin-dissolved solution, the method minimizing fine particles and dirt, etc., and significantly reducing the number of defects in a pattern.例文帳に追加

微細粒子及びゴミ等を極力低減させ、パターンにおける欠陥数を大幅に低減することができる樹脂溶解液の精製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam or extreme ultraviolet superior in lithography characteristics such as sensitivity and resolution by suppressing defects, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディフェクトを抑制でき、かつ感度、解像性等のリソグラフィー特性にも優れた電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin forming a resist pattern prevented from the occurrence of defects of a resist film in liquid-immersion exposure, and having excellent line edge roughness and top shape.例文帳に追加

液浸露光の際にレジスト膜の欠陥発生を抑制でき、さらにラインエッジラフネス及びトップ形状に優れたレジストパターンを形成できる樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display member with excellent display definition and a plasma display at low cost, by forming barrier ribs without flip-ups or pattern defects.例文帳に追加

跳ね上がりやパターン欠陥のない隔壁を形成し、表示品位に優れたプラズマディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマディスプレイを低コストで提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive film having sufficiently high release property of a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition from a support film and allowing formation of a resist pattern free of defects.例文帳に追加

感光樹脂組成物からなる感光層の支持体フィルムからの剥離性が十分に高く、欠陥のないレジストパターンを形成できる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device for defects in a nonplated part not plated and a plated part plated on a surface of a substrate having a metal pattern.例文帳に追加

金属パターンを有する基板の表面に施されためっきされていない非めっき部とめっきがされているめっき部の欠陥検査方法及び検査装置の提供である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power, ensuring low edge roughness of a line pattern and nearly free of development defects in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having high sensitiv ity and high resolving power, giving a rectangular resist pattern, having good wettability with a developing solution and nearly free from development defects.例文帳に追加

高感度、高解像力で、矩形形状のレジストパターンを与え、現像液への濡れ性が良好で現像欠陥が少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Problems of defects of a via, a contact and a wiring pattern in production can be grasped from a signal outputted from the section 14 to the outside of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

テスト信号出力部１４から半導体集積回路外部に出力される信号から、ビアやコンタクトや配線パターンの欠陥の製造上の問題を把握できる。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects, particularly pattern collapse of semiconductor devices occurring during the manufacturing process without sacrificing a throughput, and to provide a processing solution therefor.例文帳に追加

製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。 - 特許庁