「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device, capable of improving the planarity of the recessed bottom surface of a silicon substrate, forming a highly accurate silicon uneven surface pattern, and suppressing the occurrence of pattern defects.例文帳に追加

シリコン基板の凹部底面の平坦度を改善し、精度の高いシリコン凹凸面パターンを形成可能とし、パターン不良の発生を抑制できる半導体デバイスの製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a linear pattern detection method capable of extracting and detecting, without being affected by thinning-out measurement, a linear pattern characterized in a shape in which microscopic defects are dispersed.例文帳に追加

間引き測定の影響を受けることなく、微視的な欠陥分布形状に特徴のある線状パターンを抽出して検知することができる線状パターンの検知方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method for inspecting only a product section regarding a pattern inspection method for detecting defects in a sheet-like printed matter where the same pattern is continuously printed on a continuous sheet.例文帳に追加

連続するシート上に同一の絵柄が連続して印刷されるシート状印刷物の欠陥を検出する絵柄検査方法に関し、製品部分のみを検査する検査方法の提案。 - 特許庁

Consequently, it is made possible to attain the reduction in resin pattern destruction or defects, as well as improvement of the mold for long life so that both of good transfer pattern formation in the imprinting method and substantial cost reduction may be expectable.例文帳に追加

これにより、樹脂パターン破壊や欠陥の低減、モールドの長寿命化が可能となり、インプリント法における良好な転写パターン形成と大幅なコストダウンが期待できる。 - 特許庁

To provide a lost foam pattern casting method capable of filling a high temperature melt into an entire pattern without increasing the number of gates and of effectively suppressing scum defects.例文帳に追加

ゲートの数を多くすることなく高温の溶湯を模型全域に充填することができ、残渣欠陥を効果的に抑制することができる消失模型鋳造法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To detect defects in a minute wiring pattern formed on a sample by improving the contrast of an optical image of the sample formed by the interference between the zeroth and higher-order diffracted light of reflected light arising from illuminating light reflected by the sample surface, in a defects detecting optical system which detects defects in a pattern formed on the sample surface.例文帳に追加

試料表面に形成したパターンの欠陥を検出する欠陥検出光学系において、照明光により試料表面で反射した反射光の０次光と高次回折光の干渉により形成される試料の光学像のコントラストを向上させることにより、試料上に形成された微細な配線パターンの欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁

To reduce film thickness after wet development by a relatively large value and to form a resist pattern free from development defects.例文帳に追加

湿式現像後の膜減り量を比較的大きな値に保持して現像欠陥のないレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To make the inspection of pattern defects possible in a photomask using a resist as a light shield by a photomask defect inspection device which detects transmitting light.例文帳に追加

レジストを遮光体としたホトマスクにおいて、透過光検出型のホトマスク欠陥検査装置によるパターン欠陥検査を可能にする。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of detecting micro defects on a sample with high sensitivity without causing speckle noise in signals.例文帳に追加

試料上の微小欠陥を信号にスペックルノイズを発生すること無く、高感度に検出できるパターン欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method capable of correcting, with high quality, the defects in arbitrary shapes at a thin wire of around 10 μm diameter.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で任意形状の欠陥を高品位で修正することが可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To prevent defects of mounting electronic components on the land of a circuit pattern on a circuit board which uses a lead frame.例文帳に追加

本発明はリードフレームを用いた回路基板において回路パターンのランド部への電子部品の実装不良を防止するものである。 - 特許庁

A mask is formed for the characteristic pattern in which the density of defects caused by a function-defective nozzle of a micro-deposition head is reduced.例文帳に追加

マスクは、マイクロデポジションヘッドの機能不良ノズルのために起こる欠陥の密度を低減する特徴パターンに対して形成される。 - 特許庁

To provide an immersion lithographic apparatus that improves a stability of meniscus to control pattern defects caused by bubbles in an immersion liquid or the like.例文帳に追加

メニスカスの安定性を向上させて、液浸液中の気泡などによるパターン欠陥を低減する液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To rapidly inspect shape defects in a minute pattern on a magnetic recording medium, formed from patterned media, that is an object of inspection.例文帳に追加

被検査対象であるパターンドメディアからなる磁気記録媒体の微細なパターンの形状欠陥を高速で検査できるようにする。 - 特許庁

To provide a photomask which suppresses generation of incremental defects on its surface, and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

フォトマスクの表面に成長性欠陥が発生することを抑制するフォトマスク及びフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device whose wiring resistance ratio is made small, and moreover the defects of a wiring pattern is reduced.例文帳に追加

配線抵抗比を小さくすることができ、しかも、配線パターン不良を低減することのできる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a lithography original, a continuous pattern of periodic patterns 4 which appear on a circuit pattern 3 is formed over the substantially whole area of a substrate, and defect inspection is performed to detect defects in the continuous pattern.例文帳に追加

実施の形態のリソグラフィ原版の製造方法は、回路パターン３に表れる周期的パターン４を連続させた連続パターンを基板の略全面にわたって形成し、連続パターンの欠陥を検出する欠陥検査を行う。 - 特許庁

In the wiring pattern inspection method, electromagnetic waves are irradiated to the surface of a ceramic green body, in which a wiring pattern is formed in its surface or in the inside, and the presence or absence of defects of the wiring pattern is detected, on the basis of the amount of transmission of the electromagnetic waves.例文帳に追加

また、表面又は内部に配線パターンが形成されたセラミックグリーン体の表面に電磁波を照射し、該電磁波の透過量から前記配線パターンの欠陥の有無を検知する配線パターンの検査方法である。 - 特許庁

In the wiring pattern inspection method, electromagnetic waves are irradiated to the surface of a ceramic sintered body, in which a wiring pattern is formed on its surface or inside, and the presence or absence of defects of the wiring pattern is detected, on the basis of the amount of transmission of the electromagnetic waves.例文帳に追加

さらに、表面又は内部に配線パターンが形成されたセラミック焼結体の表面に電磁波を照射し、該電磁波の透過量から前記配線パターンの欠陥の有無を検知する配線パターンの検査方法である。 - 特許庁

All stripe defects contained in the dummy pattern and the main pattern are inspected, and the stripes of the dummy pattern or the main pattern rather than the defective stripes are subjected to electron beam exposure process, so that masks are improved in manufacturing yield.例文帳に追加

ダミーパターン及びメインパターンに含まれている全てのストライプの欠陥を調べ、その結果を用いてメインパターンまたはダミーパターンの欠陥ストライプの電子ビーム露光工程を行う代わりに、ダミーパターンまたはメインパターンのストライプの電子ビーム露光工程を行うことにより、マスクの製造収率を高めることができる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To efficiently detect abnormalities such as disconnection, defective surface, vertical shape defects (such as furrowing) by forming a wiring pattern for measuring the dimension of the wiring pattern of a semiconductor device, measuring the electric resistance of the pattern, and evaluating the dimension of a pattern width using the resistance.例文帳に追加

半導体装置の配線パターンの寸法測定用の配線パターンを形成し、そのパターンの電気抵抗値の測定を行い、抵抗値でパターン幅の寸法を評価することにより、断線及び平面形状不良・垂直形状不良（くびれ等）の異常の検出を効率良く行う。 - 特許庁

To provide a resin foamed stock as a resin foamed body suitable for utilization as the original pattern of a lost foam pattern in a full mold casting method which is free from carbon defects caused by carbonized residues, can produce a casting free from gas defects as well and further corresponds to an environmental problem or the like.例文帳に追加

フルモールド鋳造法における消失性模型の原型として利用するのに好適な樹脂発泡体であって、炭化残留物による炭素欠陥がなく、またガス傷を生じない鋳造物を製造することができ、さらに環境問題等に対応した樹脂発泡素材の提供。 - 特許庁

In this method, a means of synchronization with detection of defects to calculates amount of image features of the defect, and a means for classifying defects into clusters, depending on the calculated amount of image features are added to the high-speed pattern defect inspection system.例文帳に追加

高速のパターン欠陥検査装置に、欠陥の検出に同期して欠陥の画像的特徴量を計算する手段と、計算された特徴量によって欠陥をクラスタに分類する手段とを付加する。 - 特許庁

The inspecting pattern corresponding to an individual wiring board with defects in an inner layer circuit has a configuration wherein a resistance value between the conductive pattern and the conductor is varied to indicate the presence of defects in the corresponding individual wiring board by the resistance value of the pattern.例文帳に追加

検査パターンは、各層の導電パターンおよび各層の導電パターンを電気的に接続する導電体からなり、内層回路に不良を有する個別配線板に対応した検査パターンは、その導電パターンと導電体の間の抵抗値を変化させ、パターンの抵抗値により対応する個別配線板の不良の有無を示す構成を有している。 - 特許庁

To provide a novel cleaning fluid for lithography, the liquid reducing surface defects, that is the so-called "defects" of a product regarding a photoresist pattern, preventing pattern collapse during water rinsing, imparting electron beam irradiation resistance to a resist to suppress pattern shrinkage, and that is free from bacteria contamination during storage.例文帳に追加

ホトレジストパターンについて、製品の表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、水リンス時におけるパターン倒れの発生を防止し、またレジストの電子線照射に対する耐性を付与して、パターンの収縮を抑制するために用いられ、しかも保存中にバクテリアによる汚染を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄液を提供する。 - 特許庁

To provide a steel sheet having excellent surface quality after plating in which occurrence of a chevron pattern and surface defects caused thereby can be suppressed, at a low cost.例文帳に追加

安価に山形模様やそれに起因する表面欠陥の発生を抑制できるメッキ後の表面品質に優れた鋼板を提供する。 - 特許庁

To prevent pattern defects by improving the resolution of a resist material to be used for lithography when no barrier film is prepared on a resist film.例文帳に追加

レジスト膜の上にバリア膜を設けないリソグラフィに用いるレジスト材料の解像性を向上してパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

Defects are determined thereby at the same time in the pattern inspection, and a through-put of the inspection is enhanced proportionally to the number of the electronic optical systems.例文帳に追加

これにより、パターン検査の欠陥判定を同時に行えるとともに、電子光学系の数に比例して検査のスループットが向上する。 - 特許庁

To realize a pattern inspection method and an inspection apparatus with a simple structure, which surely detect killer defects but do not detect one being not the killer defect.例文帳に追加

キラー欠陥は確実に検出するが、非キラー欠陥は検出しない簡単な構成のパターン検査方法及び検査装置の実現。 - 特許庁

To suppress the occurrence of defects in a resist pattern in immersion exposure in which exposure is carried out through a liquid film in a local region on a substrate.例文帳に追加

基板上の局所的な領域に液膜を介して露光する液浸露光において、レジストパターンに欠陥が発生することを抑制する。 - 特許庁

To provide an immersion multiple exposure method capable of reducing pattern defects in executing multiple exposure; and an immersion exposure system.例文帳に追加

多重露光を行う際にパターン欠陥を低減できる液浸多重露光方法及び液浸露光システムを提供することを目的としている。 - 特許庁

When a circuit pattern of the photomask 116 has defects, polarization state is changed at reflection time, to thereby generate an orthogonal linearly-polarized component.例文帳に追加

フォトマスク１１６の回路パターンに欠陥があると、反射時に偏光状態が変化し、直交する直線偏光成分が生成される。 - 特許庁

To reduce defects generated in an etching process and a wiring material embedding process, in a region where the transfer of a pattern by a template is not performed.例文帳に追加

テンプレートによるパターンの転写を行わない領域においてエッチング工程や配線材料埋め込み工程で生じる欠陥を低減する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can give a resist pattern having an excellent exposure margin and a mask error factor and less generation of defects.例文帳に追加

優れた露光マージン及びマスクエラーファクターを有し、且つ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern correction device comprises a correction head 6 which corrects the defects on a color filter substrate 3 arranged on a stage 2.例文帳に追加

本発明によるパターン修正装置は、ステージ（２）上に配置したカラーフィルタ基板（３）に存在する欠陥を修正する修正ヘッド（６）を具える。 - 特許庁

To provide a dry etching method that does not generate conical-pattern defects in a separation groove, when the separation groove is formed on a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板に分離用溝を形成するときに、分離用溝に円錐状のパターン欠陥の生じないドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problems caused by charge-up at the correction of the defects of an isolated pattern, in a photomask that uses a focused ion beam microfabrication device.例文帳に追加

集束イオンビーム微細加工装置を用いたフォトマスクの孤立パターンの欠陥修正時のチャージアップに起因する問題点を解決する。 - 特許庁

Defects are determined thereby at the same time in the pattern inspection, and a throughput of the inspection is improved proportionally to the number of the electronic optical systems.例文帳に追加

これにより、パターン検査の欠陥判定を同時に行えるとともに、電子光学系の数に比例して検査のスループットが向上する。 - 特許庁

To provide an imprinting method which has superior mold-releasing characteristics between a mold and a resin, reduces pattern defects due to the resin and has a high-precision pattern formed at a low cost, and also to provide an imprinting device using the imprinting method.例文帳に追加

モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂によるパターン欠陥を低減させ、安価に高精度パターンを形成するインプリント方法、および該インプリント方法を用いたインプリント装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and a method for it which can finely set an area where a high accuracy inspection is required, suppress detection of untrue defects and rapidly inspect a pattern.例文帳に追加

高精度の検査が必要なエリアをきめ細かく設定し、かつ擬似欠陥の検出を抑制しつつ、迅速にパターン検査をすることが可能なパターン検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for improving uniformity in adherence and ensuring formation of a pattern with less defects without generating an acid at the adherence portion of fine particles, and to provide a device production process.例文帳に追加

微粒子の付着部分に酸を発生させることがなく、付着の均一性を向上させ、低欠陥なパターンを形成することが可能となるパターン形成方法、デバイス作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for inspection of a hard disk media, capable of reducing a stray light component included in spectral reflection intensity, and capable of accurately detecting a pattern shape on the pattern disk surface, or surely pattern defects.例文帳に追加

本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。 - 特許庁