「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To solve the problem in detection of a pattern of a glass substrate for flat panel display and defects of a peripheral part thereof wherein the distortion of the glass substrate by dead weight causes gradation disorder by focal point slippage and distortion of illuminating transmitted light in a taken image, which deteriorates or unstabilizes the detection accuracy.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ用のガラス基板のパターンと周辺部の欠陥を画像処理で検出する際、ガラス基板の自重による撓みにより撮像画像に焦点ズレと照明透過光のゆがみによる階調乱れが生じ、検出精度が低下、不安定化している。 - 特許庁

To provide a new electronic component manufacturing method enabling reduction of the number of steps of overprinting, precise overprinting pattern position accuracy (alignment accuracy), and lamination without substantial level difference so as to improve the productivity and the size accuracy, and solve the problem of missing/defects.例文帳に追加

重ね印刷工数の低減、精密な重ねパターン位置精度（アラインメント精度）および、実質的に無段差の積層を可能とすることにより、生産性の向上、寸法精度の向上、欠損・欠陥解消を可能とする新規な電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus independently including a black image forming section and color image forming sections, the image forming apparatus extending the life of a color photoreceptor by application of a lubricant thereto, allowing black toner to be recyclable, and preventing defects in image formation such as a void in an image detection pattern and deterioration in transfer ratio.例文帳に追加

黒の作像部がカラーの作像部と独立している画像形成装置において、潤滑剤塗布によるカラー感光体の長寿命化と、黒トナーのリサイクルを図り、また画像検知パターンの中抜け、転写率低下などの作像の不具合を防止する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass which can eliminate defects due to the fluorescence emission of an optical material used for a stepper exposure device used for the exposure and the transfer of a fine pattern of an exposure device, a laser processing device, an optical cleaning device, an integrated circuit or the like to reduce intensity of fluorescence emission, and which has excellent transmission performance.例文帳に追加

露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。 - 特許庁

To provide a printed wiring board capable of totally confirming misalignment between via holes and wiring patterns immediately after wiring pattern formation of the printed wiring board, and taking corrective action by discovering failures in the early stage to feed back the failures to a process in the case of continuous defects; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

プリント配線板の配線パターン形成直後に、バイアホールと配線パターン間の位置ズレを全数確認することが可能で、異常を早期発見して連続不良の場合には工程にフィードバックし、是正処置を取ることができるプリント配線板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a polymer for a resist, having small line edge roughness and slightly forming microgel and defects when used as a resist resin in DUV excimer laser lithography, electron beam lithography, etc., and a resist composition and to provide a method for pattern production using the resist composition.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト樹脂として用いた場合に、ラインエッジラフネスが小さく、マイクロゲル及びディフェクトの生成も少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

A framing voltage pulse is inserted between each successive selected pixel voltage pulse in such a manner that the effective selection time is independent of the preceding and following non-selected pixel voltages, whereby defects depending on the data pattern in a displayed image are eliminated.例文帳に追加

ここで、有効選択時間が、その前後の選択されない画素の電圧に無関係であり、それによって、表示された画像におけるデータパターンに依存した欠陥が排除されるように、各々の連続する選択された画素電圧パルスの間にフレーム電圧パルスが挿入される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for forming a fine circuit wiring having a superior embedding property of copper and a high electrical reliability on a substrate provided with a fine circuit pattern for an electronic circuit such as a silicon wafer, without producing defects such as a seam void in a channel, by electroless copper plating.例文帳に追加

微細な回路パターンが設けられたシリコンウェハ等の電子回路用基板に対し、無電解銅めっきにより溝内部にシームボイド等の欠陥が生じることがなく、優れた銅の埋め込み性と高い電気信頼性を有する微細回路配線を形成する技術を提供すること。 - 特許庁

To provide high-polymer thin film and pattern media having a structure further reduced in size and featuring superior regularity and fewer defects over a wide range than in conventional ones and methods for manufacturing the same, and to provide a surface modifying material used in those manufacturing methods.例文帳に追加

従来よりも更にサイズが微細化した構造であって、広範囲に亘って規則性に優れ、欠陥の少ない構造を有する高分子薄膜、パターン媒体、及びこれらの製造方法、並びにこれらの製造方法に使用する表面改質材料を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, by which when a large number of individual patterns arranged parallel with one another are formed by dry-etching a conductive material joined to an insulating material, the side faces of the patterns are made free of the occurrence of etching defects, such as etching residue (footing) and a wedge-shaped cut (notching).例文帳に追加

絶縁材料上に接合された導電性材料にドライエッチングを施して、多数並列配置された個々のパターンを形成するにあたり、パターンの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常が生じないパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a forming method of an aligner and a fluorescent screen in which a fluorescent screen, that prevents irregular reflection in the aligner and has a pattern of desired size, can be formed and in which occurrence of display defects in the color cathode-ray tube can be prevented.例文帳に追加

露光装置内部での乱反射を防止し、所望サイズのパターンを有する蛍光体スクリーンを形成できるとともに、カラー陰極線管での表示不良の発生を防止できる露光装置、及び蛍光体スクリーンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head by which defects of exfoliation, loss or the like of a metal film are eliminated, and microfabrication is attained without an increase of its dimension and satisfactory characteristics, quality and a yield are achieved in the formation of the metal film onto a pattern opening part of insulation films on a substrate.例文帳に追加

基板上の絶縁膜のパターン開口部への金属膜の形成にあたり、金属膜の剥離や消失などの不良を無くすことができ、寸法の拡大もなく微細化が可能で、特性、品質、歩留まりの良い薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored film for coating a metallic sheet which is improved in safety, a hygienic property and an environmental problem to improve a design property of a printing surface by masking defects such as a flaw and a pattern formed on the surface of the metallic sheet to control deterioration of the metallic sheet appearance quality.例文帳に追加

金属板の表面に形成された傷や模様等の欠陥を遮蔽することによって金属板外観品質の低下を抑制し、安全、衛生性、環境面で改善された、印刷面の意匠性を改善する金属板被覆用着色フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and the device capable of distinguishing black stains, non-black stains and tears, without determing pattern as a defect, when performing an inspection of defects, such as stains, tears and defective shape in a sheet-like article that varies widely in color reproducibility (dispersion, color unevenness and/or color fading).例文帳に追加

色の再現性に幅（ばらつき、色ムラおよび／または色あせ）のあるシート状物品における汚れ、破れ、形状不良等の欠陥検査において、模様を欠陥と判定せず、かつ、黒汚れ、非黒よごれおよび破れの判別が可能な検査方法および装置の提供。 - 特許庁

To provide a polymer which is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, is little in defects, when developed, and is excellent in copolymerizability with other monomers, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate with ventilation holes in which soldering defects can be prevented in reflow of a large-sized electronic component of a large heat capacity or the like, excess heat is not applied to the body of the electronic component and further, limitations of the substrate with respect to the arrangement of a conductive pattern are also reduced.例文帳に追加

熱容量の大きな大型電子部品等の、リフロー時のはんだ不良を防止することができると共に、当該電子部品本体には過剰な熱が加わることなく、さらに、基板の導電パターンの配置に対する制約も少なくした、通風孔を備えた基板の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic laminate which enables to eliminate a step due to the thickness of a conductor pattern and to suppress the deformation of a ceramic laminate even when making ceramic green sheets thinner and increasing the number of layers, and also enables to suppress the decrease in insulation resistance or the generation of short-circuit defects.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを薄層化して積層数を増加した場合にも、導体パターンの厚みによる段差を無くし、セラミック積層体の変形を抑えることができるとともに、絶縁抵抗の低下やショート不良の発生を抑制できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist laminate having high resolving power in exposure with light in the far ultraviolet region, giving a resist pattern with little line wave in the case of a time line/space of ≤0.2 μm, nearly free of development defects and having high suitability to production.例文帳に追加

遠紫外領域の露光に対応して高い解像力を有し、しかも０．２μｍ以下の微細なライン／スペースにおいて、ラインうねりの少ないレジストパターンを与え、現像欠陥の発生量が少なく、高い製造適性を有するポジ型レジスト積層物を提供すること。 - 特許庁

To provide a carrier for electrostatic charge image development, the carrier capable of suppressing increase in the size of an image forming apparatus and suppressing image defects caused by buckling of a cleaning blade when images of the same pattern are continuously formed or the carrier is used for a long period of time.例文帳に追加

画像形成装置の大型化を抑制できる上に、同一パターンの画像を連続して形成した場合や、長期に渡る使用においてもクリーニングブレードのめくれに起因する画像欠陥を抑制することができる静電荷像現像用キャリアを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film with improved yields without losing appearance quality by accurately forming a fine line having a line width of 50 μm or smaller without any defects, such as variations in line width and disconnection, when printing a shield pattern by a screen print method.例文帳に追加

スクリーン印刷法によりシールドパターンを印刷する際に、線幅５０μｍ以下の微細なラインを正確に、線幅のばらつきや断線といった欠陥なく形成し、外観品質を損なうことなく、且つ歩留まりよく透明導電性フィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus includes a light source 4 for irradiating the surface of a steel plate with light at a wavelength of 10.6 μm or longer and a detecting system for detecting minute defects in accordance with a light-dark pattern obtained by focusing and diffusion of light reflected by minute irregular flaws with irregularities on the surface of the steel plate.例文帳に追加

鋼板表面に波長が１０．６μm以上の光を照射する光源４と、前記鋼板表面の微小凹凸疵で反射された光の集束及び発散によって得られる明暗パターンに基づいて微小欠陥を検出する検出系とを有する。 - 特許庁

To obtain tinted paper for printed decorative sheet, which opacifies defects such as color unevenness, gnarl pattern, etc., existing in the substrate of a printed decorative sheet, is recovered and reused as the paper resource of a paper material and prevents a defective appearance of a decorative sheet caused by admixtures and pitch contained in the paper material.例文帳に追加

プリント化粧板の基材に存在する色ムラや節模様等の欠点を隠蔽でき、紙質材の紙資源としての回収再使用が可能であり、紙質材中に含まれる夾雑物やピッチ分による化粧板の外観不良を防止できるプリント化粧板用着色紙を提供する。 - 特許庁

A method for sorting defects of a semiconductor device comprises steps of extracting a wiring position which becomes a fault candidate by superposing layout pattern data of a semiconductor chip with a defecting image, discriminating wirings of the extracted fault candidate according to a wiring function type, and sorting a short-circuit mode type, a disconnection mode type or the like according to a wiring fault mode type.例文帳に追加

半導体チップのレイアウトパターンデータと欠陥画像との重ね合わせによって、不良候補となる配線箇所を抽出し、抽出した不良候補の配線の配線機能種別を弁別することで、ショートモード種別や断線モード種別等の配線不良モード種別を分類する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

Further, since conventionally the connection test has been conducted between the logic section and the line address, the column address in the whole LSI operation test resulted in low defect detection rate; however it can be conducted in a scan test and a test pattern which has a high detection rate of the circuit defects can be created automatically.例文帳に追加

さらには、ロジック部とメモリ間の行アドレス及び列アドレスの接続テストを従来は、ＬＳＩ全体の実動作テストで行っていたため、回路の故障検出率を低かったが、この発明によりスキャンテストにより行うことができ、回路の故障検出率が高いテストパターンを自動で作成することができる。 - 特許庁

To realize the expansion of a pixel gradation by controlling the charging time of a pixel capacitor, to massively increase the quantity of colors which can be displayed and to eliminate defects which can form lattice like stripe pattern in a vision when making use of human eye residual and vision inertia property.例文帳に追加

画素キャパシタの充電時間を制御することにより画素階調の拡張を実現し、表示可能な色の数量を大幅に増加するとともに、人の目の残留と視覚惰性の特性を利用する時に視覚で格子状の縞を形成する可能性のある欠陥を克服することを目的とする。 - 特許庁

The surface of an object to be inspected having wiring formed thereon is photographed by an electronic camera, a wiring pattern included in the photographed image is detected, wiring images inclined to alignment of pixels out of the detected wiring patterns are extracted, and the presence or absence of defects of the extracted wiring images is determined.例文帳に追加

表面に配線が形成された検査対象物の表面を電子カメラで撮像し、その撮像した画像に含まれる配線パターンを検出し、検出した配線パターンのうち画素の配列に対して傾斜した配線像を抽出し、その抽出した配線像の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank capable of manufacturing a high-quality mask blank with a high yield, while suppressing generation of defects in a thin film for forming a mask pattern, to provide a method for manufacturing a transfer mask manufactured by patterning the thin film of the mask blank, and to provide a sputtering target that is used for manufacturing the mask blank.例文帳に追加

マスクパターンを形成するための薄膜の欠陥発生を抑えた高品質のマスクブランクを、高い歩留まりで製造することのできるマスクブランクの製造方法と、前記マスクブランクの薄膜をパターニングして製造する転写マスクの製造方法、並びに前記マスクブランクの製造に用いるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymer, especially suitably used for the purification of another polymer used in a semiconductor-producing process, and reducing the generation of defects in a resist pattern formed by using the polymer obtained from the purification process.例文帳に追加

重合体、特に半導体製造工程で使用される重合体を精製する精製工程において当該重合体の精製用として好適に使用でき、当該精製工程により得られる重合体を用いて形成されるレジストパターンにおけるディフェクトの発生を低減できる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask used in a photolithography process in which the internal stress of a resist is relieved to suppress cracking of a pattern and warping of a substrate, thereby enhancing the reliability of a photomask and suppressing occurrence of defects, and also to provide a photomask and an exposure method using the same.例文帳に追加

光リソグラフィプロセスに用いるフォトマスク製造方法において、レジストの内部応力の緩和を行ない、パターンに発生するクラックの低減と基板の反りを低減することで、フォトマスクの信頼性向上及び不良発生を低減させるフォトマスクの製造方法及びフォトマスク並びにそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

Then, the exuding portion of the sealing material from the seal chip pattern 2-6A does not cross the splitting line 2-8 of the counter substrate and, therefore, the splitting stress is liable to be applied evenly on the splitting line 2-8 and eventually, the splitting property is improved and the splitting defects in the splitting process may be decreased.例文帳に追加

したがって、シールチップパターン２−６Ａからのシール材の浸み出し部分が対向基板の割断ライン２−８を横切らないため、割断応力は割断ライン２−８上に均等にかかり易くなり、その結果割断性は向上し、割断工程における割断不良を減少することが可能となる。 - 特許庁

The colored photosensitive composition used for correcting minute colored pattern defects in a color filter substrate with a colored layer formed on a substrate contains at least a pigment, an organic solvent and a polyfunctional acrylate monomer without containing a polymer, wherein the polyfunctional acrylate monomer contains a monomer having a soft segment.例文帳に追加

基板上に着色層が形成されたカラーフィルター基板の微小着色パターン欠陥を修正するために用いる着色感光性組成物にポリマーを含有させず、少なくとも、顔料と、有機溶剤と、多官能性アクリレートモノマーを含有させ、さらに、該多官能性アクリレートモノマーにはソフトセグメントを有するモノマーを含有させる。 - 特許庁

To ensure high sensitivity to a short wavelength light source, to suppress the occurrence of development defects and to obtain a superior pattern profile by using a compd. having a specified structure besides an acid decomposable resin and a photo-acid generating agent.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して高い感度を有し、更に現像欠陥の発生が軽減され、優れたパターンプロファイルが得られる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition effectively suppressing surface defects or surface roughening of a coating film when the coating film is dried under reduced pressure, and also to provide a color filter having a pattern formed by using the colored photosensitive resin composition, and a liquid crystal display having the color filter.例文帳に追加

塗膜を減圧乾燥したときの塗膜の表面欠陥や表面荒れを効果的に抑制することが可能な着色感光性樹脂組成物、その着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターンを有するカラーフィルター、及びそのカラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。 - 特許庁

The edge defect detecting method of the invention is provided with the process of enhancing the edge defects at edges E1-E3 in a plurality of the directions D1-D3 in the pattern P, and obtaining edge defect enhancement values by applying an edge defect enhancement filter to a captured image.例文帳に追加

本発明のエッジ欠陥検出方法は、撮像画像にエッジ欠陥強調フィルタを適用することにより、パターンＰにおける複数の方向Ｄ１〜Ｄ３にそれぞれ沿った各エッジＥ１〜Ｅ３に係るエッジ欠陥を強調し、エッジ欠陥強調値を取得するエッジ欠陥強調工程を備える。 - 特許庁

To provide a conductive wiring structure where a catalyst that is to be the base of the conductive wiring pattern can be steadily bonded to a plastic substrate, to increase the adhesiveness of the plastic substrate and the conductive wiring, without using a specific processing or treatment accompanied with a complicated man-hour or various defects and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

煩雑な工数や種々の不具合を伴う特別な加工や処理を必要とせずに、プラスチック基材と導体配線との密着性を高めるために、導体配線パターンのベースとなる触媒がプラスチック基材と強固に接着できる導体配線構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To offer a thin film transistor(TFT) and a display unit which enable screen display with uniform brightness by avoiding defects such as bright spot, which occur when pattern shift is caused by a second gate electrode which restrains variations in threshold voltage resulting from polarization in a flattened film or an interlayer dielectric caused by moisture or impurity ions.例文帳に追加

水分あるいは不純物イオンによって平坦化膜又は層間絶縁膜の分極の発生による閾値電圧の変化抑制のための第２ゲート電極がパターンずれを起こした際の発生する欠点を抑制し、面内で均一な明るさの表示が得られるＴＦＴ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

When the image of the object to be inspected has periodic variations in density, defects on the surface of the object to be inspected are detected by capturing an image of the object to be inspected, dividing the captured image of the object to be inspected into a grid pattern, evaluating the periodicity by the density of each divided grid, and eliminating the periodic variations in density.例文帳に追加

被検査物を撮像した画像が周期的な濃淡を有する場合に、被検査物を撮像し、前記被検査物の撮像画像を格子状に分割し、前記分割された格子毎の濃度で周期性を評価し、その周期的な濃淡を除去することで、被検査物表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

Using a defect detection sensitivity correction standard substrate including a pattern 8 and pseudo-defective sections 7 that are cone defects differing in size and are randomly formed on a silicon substrate 1, defect detection sensitivity is used in product management as an indicator for judging sensitivity adjustment after a lamp 21a in a lighting section 21 of a defect detecting device is replaced.例文帳に追加

パターン８と、サイズの異なるコーン欠陥であり、シリコン基板１上にランダムに形成された擬似欠陥部７とを備えた欠陥検出感度校正標準基板を用いて、欠陥検査装置の照明部２１におけるランプ２１ａの交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。 - 特許庁

To provide a drawing method and a computer program that will not cause defects in resolution on the surface of an object to be drawn for a direct drawing device which forms a desired drawing pattern on the surface of the object to be drawn by irradiating the surface of the object to be drawn with a light throuogh a plurality of spatial optical modulating devices.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

This method for checking the electronic image of the pattern of a mask 30 is provided to expose an electronic image by irradiating a sample 100 to check with an electron beam transmitted through the mask, and to detect the electronic image on the sample 100 to check to form image data, and to compare the normal image data with the checked image data to detect defects.例文帳に追加

マスク３０のパターンの電子像を検査する方法であって、マスクを通過した電子ビームを検査用試料１００に照射して電子像を露光し、検査用試料１００上の電子像を検出して検査画像データを形成し、正規画像データと検査画像データを比較して欠陥を検出する。 - 特許庁