「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent unwanted pattern fragments remaining in a region, except for the formation region for a cylinder type stacked capacitor from causing various defects at its formation.例文帳に追加

シリンダ型スタックドキャパシタを形成する際に、その形成領域以外の領域に不要なパターン片が残存して種々の欠陥を発生させる原因となることを防止することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To suppress the occurrence of defects in the shape of a printed pattern in continuous printing by intaglio offset printing, and to expand the widths of filling rate to the printing plate, transfer rate to a blanket for printing and transfer rate to a transfer medium.例文帳に追加

凹版オフセット印刷による連続印刷において印刷パターンの形状不良を低減し、かつ、印刷版への充填速度、印刷用ブランケットへの転写速度並びに被転写体への転写速度の速度幅をそれぞれ拡げることができる。 - 特許庁

To provide a polymer for a resist, having high sensitivity and high resolution, and hardly causing defects and line edge roughness at development; to provide a method for producing the polymer for the resist; to provide a resist composition containing the polymer for the resist; and to provide a method for producing a pattern by using the resist composition.例文帳に追加

高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device forming a full color image by juxtaposition color mixture of developers, which is capable of preventing a shift between an image carrier and a transfer material generated depending on a print image pattern, which causes image defects such as partially enlarged or reduced images, and image streaks.例文帳に追加

現像剤の並置混色によってフルカラー画像を形成する画像形成装置において、プリント画像のパターンによって、像担持体と転写材とのずれが生じ、部分的な画像の伸びや縮み、画像スジなどの画像不良が発生する。 - 特許庁

Thereby, impurity gas can be removed from air flowing into the storage apparatus, which can significantly decrease the number of foreign matters depositing on the reticle and can suppresses defects induced when a pattern is formed on a wafer by using the reticle.例文帳に追加

よって、保管装置内に流入する空気から不純物ガスを除去することが出来るため、レチクル上に発生する異物の数が著しく低減され、ウェハ上にレチクルを用いてパターン形成する際に発生する欠陥を抑制することが出来る。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a short-wavelength radiation typified by far UV, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring few development defects.例文帳に追加

遠紫外線に代表される短波長の放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method forming a controllable and predictable liquid adhesive filament-pattern by eliminating or suppressing the influence of the manufacturing defects or the deflection of the adhesive filament.例文帳に追加

製造上の欠陥の影響や接着材フィラメントを偏向させる原因の影響を除去する又は出来るだけ少なくする装置及び方法を提供し、これによってより一層制御可能な及び予見可能な液体接着材フィラメント・パターンを作り出す。 - 特許庁

To provide a polymer which can exhibit performances as designed in an objective use, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition which can make a resist film to exhibit performances as designed, and can inhibit defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer which can exhibit a designed performance in an objective use, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition which can make a resist film to exhibit a designed performance and can inhibit defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction device of an electronic circuit pattern, the correction device actualizing defect species which are difficult to be recognized by observation using a conventional correction device relative to defects detected by an electric inspection or the like, and normalizing a pixel or forming a semi-black point therefrom.例文帳に追加

電気検査等で検出された欠陥に対して、従来の修正装置での観察では認識が困難であった欠陥種を顕在化し、画素を正常化あるいは半黒点化できる電子回路パターンの欠陥修正装置の提供。 - 特許庁

To provide a liquid immersion lithography system which minimizes the introduction of particles into the immersion liquid by preventing the immersion liquid from contact with the particulate contamination areas, and which prevents distortions and defects from occurring on the photoresist image and pattern on the wafers.例文帳に追加

液浸流体が微粒子汚染領域に接触しないように、液浸流体に入る微粒子を最小に抑え、ウェーハ上のフォトレジストの画像及びパターンに歪みや欠陥が発生しないようにする液浸リソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a focusing ion beam device that is capable of working precisely perpendicularly without difficulty, the pattern face capable of taking all directions in the remody process case of the defects of patterns having a penetration structure in the electron beam exposure mask.例文帳に追加

本発明の課題は、電子ビーム露光用マスクにおける貫通構造のパターン欠陥を修正加工する際に、あらゆる方向を取り得るパターン面を無理無く正確に垂直に加工することができる集束イオンビーム装置を提供することにある。 - 特許庁

To preclude a subtle edge part difference from being detected as a defect candidate or a defect, when forming a pattern unavoidable on a process in an edge part, and to maintain high detection capability with respect to non-edge part defects.例文帳に追加

エッジ部においてはプロセス上不可避なパターン形成時の微妙なエッジ部差異を欠陥候補、または欠陥として検出しないようにする一方で、非エッジ部欠陥に対しては高い検出力を維持するパターン検査ができるようにする。 - 特許庁

Thereby, a highly reliable electronic control unit can be constituted, without causing built-in defects when the printed board 15 is loaded in the case 11 and without causing damages, etc., in a wiring pattern of the printed board 15, a mounted electronic component, etc.例文帳に追加

これにより、プリント基板１５をケース１１に収容する際に組付不良が発生せず、プリント基板１５の配線パターンや実装された電子部品等に損傷等が生じることがなく信頼性の高い電子制御機器を構築することができる。 - 特許庁

To provide a polymer exhibiting designed performance in the objective use, a method for producing the polymer and a resist composition capable of giving a resist film exhibiting the designed performance and suppressing the generation of defects in a resist pattern.例文帳に追加

目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

As a result, the liquid chemical having small bubble content is supplied to the liquid chemical discharge part and the high quality coating film is formed and, for example, in a photolithography process in the manufacture of a semiconductor, the yield is improved by decreasing pattern defects.例文帳に追加

その結果、薬液吐出部には気泡の含有率が少ない薬液が供給され、良質の塗布膜を形成することができ、例えば半導体の製造におけるフォトリソグラフィー工程においてパターン不良による歩留まりが向上する。 - 特許庁

To eliminate recesses and protrusions becoming defects from a wiring pattern formed on an insulating substrate; and also to eliminate open circuit and short circuit.例文帳に追加

絶縁基材上に形成する配線パターンに、欠陥となる凹部や凸部などがなく、また断線や短絡などがないフレキシブル配線板、およびそのようなフレキシブル配線板を製作するための導体積層フィルム、ならびにそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has proper storage stability, avoids odor annoyance, ensures proper solvent resistance and satisfactory surface smoothness of a cured resin pattern formed therefrom, does not cause coating defects, such as a granular foreign substance, has a high resolution for forming a fine pattern, and can form a photospacer with a superior recovery rate.例文帳に追加

良好な貯蔵安定性で、臭気問題がない感光性樹脂組成物であり、形成した硬化樹脂パターンの耐溶剤性が良好で、表面平滑性に優れ、粒状異物等の塗布欠陥が発生せず、微細パターンが解像可能で、回復率に優れたフォトスペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The optical diffusing film wherein the columnar minute area having the refractive index varied in the perpendicular direction of the resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light is manufactured by using the mask which has the pattern consisting of areas for transmitting light and the pattern intercepting light and in which black defects which occur are partially removed.例文帳に追加

樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥を部分的に除去したマスクを用いることにより解決した。 - 特許庁

Then, a resist pattern 11 and the foreign matter defects are removed by a process, which selectively embeds organic compound 9 in the wiring embedding groove 5 and an organic repaired film 10, a process, which forms a resist pattern 11 for forming the wiring embedding groove 5 again, and a process, which etches the interlayer insulating film and the organic repaired film 10 at the same time.例文帳に追加

そこで配線埋込溝５に有機化合物９を選択的に埋め込み有機修復膜１０を形成する工程、配線埋込溝５形成のためのレジストパターン１１を再度形成する工程、層間絶縁膜２と有機修復膜１０を同時にエッチングする工程を行うことによってレジストパターン１１，異物欠陥が除去される。 - 特許庁

To provide a mask which is used to manufacture an optical diffusing film wherein a columnar minute area having a refractive index varied in the perpendicular direction of a resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light, and has a pattern consisting of areas for transmitting light and a pattern intercepting light and excludes an influence of occurring black defects.例文帳に追加

樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを作製するマスクで、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥の影響を排除したマスクを提供することである。 - 特許庁

To solve the problem that when a delta arrangement is used for a pixel circuit including a TFT(thin film transistor), defects are easy to be increased due to a complicated wiring pattern because the wiring is designed to be bent along the pixel arrangement, and thus, yield is lowered.例文帳に追加

ＴＦＴを含む画素回路にデルタ配列を用いた場合、配線を画素配列に沿って折り曲げて設計するなど複雑な配線形状となり、配線に折れ曲がりが多くなることに起因して欠陥が増えやすく、歩留まり低下の原因になる。 - 特許庁

To provide a negative image forming method, using a negative type developer, which greatly reduces defects due to residue during formation of a negative image so as to stably form a high-precision fine pattern in order to manufacture an electronic device of high integration and high precision.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ画像の形成において、残渣系の欠陥を著しく低減できる、ネガ型現像液を用いたネガ画像形成方法を提供する。 - 特許庁

A high quality weld bead without defects such as a blowhole can be obtained by discharging a plating component from a fused part by quickly evaporating the plating component at a welding part including a heat affected part by the beam strength distribution peculiar to the irradiation pattern and rotational movement of the converging beam L2.例文帳に追加

前記照射パターンの特有のビーム強度分布と集束ビームＬ２の回転運動により、熱影響部を含めた溶接部のめっき成分が急速に蒸発して溶融部から排出され、ブローホール等の欠陥のない高品質な溶接ビードが得られる。 - 特許庁

By this constitution, even if air bubbles are included one printing space, air bubbles disappear in the adjacent printing space and probability, wherein plate separation is performed in such a state that pattern holes 12a are not sufficiently filled, is lowered to prevent printing defects.例文帳に追加

これにより、１つの印刷空間内への気泡混入が発生した場合にあっても、隣接した印刷空間で気泡が消滅し、パターン孔１２ａ内へ充填不良のまま版離れが行われる確率を低下させ、印刷不良を防止することができる。 - 特許庁

To provide a resist material which suppresses the occurrence of a mixed layer of a resist film and a protective film when forming the protective film, can suppress the occurrence of blob defects after exposure and development, and excels in long-term stability and exposure stability, and a pattern forming method using the resist material.例文帳に追加

本発明は、保護膜を形成したときのミキシング層の発生を抑え、露光現像後のブロッブ欠陥の発生を抑えることができる、長期安定性と露光安定性に優れたレジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a recast part produced when a core pattern is laser-cut from a refractory metal-based sheet in a core forming stage according to an investment casting process causes cracks, so as to cause defects in the dimensional precision of the cast hollow components.例文帳に追加

インベストメント鋳造法におけるコア形成工程で耐火金属ベースの金属板からコア原型をレーザ切断する際に生じるリキャスト（ｒｅｃａｓｔ）部分は、亀裂の原因となり、鋳造された中空コンポーネントの寸法精度に欠陥を生じさせる。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device for inspecting surely and efficiently a shape defect of a fine pattern in a color filter having the risk of bringing an unfavorable influence on display coming up widely by generating a plurality of small-sized defects in adjacent positions.例文帳に追加

小サイズの複数の欠陥が近接した位置に発生することにより表示上の悪影響が広く及ぶ可能性のあるカラーフィルタの微細パターンの形状欠陥を確実にかつ効率的に検査する検査方法、ならびに検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a salt that functions as an oxygen generating agent yielding a resist composition of a chemical amplification type forming a pattern showing an excellent configuration, and a photoresist composition of a chemical amplification type that can be suitably used in immersion exposure in particular and allows few defects to occur, or the like.例文帳に追加

優れた形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩及び、特に、液浸露光に好適に用いられ、欠陥の発生が少ない化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an active element array by which point defects caused by the pattern deficit of pixel electrodes can be easily restored.例文帳に追加

点欠陥の修復にかかわるパターンを作り込んだアクティブ素子アレイ基板では、その構造、構成が複雑になり、却って逆にパターン欠損の生じる確率や、いわゆるＧＳ層間ショートの起こる可能性が高くなり、したがって点欠陥の増加、歩留まりの低下を招く。 - 特許庁

To provide a method of forming a thick film pattern, on a substrate, having a good mold-releasing property after adhesion to a substrate, with less possibility of air bubbles entering, less possibility of transcription defects generqated, with good shape precision after transcription without size change, with a low cost, in better yield and with high precision.例文帳に追加

基板との密着後の離型性に優れ、気泡が入り難く、転写欠陥が発生し難く、寸法変化が無くて転写後の形状精度に優れた厚膜パターンを基板上に安価に歩留り良く高精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁

To use an inspection apparatus for improving yields by quickly evaluating whether inspection conditions of the inspection apparatus for detecting the coordinates of defects such as foreign matter and a pattern failure that a substrate has, are appropriate or not, and always maintaining the inspection conditions in an appropriate state.例文帳に追加

基板が有する異物やパターン異常などの欠陥の座標を検出する検査装置の検査条件が適切か不適切かを短時間に評価し、検査条件を常に適切な状態に維持することにより、検査装置を歩留り向上に役立てる。 - 特許庁

An inspection tool in an embodiment includes a light irradiation source generating scattered light including scattered light from the defects of a workpiece, which caused by guiding a light beam on the workpiece, scattered light according to a normal scattering pattern of the workpiece.例文帳に追加

検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。 - 特許庁

In a pattern correction device for placing a substrate on a chuck stage 20 to correct defects of fine patterns formed on the substrate, a lifter unit 30 holds the substrate to be carried in/out so that it is positioned at an upper side of the chuck stage 20.例文帳に追加

リフタユニット３０は、チャックステージ２０上に基板を載置して、基板上に形成された微細パターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、搬入出される基板を上記チャックステージ２０の上方に位置するように保持するリフタユニット３０である。 - 特許庁

To provide molding compound for hot pressed artificial marble and the artificial marble capable of reducing appearance defects of molding generated while molding or by hot water attack, as well as obtaining homogeneous grain tone pattern easily, and preventing abrasion of a metal mold.例文帳に追加

成形時や熱水アタックによる成形品の外観不良の発生を低減させると共に、均一な石目調模様が容易に得られ、かつ金型の摩耗を防止し得る加熱圧縮成形人造大理石用モールディングコンパウンド及び人工大理石を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a laminated capacitor, by which adhesion between a ceramic green sheet and an inner electrode pattern can be improved with a good repeatability, and the thickness can be thinned, and moreover defects in sintering, such as delamination, can be prevented by making a binder-removing process simple.例文帳に追加

セラミックグリーンシートと内部電極パターンの密着性を再現性良く向上できるとともに、薄層化が可能であり、且つ脱バイ工程を簡略化し、焼成時のデラミネーションなどの欠陥を防ぐことができる積層セラミックコンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To constitute a base layer so as to be unlikely to peel off, by changing the pattern shape of the base layer and to thereby suppress generation of defects of a reflection film to enhance a product yield, in a substrate for an electro-optical device or an electro-optical device.例文帳に追加

電気光学装置用基板或いは電気光学装置において、下地層のパターン形状を変更することにより下地層が剥離しにくくなるように構成し、これによって反射膜の不良の発生を抑制して製品の歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.例文帳に追加

良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter which does not have defects such as a white void and color unevenness when provided with a coloring pattern and has superior characteristics demanded as a color filter and is improved in, especially, smoothness and color characteristic, and the color filter manufactured by the same method.例文帳に追加

着色パターンを設けた際の白抜け及び色ムラ等の不具合をなくし、カラーフィルタとしての要求特性に優れ、特に平滑性、色特性を向上させたカラーフィルタの製造方法およびその方法で製造されたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent adhesion and flocculation resistance in development, reducing rib top defects and working a fine pattern on a substrate to be worked in a good yield as a mask material for sandblast, and a sandblast surface working method using the same.例文帳に追加

密着性、現像凝集性に優れ、かつリブ頂部欠損を低減し、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask by which defects in a fine pattern and a hole on a mask for exposure with charged particle rays are accurately detected and to provide an apparatus for inspecting a mask capable of shortening inspection time while ensuring high resolution.例文帳に追加

荷電粒子線露光用のマスク上の微小なパターンやホールの欠陥を高精度に検出するマスク検査方法を提供すると共に、高解像度でありながら検査時間の大幅な短縮が可能なマスク検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁