「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent an increase in pattern defects even when repeatedly using a work stamper to be used for transferring a pattern onto a resist formed on a recording surface of a magnetic recording medium by an imprinting method, thereby reducing the manufacturing cost of the magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having good properties of PEBS (post exposure bake sensitivity), MEEF (mask error enhancement factor), coverage dependence and bridge defects, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢＳ、ＭＥＥＦ、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection system capable of highly accurately determining correlation between the distribution pattern of defects in a semiconductor wafer found in a defect inspection, and the distribution pattern in a defective semiconductor chip found in an electric test, in a short time.例文帳に追加

欠陥検査で発見された半導体ウエハの欠陥の分布パターンと、電気的試験で発見された不良半導体チップの分布パターンとの間の相関関係を、極めて高い確度をもって、より高精度に短時間に行う。 - 特許庁

To obtain a cast product which has excellent surface smoothness, and has extremely little residual dross of carbide which causes defects by smoothening the surface of a synthetic resin foamed body used for lost pattern casting, and using the same pattern.例文帳に追加

消失模型鋳造に用いる合成樹脂発泡体模型の表面を平滑にし、この模型を用いることにより、表面平滑性に優れ、かつ不良の原因となる炭化物残渣が極めて少ない鋳造製品を得る。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method excellent in controllability of pattern dimensions, capable of obtaining a fine pattern having good profile and properties required in a semiconductor device and free of occurrence of defects as a fine pattern forming method in which the top of a substrate having photoresist patterns is coated with a coating forming agent.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に被覆形成剤を被覆してパターン形成を行う微細パターンの形成方法において、パターン寸法の制御性に優れるとともに、良好なプロフィルおよび半導体デバイスにおける要求特性を備えた微細パターンを得ることができ、かつディフェクトの発生のない微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new detergent for lithography that can keep a low surface tension even when the concentration of a surfactant is decreased, can effectively suppress pattern collapse and defects, can improve uneven pattern width (line width roughness: LWR) and minute recesses and projections (line edge roughness: LER) on a pattern side wall, and prevents a dimensional fluctuation of a resist pattern.例文帳に追加

界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。 - 特許庁

To provide a device for observing defects capable of analyzing the arrangement and the hierarchical relationship of a circuit pattern formed using the design information of a sample, creating a non-defective image from a defective image based on the analysis results, and detecting the defects by comparison checking.例文帳に追加

試料の設計情報を用いて形成される回路パターンの配置や上下関係などの構造を解析し、解析結果をもとに欠陥画像から良品画像を作成し、比較検査により欠陥を検出することができる欠陥観察装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.例文帳に追加

パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high-recording density recording medium having a minute recording pattern and a servo pattern, by which a mold and the recording medium can be manufactured in a short time, while preventing defects generation.例文帳に追加

微細な記録パターンおよびサーボパターンを有する記録密度の高い記録媒体の作製方法において、モールドの形成および記録媒体の作製を短時間でかつ欠陥の発生の防止を可能とする記録媒体の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase defect correction method of a reflective mask and a manufacturing method of the reflective mask which can correct an absorber pattern accurately without damaging a reflective layer and leaving correction marks, and which can obtain a good transfer pattern without being affected by phase defects.例文帳に追加

反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに吸収体パターンを精度良く補正し、位相欠陥の影響をなくして良好な転写パターンが得られる反射型マスクの位相欠陥補正方法および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer inductor that prevents a conductor pattern from blurring to stably form the conductor pattern with no defects, has an advantage in flattening the multilayer surface and requires no special processing such as laser processing, and can realize miniaturization and high inductance value.例文帳に追加

導体パターンのにじみを防止でき、そして導体パターンを不良なく安定に形成でき、積層面の平坦化に有利性があってレーザ加工などの特別工程は必要なく、小型化および高インダクタンス値にし得る積層インダクタを提供すること - 特許庁

To provide a method of manufacturing a formed article excellent in the design by which a designed desired rugged pattern is more faithfully left on the surface of a product by suppressing the defacement of the rugged pattern and the generation of surface defects in the forming process.例文帳に追加

成形過程における凹凸模様の潰れと表面傷発生の抑制にあり、設計された所望の凹凸模様を製品表面ヘより忠実に残すことができる意匠性に優れた成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

With rotating the object 4 by a motor 8, the camera 5 photographs the deformed grid pattern 3 and the photographed deformed pattern 3 is frequency-analyzed or otherwise to detect undulations or recess defects on the object 4.例文帳に追加

ある位置で、円筒状被検物４をモータ８で回転させながらカメラ５で変形格子パターン３を撮像し、撮像した変形格子パターン３から周波数解析等により円筒状被検物４上のうねりやへこみ欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed matter having no such printing defects as color mixture of an ink and pattern deviation in the printed matter in which a highly precise fine organic thin-film pattern such as an organic EL element is necessary, a letterpress for making the manufacturing method for a printed matter possible, and a manufacturing method for a letterpress.例文帳に追加

有機ＥＬ素子等の高精細な有機薄膜のパターニングが必要とされる印刷物において、インキの混色や、パターンずれなどの印刷不良のない印刷物の製造方法、及びこれを可能とする版及び版の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of inspecting pattern forming material which can be applied when patterns having different wettability are formed, and by which the defects of the pattern having different wettability can be detected easily by applying the conventional inspection device.例文帳に追加

濡れ性の異なるパターンを形成した場合に適用することができ、かつ従来の検査装置を適用することが可能であることから容易に濡れ性の異なるパターンの欠陥を検出することができるパターン形成体の検査方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a magnetic disk medium with few defects by detecting original defects without detecting a groove of a magnetic film and a pattern of unevenness or the like as a defect in an error inspection process of a step for manufacturing the discrete track magnetic disk medium or a bit patterned magnetic disk medium.例文帳に追加

ディスクリートトラック磁気ディスク媒体またはビットパターンド磁気ディスク媒体の製造段階のエラー検査工程において、磁性膜の溝、凹凸などのパターンを欠陥として検出することなく本来の欠陥を検出し、欠陥の少ない磁気ディスク媒体を製造する。 - 特許庁

To provide a new cleaning liquid for lithography that can decrease the so-called surface defects of a product in a photoresist pattern, prevents collapse of a pattern during rinsing with water, imparts durability to a resist against electron beam irradiation, suppresses shrinkage of pattern and prevents contamination due to bacteria during storage.例文帳に追加

ホトレジストパターンについて、製品の表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、水リンス時におけるパターン倒れの発生を防止し、レジストの電子線照射に対する耐性を付与して、パターンの収縮を抑制するために用いられ、保存中にバクテリアによる汚染を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄液を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and a defect inspection device capable of surely detecting unevenness due to defects at a surface of an object regardless of pattern or gloss at the surface of the object.例文帳に追加

対象物の表面の模様やツヤによらず、対象物表面の欠陥による凹凸を確実に検出する欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for accurately inspecting pattern defect by eliminating a difference in level between sensor data and reference data, and eliminating recognition errors in detecting defects.例文帳に追加

パターンの欠陥を検査する技術で、センサデータと参照データのレべル差を解消し、欠陥検出の際の誤認識を無くして、正確な欠陥検査を行う技術を提供すること。 - 特許庁

To provide an electronic circuit module in which leg pieces of a metal plate cover can be securely soldered to pattern lands provided in four corners of a circuit board and the solder bonding portions hardly cause appearance defects.例文帳に追加

回路基板の四隅に設けたパターンランドに板金カバーの脚片を確実に半田付けでき、該半田接合箇所に外観上の不具合も生じにくい電子回路モジュールを提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition excellent in developability (particularly reduction of residue on development and development defects) and excellent also in sensitivity, resolving power and the shape of pattern profile.例文帳に追加

現像性が優れており（特に現像残さの発生、現像欠陥の発生の軽減）、更に感度、解像力、パターンプロファイルの形状も優れたポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition which has a high level of resolution, a good pattern shape and a satisfactory depth of focus, and at the same time, has no significant defects after the development and has excellent plasma etching resistance.例文帳に追加

高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide an imaging system which can collect a defective parts approximately simultaneously without stopping a line even when defects occur in a pattern drawn on a substrate by nozzle clogging.例文帳に追加

ノズル詰まりにより、基板に描画したパターンに欠陥が発生した場合であっても、ラインを停止させることなく、略同時に欠陥部分を捕集することができる描画装置を提供する。 - 特許庁

To quickly change the width of a spray pattern and the thickness of a coating material without bringing about complexity of a system and the like, thereby suppressing the generation of defects in coating and improving accuracy in coating and the like.例文帳に追加

装置の複雑化等を招くことなく、スプレーパターンの幅や塗料の厚さを素早く変更することができ、ひいては塗装不良の発生抑制や塗装精度の向上等を図る。 - 特許庁

To provide a printing method of conductor, which enables formation of a finer, intact conductor pattern free of defects such as cavities and bubbles at a relatively low temperature.例文帳に追加

より微細で、空洞や気泡等の欠陥のない健全な導電体からなるパターンを比較的低い温度履歴で形成できるようにした導電体の印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition suitable to liquid immersion exposure, improved in defects, scums and a leaching ratio upon liquid immersion exposure, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the vacancies simultaneously diminish by pair annihilation with the interstitial silicon in the silicon single crystal 9, and occurrence of defects (COP (crystal originated particle), FPD (flow pattern deft), or the like) caused by vacancy clusters is suppressed.例文帳に追加

その結果、シリコン単結晶９内で空孔が格子間シリコンとの対消滅によって同時に消滅し、空孔クラスタによる欠陥（ＣＯＰ、ＦＰＤなど）の発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a flexible circuit board, where a grooved hollow is prevented from being formed in a circuit pattern, whiskers are prevented from being produced, a tin plating layer is protected against fracture, and a solder resist layer is kept free from defects.例文帳に追加

回路パターンの溝状のえぐれの形成を防止し、ウィスカー発生を防止し、すずめっき層の破断を防止し、かつソルダーレジスト層に欠陥のないフレキシブル回路基板を提供する。 - 特許庁

Since defects of a metallic pattern can be detected and corrected, in the initial stage of a manufacturing process at a high speed, there is the advantage that cost increase by rework is significantly decreased.例文帳に追加

製造工程の初期段階において金属パターンの不良を高速で検出及び修正することができるため、再作業によるコストアップを画期的に減少させるメリットがある。 - 特許庁

To provide a bank forming method that has eliminated defects caused by the wastewater disposal of the bank, a film pattern forming method, a semiconductor manufacturing method, an electro-optical device, and an electronic apparatus.例文帳に追加

バンクの撥液化処理に起因する不都合を解消したバンクの形成方法と、膜パターンの形成方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To eliminate the defects of conventional technique for producing a stripe pattern knit fabric wherein the number of the knitting yarns (color yarns) is larger than the number of yarn feeding fingers arranged on a feed yarn changeover apparatus.例文帳に追加

給糸切換装置に配置された給糸フィンガーの数以上の編糸（色糸）を使用したストライプ柄の編地を製造する技術における従来技術の欠点を解消する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in resolution and focal depth and suppressing occurrence of scum and development defects, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

解像性、焦点深度に優れ、スカムや現像欠陥の発生を抑制したポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which pattern defects due to small particles used for roughening a material film can be prevented, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

材料膜の粗面化を行う際に使用する微粒子に起因するパターン欠陥の発生を防止することができる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To substantially reproduce a pattern of all minute defects observed in a silicon signal crystal grown by a CZ method with a couple of model constants against practical growth conditions.例文帳に追加

ＣＺ法により成長したシリコン単結晶に観察される全ての微小欠陥のパターンを実際の成長条件に対して、一組のモデル定数で実質的に再現する。 - 特許庁

An outputted test pattern 34B shows the case that three image defects (38M and 38Y) exist, and the image defect is eliminated by cleaning a seal glass 30M corresponding to the color.例文帳に追加

出力されたテストパターン３４Ｂは、３箇所の画像欠陥（３８Ｍ、３８Ｙ）が存在する場合を示しており、この色に対応するシールガラス３０Ｍを清掃すれば、画像欠陥は無くなる。 - 特許庁

To solve both of coping to complicated shapes and uniformity on an exposure surface which are defects in conventional technology in pattern formation by the proximity exposure of photosensitive resist.例文帳に追加

感光性レジストの近接露光によるパターン形成において、従来技術の欠点であった形状の複雑化への対応、及び露光面内の均一化を同時に解決すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using electron beams or X rays having high resolution and capable of forming a rectangular and excellent pattern profile and improving development defects.例文帳に追加

高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To secure a high selection ratio to an insulation film used as a mask material, while controlling the generation of conical pattern defects, in performing dry etching for processing a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を加工するためのドライエッチングにおいて、円錐状パターン欠陥の発生を抑制しつつマスク材となる絶縁膜に対して高い選択比を確保できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printing screen mesh which can prevent a print pattern break-off and other defects from occurring while making it filmy, and a method for manufacturing a screen printing plate.例文帳に追加

印刷パターンの薄膜化を図りつつ、印刷パターンの印刷欠け等の発生を防止することができる印刷用スクリーンメッシュの製造方法及びスクリーン版の製造方法を提供する。 - 特許庁

This signal processing method for detecting the periodic defects existing in a specimen partitions measured signals including the periodic defects with a plurality of periods, at a fixed interval, arrays the partitioned measured signals along a direction orthogonal to a data sequential direction of the measured signals to prepare a two-dimensional data sequence, and pattern-processes the two-dimensional data sequence to recognize the defects.例文帳に追加

被検体に存在する周期性欠陥を検出するための信号処理方法であって、前記周期性欠陥を複数周期以上含んだ測定信号を、一定間隔で区切り、前記測定信号のデータ列方向に対して直交する方向に、前記区切った測定信号を並べて２次元データ列を作成し、その２次元データ列をパターン処理して欠陥を認識する。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁