「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern inspection device attaining pattern inspection of high sensitivity by reducing an effect of brightness irregularity caused by the difference of film thickness, and applicable to a wide range of processes by actualizing various defects regarding the pattern inspection device comparing images in the corresponding areas of two patterns formed to be the same pattern and determining incoincident parts of the images as defects.例文帳に追加

本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。 - 特許庁

To provide an inspecting device for semiconductor pattern where, when a semiconductor circuit pattern region of a sample is inspected, a clear contrast between a defective part and a base material is obtained, various patterns of defects, voids and foreign matters of various materials are detected, and the defects are classified using the result of detection of the inspected defects, and a method for inspecting semiconductor pattern.例文帳に追加

試料の半導体回路パターン領域の検査を行う際に、欠陥部と下地で明確なコントラストが得られ、幅広い種類のパターンの欠陥，空隙，各種材質の異物を検出でき、その検査された欠陥検出結果を用いて欠陥を分類することができる半導体パターン検査装置及び半導体パターン検査方法を提供する。 - 特許庁

The pattern detecting method comprises photographing an object substrate to obtain a digital picture, masking a pattern coincident with regions previously registered with coordinate data or previously registered pattern to detect defects, using the digital picture, and indicating the detected defects.例文帳に追加

本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて予め座標データで登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し、この検出した欠陥を表示するようにした。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enables formation of a pattern having good pattern collapse resistance and few development defects, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To carry out inspection with high accuracy without causing any pseudo defects by performing the pattern data collation corresponding to a small change of the pattern generated by an etching process of the pattern formed on a photo mask.例文帳に追加

フォトマスク上に形成されるパターンのエッチングプロセスによって生じるパターンの微妙な変化に対応したパターンデータの合わせを行い、疑似欠陥の発生を招くことなく精度良い検査を行う。 - 特許庁

To provide an irregular pattern detector and an irregular pattern detection method for easily detecting minute defects of irregular patterns, such as a mold release pattern in a groove, in an optical recording medium, or the like.例文帳に追加

光記録媒体等におけるグルーブの離型パターンなど、凹凸パターンの微細な欠陥を容易に検出することが可能な凹凸パターン検出装置及び凹凸パターン検出方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of defects on a substrate after a developing step in the formation of an ultrafine photoresist pattern at least partially having a pattern of ≤0.25 μm pattern width.例文帳に追加

少なくともその一部にパターン幅が０．２５μｍ以下のパターンを有する超微細なホトレジストパターンの形成において、現像処理工程後基板上に発生するディフェクトの発生を有効に防止する。 - 特許庁

To provide a photosensitive silane coupling agent for forming a fine particle pattern, a dot array pattern and a hole array pattern having small defects in small amount of processes and a method for forming the patterns by using the photosensitive silane coupling agent.例文帳に追加

少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus for inspecting pattern performs comparison between images of regions corresponding to patterns formed to be same patterns, thereby determining mismatch portions across the images to be defects.例文帳に追加

また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する - 特許庁

To provide a method for forming an SOI layer with a pattern wherein no transition region containing many defects is formed.例文帳に追加

非常に欠陥の多い遷移領域が形成されないパターン付きＳＯＩ層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To detect both anomalies which occur independently and pattern defects which simultaneously occur in a plurality of chips.例文帳に追加

単独で発生する異常と複数チップで同時に発生するパターン欠陥の両方を検出することを目的とする。 - 特許庁

To provide an improved high-sensitivity optical inspection system for detecting defects on diffracting plane, including surface pattern.例文帳に追加

表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出するための改良された高感度光学検査システムの提供 - 特許庁

To provide a microcontact printing plate whereby defects are hard to occur when the desired pattern is transferred onto the base substrate.例文帳に追加

所望のパターンが基板等に転写される際に欠陥が生じにくいマイクロコンタクトプリント用版を提供すること。 - 特許庁

To provide imprint lithography device and method with little pattern defects according to an embodiment of the present invention.例文帳に追加

本発明の実施形態によれば、パターン不良の少ないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide wiring pattern inspection method capable of easily detecting defects of wiring patterns, in a short time.例文帳に追加

配線パターンの欠陥を短時間で簡単に検知することができる配線パターンの検査方法を提供することである。 - 特許庁

To set semiconductor process conditions which avoid the generation of crystal defects and a mask pattern shape on a simulation basis.例文帳に追加

結晶欠陥発生を回避した半導体プロセス条件およびマスクパターン形状の設定をシミュレーションベースで行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which inhibits defects at the time of dicing by using a semiconductor substrate having a TEG pattern.例文帳に追加

ＴＥＧパターンを有する半導体基板を用いて、ダイシング時の不良を抑制した半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects in a semiconductor device, in particular, decreasing pattern collapse and roughness in a photoresist line.例文帳に追加

半導体デバイスの欠陥、特にパターンの倒壊及びフォトレジストラインの凹凸を低減するための方法を提供すること。 - 特許庁

A triple-seal structure of the protection wall pattern 5, seal pattern 3, and sealing pattern 6 is formed at the outer peripheral part of the couple of stuck substrates, so even if the seal pattern 3 and sealing pattern 6 have defects, the etchant is stopped by the protection wall pattern 5 from entering a space between the couple of stuck substrates.例文帳に追加

貼り合わせた一対の基板の外周部分に保護壁パターン５、シールパターン３および封止パターン６の三重シール構造が形成されているため、シールパターン３や封止パターン６に欠陥があっても、保護壁パターン５によって貼り合わせた一対の基板間へのエッチング液侵入が阻止される。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having improved optical characteristics, and to provide a pattern forming apparatus and forming method which enable distortion of an image provided on the pattern forming material to be suppressed and a permanent pattern free from defects, such as a wiring pattern to be efficiently formed with high definition.例文帳に追加

光学特性を改善したパターン形成材料を提供し、該パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成装置及び形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using an organic solvent-based developing solution, by which a pattern with reduced bridge defects can be formed, and to provide a rinsing liquid for use in the above method.例文帳に追加

ブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できる有機溶剤系現像液を用いたパターン形成方法及び該方法で用いられるリンス液を提供すること。 - 特許庁

Since the line-and-space pattern P is a periodical pattern, it has high visibility for visual check with an optical microscope, and the region for inspection of defects can be defined.例文帳に追加

さらに、ラインアンドスペースパターンＰは、周期パターンであるため、光学顕微鏡を使って目視した場合に視認性が高く、欠陥検査領域を明確にすることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display capable of simultaneously baking an electrode pattern, a dielectric paste coating film, and a partition pattern, without defects of breaking of wire, crack or the like.例文帳に追加

断線や亀裂などの欠陥なく、電極パターン、誘電体ペースト塗布膜、隔壁パターンを同時焼成することができるプラズマディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

By this, defects existing in the outermost-part pattern 22 can be compared with the dummy pattern 24 existing at a place apart at the periodic pitch, thereby detecting accurate defect.例文帳に追加

これにより、最外部パターン２２に存在する欠陥も、周期ピッチ離れた箇所に存在するダミーパターン２４と比較できるため、正確な欠陥の検出ができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of suppressing development defects by using a defect removing agent in formation of a fine resist pattern by liquid immersion exposure or the like.例文帳に追加

液浸露光法等により微細なレジストパターンを形成する際に、欠陥除去剤を用いることによって、現像欠陥を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving a spread bottom profile of a resist pattern, with which a pattern having few pattern collapse defects is formed, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for creating a photomask pattern using an assist pattern, with which separation or placement lacking of an assist pattern is prevented, high resolution is achieved and inspection of mask defects is easily carried out.例文帳に追加

アシストパターンを用いたフォトマスクパターンの作成方法に関し、アシストパターンの分離や未配置を防止し、解像力が高くマスク欠陥検査を容易に行うことができるフォトマスクパターンの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a chemically amplifying resist composition and a resist film, which are excellent in all of sensitivity, reduction in development defects and a pattern profile in the formation of a negative pattern using a developing solution containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which is excellent in sensitivity, capability of reducing development defects, and pattern shape in negative pattern formation with a developer containing an organic solvent, and to provide a chemical amplification type resist composition and resist film.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device, capable of conducting stable detecting operation by reducing influence of noise in detecting defects in a repeated pattern, without previously giving an ideal pattern.例文帳に追加

あらかじめ理想パターンを与えることなく、繰り返しパターンに存在する欠陥を検出するにあたって、ノイズの影響を低減させて安定した検出動作を行うことが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a photomask by which a desired resist pattern can be formed by preventing a remaining resist caused by blotting defects and slits from being formed.例文帳に追加

滲み不良およびスリットによる残留レジストの形成を防止し、所望のレジストパターンを形成できるホトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of precise inspection of defects independent of pitch of repeated pattern on a substrate.例文帳に追加

基板に形成された繰り返しパターンのピッチによらず高精度な欠陥検査が行える欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a printed wiring board in which the cross section of a conductor pattern is close to a rectangle by etching without causing short defects.例文帳に追加

導体パターンの断面が矩形に近いプリント配線板を、エッチングにより、ショート欠陥を発生させることなく製造する。 - 特許庁

To provide a template for preventing defects in a pattern form, a method for manufacturing the template, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

パターン形状の欠陥を抑制するテンプレートとその製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an array substrate of active elements, which can easily restore dot defects caused by the pattern deficit of a pixel electrode.例文帳に追加

画素電極のパターン欠損に起因する点欠陥を容易に修復できるアクティブ素子アレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate the management of critical defects while restricting the number of defect inspections, in the defect inspections of a semiconductor integrated circuit pattern.例文帳に追加

半導体集積回路パターンの欠陥検査において、欠陥検査回数を制限しつつ、致命欠陥の管理を容易にする。 - 特許庁

To provide a method for producing a resist composition, which is capable of forming a pattern with few defects.例文帳に追加

欠陥の少ないパターンを形成することができるレジスト組成物を製造するレジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor module with high reliability which reduces defects in soldering even when a wiring pattern is made fine.例文帳に追加

配線パターンを微細化した場合においても、はんだ付けの不良を少なくし、高い信頼性をもった半導体モジュールを得る。 - 特許庁

To define the region for inspection of defects, and to make a pattern to restrict a light-shielding region smaller than the resolution limit of a reduction stepper.例文帳に追加

欠陥検査領域の明確化と遮光領域規定パターンを縮小投影露光装置の解像限界以下とする。 - 特許庁

To suppress generation of pattern defects in the outermost circumference part of an image display area, in an active matrix type liquid crystal display device.例文帳に追加

アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、画面表示領域最外周におけるパターン欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a resist composition for producing a resist pattern that has excellent CD uniformity (CDU) and few incidence numbers of defects.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥の発生数が少ないレジストパターン製造用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flash memory device improving a margin in a photo process, preventing defects in pattern, and preventing defects such as photo mask collapse by decreasing aspect ratio of photo mask.例文帳に追加

フォト工程のマージンを向上させること、パターン不良を防止すること、及びフォトマスクのアスペクト比を減らしてフォトマスク崩壊などの不良を防止することが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a photomask that is free of generation of black defects or white defects, without causing thickening or thinning of a predetermined pattern, even if foreign matters are deposited on the photomask, and to provide an exposure method that uses the mask.例文帳に追加

フォトマスクに異物が付着していても、所定のパターンに太り、細りを引き起こすことなく、黒欠陥或いは白欠陥を発生させないフォトマスク、それを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

A characteristics extracting operator, having a characteristic extracting pattern including defects which are to be detected in advance are held by a characteristic extracting circuit 7A, and defects are detected by scanning this operator.例文帳に追加

特徴抽出回路７Ａであらかじめ検出すべき欠陥を含む特徴抽出パターンを有する特徴抽出演算子を保持しておき、これを走査することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting a transfer mask for defects, which inspect a pattern opening of a transfer mask accurately and reprodusibly for defects such as foreign matters and projections.例文帳に追加

転写マスクのパターン開口部の異物や突起等の欠陥を精度良く、再現性良く検査するための転写マスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁