「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To efficiently manufacture a molded article with a large area having a fine pattern and a small number of defects and a transferred article of the same at low cost.例文帳に追加

微細なパターンを有し、欠陥が極めて少ない、大面積の成形体及びその転写体を精度良く、効率的に、また安価に製造する。 - 特許庁

To meet the generally contradictory requirements that sensitivity for detecting pattern defects be increased and that the speed of inspection be increased or the amount of false information be reduced.例文帳に追加

パターン欠陥検出感度を高くすることと、検査速度を速くしたり・虚報を少なくしようとすることは、一般的には矛盾した要求となる。 - 特許庁

To provide a method and a device for detecting defects in a periodic pattern realizing supersensitive defect detection without causing reduction in detectivity due to moire.例文帳に追加

モアレによって検出感度の低下をおこすことなく、高感度な欠陥検出を実現する周期性パターンの欠陥検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus capable of highly accurately detecting pattern defects without reducing the light quantity of a laser beam used for defect detection.例文帳に追加

欠陥検出に用いるレーザ光の光量が低減することなく、パターン欠陥の検出を高感度にて行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an edge defect detecting method for accurately detecting edge defects whose density difference between a pattern is minute without use of a reference image.例文帳に追加

基準画像を用いずに、パターンとの濃度差が微小なエッジ欠陥をも精度よく検出することができるエッジ欠陥検出方法の提供。 - 特許庁

To provide a substrate processor which prevents pattern defects from being caused with a liquid infiltrated into a substrate or a film on the substrate at exposing.例文帳に追加

露光時に基板および基板上の膜に染み込む液体によるパターン欠陥の発生が防止された基板処理装置を提供することである。 - 特許庁

To enable a single photographing device to use an image pickup element whose image pickup surface consists of plural blocks, regardless of the presence/absence of defects and the pattern of the detects.例文帳に追加

撮像面が複数のブロックからなる撮像素子を欠陥の有無及び欠陥のパターンにかかわらず、１つの撮影装置で使用可能とする。 - 特許庁

To provide an exposure method using reticles by which the transfer of clear and opaque defects can be prevented and the verticality in cross-section of a pattern can be secured.例文帳に追加

白欠陥及び黒欠陥の転写を防止し、かつパターン断面の垂直性を確保できるレチクルを用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁

This not only prevents the pattern defects due to the level difference caused when carrying out the exposure thereof for forming the sub vernier 104 but also accurately measures the alignment degree thereof.例文帳に追加

それによって、子バーニア１０４を形成するための露光工程時に段差によるパターンの不良を防止して整列度を正確に測定することができる。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method which can correct the electrode discontinuity by using fine wires as thin as about 10 μm with less contamination around the defects.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of repairing defects of a wiring substrate capable of repairing a missing part of a wiring pattern to planar without a prominence and easily.例文帳に追加

配線パターンの欠落箇所を盛り上がりなく平坦に、かつ容易に補修することが可能な配線基板の欠陥補修方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for inspecting a mask for use in fabricating an integrated circuit device that can easily detect defects in a semiconductor pattern.例文帳に追加

半導体パターンに形成された欠陥を容易に探し出すことのできる集積回路装置製造用マスクの検査装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a pattern formation body capable of easily detecting defects of patterns having different wettability.例文帳に追加

本発明は、容易に濡れ性の異なるパターンの欠陥を検出することができるパターン形成体の検査方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power and ensuring reduced development defects and improved rectangularity of a pattern.例文帳に追加

高感度で高解像力を有し、現像欠陥およびパターンの矩形性が改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A light shielding region 11 with a transmittance within the range of 0-2 % is formed at a central part of white defects of an HT wiring pattern 1.例文帳に追加

ＨＴの配線パターン１の白欠陥の中心部分には、透過率が透過率が０〜２％の範囲内の遮光領域１１が形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can reduce pattern defects of a photoresist film by restraining microbubbles generated in developer.例文帳に追加

現像液中に発生するマイクロバブルの発生を抑制し、フォトレジスト膜のパターン欠陥を低減することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The fine patterns MP which are the cause for the pseudo defects included in the exposure data patterns are removed by subjecting the patterns to the fine pattern removal processing.例文帳に追加

この微細パターン除去処理を行うことにより、露光データパターンに含まれている擬似欠陥の原因となる微細パターンＭＰが除去される。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for inspecting a circuit pattern, which is convenient to use in preparing a recipe and checking defects and can be clearly realized.例文帳に追加

レシピ作成及び欠陥確認の使い勝手がよく、かつ明確に行うことのできる回路パターンの検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a screen-printing method capable of eliminating printing defects caused by short filling with paste in pattern openings.例文帳に追加

パターン孔内へのペーストの充填不足に起因して生じる印刷不良を改善することができるスクリーン印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laminated film free of the generation of appearance defects such as a scaly pattern, good in blocking resistance performance, and excellent in transparency, moisture proof and heat seal characteristics.例文帳に追加

うろこ模様といった外観不良が発生せず、フィルムの耐ブロッキング性能が良好で、透視性、防湿性、ヒートシール特性に優れた積層フィルムの提供。 - 特許庁

To provide a new resist pattern forming method capable of reducing defects in immersion exposure, and a surface modifying material suitable for use in this method.例文帳に追加

液浸露光におけるディフェクトを低減できる新規なレジストパターン形成方法、および該方法に好適に用いられる表面改質材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste, with which an electrode pattern with high definition and free from defects such as peeling, residue and minute line disconnection can be efficiently formed.例文帳に追加

高精細で、かつ剥がれ、残渣、微小な断線等の欠陥がない電極パターンを、効率よく形成できる感光性導電ペーストを提供する。 - 特許庁

To suppress pattern defects due to deposits, when patterning a ground layer such as a wiring layer, where a titanium nitride layer is provided at the uppermost part using a hard mask.例文帳に追加

最上部に窒化チタン膜が設けられる配線層などの下地層を、ハードマスクを用いてパターニングする際の堆積物によるパターン欠陥を抑制する。 - 特許庁

To provide an improved method, capable of copying a cyclic pattern so as to be matched accurately by avoiding the defects of a well known copy retouch method.例文帳に追加

公知のコピーレタッチ方法の欠点を回避し、周期的なパターンを正確に整合するようにコピーすることができる改善された方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a decorative sheet with a pattern of superior design properties on which defects such as blisters formed by remaining air on the decorative sheet surface are not generated.例文帳に追加

化粧板表面にエア溜まりによる膨れ等の欠陥が発生せず、意匠性に優れた模様付き化粧板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which achieves reduction in development defects and combines the reduction with lines with roughness (LWR), and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

現像欠陥が低減され、かつ良好なラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）との両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To prevent broken wire defects due to electromigration which occurs in fine wiring of copper by forming a pattern for compensation which supplies copper.例文帳に追加

銅の微細配線で発生することが判ったエレクトロマイグレーションによる断線不良を銅を供給する補償用パターンを形成することで解決を図る。 - 特許庁

To provide a pattern-forming method which reduces the number of defects formed in a resist film to provide a satisfactory yield, in lithography using a short-wavelength light source.例文帳に追加

短波長光源を用いたリソグラフィーにおいて、レジスト膜中に形成される欠陥数を低減し、歩留まりのよいパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent mist depositions which cause the pattern defects, etc., of a semiconductor substrate from falling onto the upper surface of the semiconductor substrate from the upper inner wall of a coater cup.例文帳に追加

コーターカップの上部内壁面からミスト堆積物が半導体基板の上面に落下して半導体基板のパターン欠陥等を招くことを防止する。 - 特許庁

The remanence magnetization created on the magnetic tape can be greater than 20 percent to reduce defects in the servo pattern written to the magnetic tape.例文帳に追加

磁気テープが有する残留磁化は、２０％よりも大きくすることができ、それにより、磁気テープに書き込まれるサーボパターンの欠陥が低減される。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition whose development defects are reduced in manufacturing of the positive photoresist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、現像欠陥の発生が軽減できるポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heating method for an ordinary steel slab by which the actualization of intergranular oxidation which serves as the starting point of defects is prevented and the occurrence of linear scale defects caused in hot rolling and pattern like defects (unevenness occurring at plating ) is reduced by controlling atmosphere conditions in a furnace when heating the ordinary steel slab prior to hot rolling.例文帳に追加

本発明は、熱間圧延前の普通鋼スラブの加熱時における炉内雰囲気条件を制御することで、疵の起点となる粒界酸化の顕在化を防ぎ、熱間圧延時に発生する線状のスケール疵及び模様系欠陥（めっき時ムラ）の発生を少なくするための普通鋼スラブの加熱方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave-shielding filter which is arranged on the front surface of a display such as a CRT or PDP to shield electromagnetic waves generated from the display, and in which black and white dotted defects, linear defects or rectangular defects hardly occur on a metal pattern surface, or irregularity of blackening is not viewed thereon, and visibility of a display image is good.例文帳に追加

ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイの前面に配置して、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽し、且つ、金属パターン面に黒と白の点状欠点、線状欠点、或いは矩形状欠点が発生しにくい、又は、黒化度のムラが目視されない、ディスプレイ画像の視認性が良好な電磁波遮蔽フィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying the requirements of wide exposure latitude, reduction in line edge roughness, a desirable pattern configuration and dry etching resistance and giving a pattern with few defects after development, and to provide a method for forming a pattern by use of the above composition.例文帳に追加

広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a metal pattern in a semiconductor device, which can suppress the occurrence of defects of a photoresist pattern by preventing irregular reflection caused by the metal in forming the metal pattern in the semiconductor device, and simplify the manufacturing process.例文帳に追加

半導体素子に金属パターンを形成する際の金属による乱反射を防止することにより感光膜パターンの不良の発生を抑制し、かつ、その製造工程を単純化することができる半導体素子の金属パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductor pattern forming method capable of eliminating residuals of a conductor film and resist, generation of burrs of a conductor pattern, defects such as resist peeling or the like, further shortening a peeling operation in a liftoff process, and accurately forming a fine conductor pattern.例文帳に追加

導体膜やレジストの残滓、導体パターンのバリの発生、レジスト剥離不良等を解消し、しかも、リフトオフ工程における剥離作業の短縮化を図り、かつ微細な導体パターンを精度良く形成することができる導体パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The pattern transfer mask 10 is manufactured by correction including shift in the X and Y directions, rotation around the Z axis, and magnification in the X and Y directions and/or orthogonality of a circuit pattern P so that the circuit pattern P overlaps on the all defects DF in the mask blank as an intermediate material before forming the pattern.例文帳に追加

パターン転写用マスク１０は、パターン形成前の中間材であるマスクブランクスの全ての欠陥ＤＦに回路パターンＰが重なるように、回路パターンＰのＸＹ方向へのシフト、Ｚ軸回りの回転、及び、ＸＹ方向の倍率及び／又は直交を含む補正を行って作製されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a pattern with a low refractive index, excellent film strength and few development defects can be formed at high resolution, a pattern forming material, as well as a photosensitive film using it, a pattern forming method, a pattern film, a low refractive index film, an antireflection film, an optical device and a solid state imaging element.例文帳に追加

本発明は、屈折率が低く、更には、膜強度に優れ、現像欠陥が少ないパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

In dry etching for patternizing a silicon nitride 12 and silicon oxide film 11 by using a resist pattern 13, introduction defects at the time of growth in a silicon substrate 10, which cause conical pattern defects, are removed by digging the surface part of the groove formation region of the silicon substrate 10 at overetching.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。 - 特許庁

A simulation image of a pattern including the defects, and a simulation image of a pattern not including the defects are generated at first based on the plurality of imaging conditions, then, a difference signal between both in each of the plurality of imaging conditions is calculated, and the difference signal is displayed at last on a display in each of the plurality of imaging conditions.例文帳に追加

先ず、複数の撮像条件に基づいて、欠陥を含むパターンのシミュレーション画像と欠陥を含まないパターンのシミュレーション画像を生成し、次に、複数の撮像条件毎に両者の差分信号を計算し、最後に、複数の撮像条件毎に差分信号を表示装置に表示する。 - 特許庁

To provide a method of inspecting pattern defects which automatically detects coating defects in fluorescent material coated on a glass substrate of a plasma display or the like, without being influenced by a coating pattern, such as a lattice-like fluorescent coating film, is easily installed in a production line of a panel, and realizes low-priced and high-speed defect inspection.例文帳に追加

プラズマディスプレイ等のガラス基板に塗布された蛍光体の塗布欠陥を格子状蛍光体塗布膜等の塗布パターンに影響されず高感度に自動検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁

A simulation image of a pattern including the defects, and a simulation image of a pattern not including the defects are generated at first based on the plurality of imaging conditions, then, a difference signal between both in every of the plurality of imaging conditions is calculated, and the difference signal is displayed at last on a display in the every of the plurality of imaging conditions.例文帳に追加

先ず、複数の撮像条件に基づいて、欠陥を含むパターンのシミュレーション画像と欠陥を含まないパターンのシミュレーション画像を生成し、次に、複数の撮像条件毎に両者の差分信号を計算し、最後に、複数の撮像条件毎に差分信号を表示装置に表示する。 - 特許庁

In dry etching using a resist pattern 13 for patterning a silicon nitride film 12 and a silicon oxide film 11, introduction defects in growth in the silicon substrate 10, which cause conical-pattern defects, are removed by digging a surface part of a separation groove forming region of the silicon substrate 10 at overetching.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。 - 特許庁