「pattern defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

In the third step, the heat treatment temperature, heat treatment time or heat-up pattern is set according to the quantity of solvent contained in the resist solution, so that the number of defects generated in the resist film can be reduced.例文帳に追加

この第３工程において、レジスト液に含まれる溶剤の量に応じて、熱処理温度または熱処理時間または昇温パターンを設定することによって、レジスト膜に生成する欠陥数を低減させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device which hardly has aging defects in quality of laser light such as a plurality of spots in a far-field pattern of the laser light and also provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

半導体レーザ素子から発せられるレーザ光の遠視野像において、複数スポットを生ずる如きレーザ光の品質の劣化の少ない半導体レーザ素子及びその製造方法を与えることを目的とする。 - 特許庁

After the wafer 5 is positioned, pattern dimensions at a specified inspecting part are measured and then the wafer 5 is mounted on a defect detecting function section 17 and a defect sorting function section 18 where defects are detected and sorted.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は複数台のＳＥＭの内少なくとも一部が、寸法測定，パターン欠陥検査、及びレビューの内少なくとも２以上の機能を有する検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a display device capable of detecting automatically all defects in a pattern formed on a substrate, an inspection method of the substrate for the display device, and an inspection device of the substrate for the display device.例文帳に追加

基板上に形成されたパターンにおける全ての欠陥を自動検出できる表示装置の製造方法、表示装置用基板の検査方法及び表示装置用基板の検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a titanium dioxide composition and a titanium dioxide-containing layer which has few crystal defects and exhibits high activity, and to provide a pattern formation body using the titanium dioxide-containing layer.例文帳に追加

本発明は結晶欠陥が少なく、高い活性を示す二酸化チタン組成物や二酸化チタン含有層、およびこの二酸化チタン含有層を用いたパターン形成体等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for fabricating a flat panel display element which reduce the process time and minimize pattern defects by executing a patterning process by a method of not executing a photolithographic process.例文帳に追加

本発明の目的は、フォト工程を行わない方法で、パターニング工程を実行し、工程時間を減らしてパターン不良を最小化するようにした平板表示素子の製造方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

Thus the occurrence of recessed portions on the phase-change material layer pattern or formation of a surface oxide film is suppressed to be able to considerably reduce the occurrence of defects in the phase-change memory device.例文帳に追加

これによって、相変化物質層パターンの上部に窪みが発生するか、あるいは表面酸化膜が形成されることを抑制して相変化メモリー装置の不良発生を著しく減少させることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper for an optical information recording medium, by which the stamper can be formed with less defects and at low cost without damaging a minute groove pattern formed on a lower layer and having the size of an exposure beam spot diameter or below.例文帳に追加

下層に形成された露光ビームスポット径以下の微細溝パターンを損なうことなく、かつ低欠陥・低コストでスタンパ化することができる光情報記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic properties required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring good adhesiveness to a substrate and few development defects.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、基板に対する接着性が良好で現像欠陥が少ない。 - 特許庁

The image forming device provided with a scanner 1 for image read and a print head part 14 for printing is provided with a test pattern image data storage ROM 7, where a test pattern is stored, and a picture processing part 12 which reads the printed test pattern by the scanner 1 and performs discrimination processing of this image data to diagnose defects of the print head part 14 and the scanner 1.例文帳に追加

画像を読み取るスキャナ１と、印字のためのプリントヘッド部１４とを備える画像形成装置であって、テストパターンを記憶するテストパターンイメージデータ記憶ＲＯＭ７と、印字された前記テストパターンを前記スキャナ１で読み取り、そのイメージデータを判断処理することにより前記プリントヘッド部１４及びスキャナ１の不良を診断する画像処理部１２、を備える。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in resolution, development defects and outgassing and a pattern forming method using the same, which are a positive resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像力、現像欠陥、アウトガスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A reflection member 10 is placed on the liquid crystal panel 4 with the built-in photosensor, display is performed in the liquid crystal panel 4 with the built-in photosensor based on prescribed test pattern data, and a displayed image is read by the photosensor of the liquid crystal panel 4 with the built-in photosensor and compared with the test pattern data to inspect defects.例文帳に追加

反射部材１０をフォトセンサ内蔵液晶パネル４の上に置いて、所定のテストパタンデータに基づいてフォトセンサ内蔵液晶パネル４に表示し、当該表示された画像をフォトセンサ内蔵液晶パネル４のフォトセンサにより読み取って前記テストパタンデータと比較して不良を検査するようにした。 - 特許庁

Therefore, with the projector type headlight 10, the second reflecting face that hitherto caused conventional defects can be eliminated to form the overhead light distribution pattern P2 only by a structure of the shade 14, so that a stable overhead light distribution pattern P2 can be obtained in a simple structure.例文帳に追加

したがって、本発明のプロジェクター型ヘッドランプ１０によれば、従来の欠点を引き起こす原因となっていた第２反射面を無くすことができ、シェード１４だけの構成によってオーバーヘッド用配光パターンＰ２を形成できるので、簡単な構成となり安定したオーバーヘッド用配光パターンＰ２を得ることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a wiring pattern corresponding to a delta arrayed filter, with which pitched smears and point defects scarcely occur, a substrate for an electrooptical device equipped with the wiring pattern obtained with such a kind of forming method and the electrooptical device and an electronic appliance both utilizing the substrate for the electrooptical device.例文帳に追加

ピッチシミや点欠陥の発生が少ないデルタ配列フィルタに対応した配線パターンの形成方法、そのような形成方法で得られた配線パターンを備えた電気光学装置用基板、およびそのような電気光学装置用基板を利用した電気光学装置並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a letterpress having few pattern defects when manufacturing an organic electronic device such as an organic electroluminescent element at a letterpress printing method, an inspection method for a letterpress for implementing in advance to preventing of the pattern defect, a manufacturing method for an organic electronic device using the same letterpress, and an organic electronic device using the same letterpress.例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス素子をはじめとする有機電子デバイスを凸版印刷法で作製する際、パターン欠陥の少ない凸版、及びパターン欠陥を防止するために予め行う凸版の検査方法、並びにそれを用いた有機電子デバイスの製造方法並びにそれを用いた有機電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a photomask for avoiding occurrence of pattern defects and patterns beside specification caused by foreign matter or contamination of a photomask and for decreasing the frequency of exchanging photomasks in a process of forming a pattern constituting a color filter by exposure and development of a photoresist coating film through a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを介したフォトレジストの塗布膜への露光、現像処理によりカラーフィルタを構成するパターンを形成する際に、フォトマスクの異物や汚れに起因した、パターンの欠陥及び規格外のパターンの発生を回避するフォトマスクの交換頻度を減少させるフォトマスクの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having high resolution, capable of diminishing defects in a resist pattern and failures such as chipping, breaking and short circuit in a circuit formed in an etching or plating step and less liable to generate residue on removal in a resist pattern removing step particularly after electroplating by a semi-additive process.例文帳に追加

高解像性を有し、レジストパターンの欠陥や、エッチング工程またはめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥を低減することができ、特にセミアディティブ工法の電解めっき後のレジストパターン剥離工程における剥離残が発生しにくい感光性樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁

To provide a device for cleaning a photomask for a color filter, which can improve the degree of cleaning of the photomask and reduce the frequency of exchange to a clean photomask, that is carried out to avoid the occurrence of black or white defects in a pattern and an out-of-standard pattern caused by foreign matters or stains of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクの清浄度を著しく向上させ、フォトマスクの異物や汚れに起因した、パターンの黒欠陥、白欠陥、及び規格外のパターンの発生などを回避するために行っている、清浄なフォトマスクへの交換頻度を減少させることのできるカラーフィルタ用フォトマスクの洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Further in the pattern forming apparatus 1, additional coating data 45 is formed by detecting the existence and the position of defects such as a white defect, a black defect or the occurrence of projecting part and additional coating is carried out on the defect position based on the additional coating data 45.例文帳に追加

また、パターン形成装置１は、基板上の白欠陥、黒欠陥、突起等の欠陥の有無及び位置を検出し、追加塗布データ４５を作成し、当該追加塗布データ４５に基づいて、欠陥箇所に追加塗布を行う。 - 特許庁

The defects can thereby be detected correctly even when there is a difference of brightness in the same pattern between the images.例文帳に追加

また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition effective to achieve the diminution of defects necessary for comprehensive quality control, excellent in sensitivity and resolution, causing no unevenness in coating and giving a good resist pattern shape.例文帳に追加

総合的な品質管理上必要なディフェクト低減を実現するのに有効で、しかも感度、解像度が優れ、塗布むらの発生がなく、良好なレジストパターン形状を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Since the luminance profile is a property acquired by actually photographing the wafer 2 to be inspected and clearly shows the forms of defects, the reliability of defect classification is substantially improved, when compared with the case of comparison with a non-defective pattern.例文帳に追加

輝度プロファイルは、検査対象であるウェハ２外観を実際に撮像して得られる特性であり、欠陥の形態を明確に示すため、良品パターン等との比較による場合と比べて、欠陥分類の確実性が格段に増す。 - 特許庁

In the liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, the lift-off defects are minimized by forming a protective layer pattern using a sputtering method at the time of the lift-off process which is the core process of the 3 mask process.例文帳に追加

本発明は液晶表示装置及びその製造方法に係り、３マスク工程の核心工程であるリフトオフ工程時スパターリング法を利用して保護膜パターンを形成することによってリフトオフ不良を最小化する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with reduced blob defects, which is suitable for not only a normal dry process but for an immersion process, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、ブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mold which can reduce the incidence of defects during mold release by controlling mold release speed, when releasing a resin on a substrate to be fabricated from the mold, with regard to imprinting, as well as a method for forming a pattern using this mold.例文帳に追加

インプリントにおいて、モールドと被加工基板上の樹脂とを離型するに際して、離型速度を制御して離型時の欠陥発生を低減したモールドおよびそのモールドを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the contllability of the line width of a resist pattern, to suppress occurrence of microbubbles on the interface between the resist and developer, and to decrease developing defects.例文帳に追加

レジストパターニングの線幅制御性が高く、かつ、レジストと現像液の界面におけるマイクロバブルの発生を抑制し、現像欠陥の低減が可能である露光塗布現像装置、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or a radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, excellent roughness characteristics and the reduction of development defects, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.例文帳に追加

高感度、高解像度、良好なラフネス特性、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device that determines reflection in a short time in detecting unevenness defects of an inspected object having a periodic pattern, and reduces the time for inspecting a large-area inspected body, and to provide an inspection method.例文帳に追加

周期性のあるパターンを持つ被検査体のムラ欠陥を検出する場合に、映り込みの判別を短時間に行うことが出来、さらに大面積の被検査体の検査時間を短縮する検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which has a high sensitivity and high resolution and decreased development defects in pattern formation by irradiation with active radiations (electron beams, X-rays, or EUV: extreme ultraviolet rays) for manufacturing of semiconductors, photomasks, etc.例文帳に追加

半導体、フォトマスク製造等のための、活性放射線（電子線、Ｘ線、又はＥＵＶ）の照射によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To inspect the defects of a pattern at a high speed and with high accuracy with a laser light having a large amount of light, by solving the problems of the temporal and spatial coherences that are generated by using the laser light as a light source.例文帳に追加

照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。 - 特許庁

To prevent generation of defects by easily sensing intensity decline of a light beam supplied from the light source at drawing a pattern on a substrate while modulating the light beam supplied from the light source with a spatial light modulator.例文帳に追加

光源から供給された光ビームを空間的光変調器により変調して基板にパターンを描画する際に、光源から供給された光ビームの強度の低下を容易に検出して、不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method capable of accurately inspecting very small foreign matter and pattern defects which occur in manufacturing processes at high speed in a device manufacturing process for forming circuit patterns on substrates of semiconductor devices etc.例文帳に追加

半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速で高精度に検査できる装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern defect detection device that detects a fluorescent image, a diffusion light image, and a reflection light image of a substrate formed by laminating dry films so as to easily detect various defects occurring in an exposure process.例文帳に追加

ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of checking a mask used in a lithography process of forming the circuit pattern of a semiconductor device, which is superior in throughput and capable of improving the reliability of the mask because even extremely small defects are checked.例文帳に追加

半導体装置の回路パターン形成のためのリソグラフィ工程で用いるマスクの検査方法であって、微細な欠陥も検査するためマスクの信頼性が非常に高くなるとともに、スループットが速いマスク検査方法を提供する。 - 特許庁

Since the protection film 3 can be formed on the reflecting film 2 directly without the aid of a formation process of the slit pattern after forming the reflecting film 2, the high-quality reflecting surface having few defects such as a dirt, a flaw or deterioration can be acquired.例文帳に追加

反射膜２の成膜後、スリットパターンの形成工程を経由しないで、直ちに、反射膜２上に保護膜３を成膜することができるため、汚れ、疵、劣化等の不具合が少ない良質の反射面を得ることが可能となる。 - 特許庁

To provide a composition for forming an upper antireflection film capable of thoroughly reducing standing-wave effect and blob defects in lithography and having superior solubility in an alkali developer, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィーにおいて、定在波効果及びブロッブ欠陥を十分に低減することができ、且つアルカリ現像液に対する溶解性に優れた上層反射防止膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a large depth of focus (DOF), small line width roughness (LWR) and reduced bridge defects, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly integrated and accurate electronic device, and to provide a chemical amplification resist composition used in the method and a resist film formed from the chemical amplification resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To detect defects even in incomplete unit patterns, in which parts of a pattern are absent in defect inspection for detecting defects present in the surfaces of samples, by comparing corresponding parts with one another of unit patterns which repeatedly appear in correspondence, to repeated patterns in inspection images acquired by imaging the surfaces of the samples in which the repetitive patterns are formed.例文帳に追加

繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。 - 特許庁

The detection of defects of a sealing agent applied pattern is made easy by incorporating a fluorescent substance developing color when it is irradiated with a visible or ultra violet ray into the sealing agent and developing color of the sealing agent by irradiating the visible or ultra violet ray.例文帳に追加

シール剤中に、可視光または紫外線を照射した場合に発色して見える蛍光物質を含有させ、可視光又は紫外線の照射によりシール剤を発色させることで、シール剤塗布パターンの欠陥の検出を容易にする。 - 特許庁

To provide the coating liquid for the positive resist good in sensitivity, resolution, heat resistance, focal depth characteristic, the sectional form of a resist pattern, stability during time left unused, and dependence on a substrate, especially restrained from occurrence of defects after development.例文帳に追加

感度、解像性、耐熱性、焦点深度幅特性、レジストパターン断面形状、引置経時安定性及び基板依存性などのレジスト特性が良好である上、特に現像後のディフェクトの発生を抑制するポジ型レジスト塗布液を提供する。 - 特許庁

To provide a flaw inspecting method, capable of excluding conventional defects to rapidly extract the flaw of an image having cyclic noise undetermined in cycle or a repeated pattern, when the contrast of a part other than it is low.例文帳に追加

周期未定の周期性ノイズか又は繰返しパターンのある画像でこれら以外の部分のコントラストが低い場合における欠陥抽出を、従来の欠点を排除し、高速に実行することが可能な欠陥検査方法を提供すること - 特許庁

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device.例文帳に追加

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。 - 特許庁