pattern dimensional controlとは 意味・読み方・使い方

An SLM control unit 130 forms a CGH image in which a two-dimensional phase pattern corresponding to the optical pattern is superimposed on a diffraction grating pattern, and causes a liquid crystal SLM 137 to display the image.例文帳に追加

ＳＬＭ制御部１３０は光パターンに対応した２次元的な位相パターンと回折格子パターンとを重畳したＣＧＨ画像を作成し、この画像を液晶ＳＬＭ１３７に表示する。 - 特許庁

The CPU for main control generates a two-dimensional code NC from which a predetermined character string can be read out by a reader CM as information corresponding to the determined jackpot pattern as the special pattern and displays the generated two-dimensional code NC as the special pattern for being definitely displayed in a stopped state in a pattern variation game in a special pattern display device 12.例文帳に追加

そして、主制御用ＣＰＵは、決定した特別図柄の大当り図柄に応じた情報として所定の文字列を読取装置ＣＭで読取可能な二次元コードＮＣを生成するとともに、その生成した二次元コードＮＣを特図表示装置１２における図柄変動ゲームで確定停止表示させる特別図柄として表示させる。 - 特許庁

To extend a transmissivity control range without miniaturizing a grating pattern in an exposure mask for exposing a three-dimensional shape.例文帳に追加

３次元形状を露光するための露光用マスクにおいて、グレーティングパターンの微細化を伴うことなく、透過率制御範囲を拡大する。 - 特許庁

To produce a two-dimensional electrophoretic pattern of control which is a comparison object easily in various conditions, and to quickly and accurately analyze.例文帳に追加

比較の対象となるコントロールの二次元電気泳動パターンを容易に、且つ、様々な条件で作成し、迅速且つ正確な解析を行う。 - 特許庁

In the pattern display control board 22, a two-dimensional bar code is created based on the game information and displayed on a display device 5.例文帳に追加

図柄表示制御基板２２では、遊技情報に基づいて二次元バーコードが生成され、表示装置５にて二次元バーコードを表示する。 - 特許庁

The modulation conditions for the exposure light quantity in the lithographic processes are selected so as to control the dimensional variance of the test patterns to a specified value or smaller on the basis of the dimensional variance of the test pattern (S4, S5).例文帳に追加

テストパターンの寸法ばらつきに基づいて、当該テストパターンの寸法ばらつきが所定値以下となるように、リソグラフィー処理における露光量変調条件を選択する（Ｓ４〜Ｓ５）。 - 特許庁

A projector 14 emits light with a plurality of two-dimensional disposition patterns generated by a pattern control part 21 of this image processor 11 to apply the light to a subject.例文帳に追加

プロジェクタ１４は、画像処理装置１１のパターン制御部２１により生成された複数の２次元配列パターンで発光し、被写体に光を照射する。 - 特許庁

To provide the resist composition developable with an aqueous alkaline solution and capable of obtaining a positive pattern good in dimensional control free from trailing on a photomask substrate.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、フォトマスク基板上で裾引きのない寸法制御性のよいポジ型パタンを現出させるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁