patterning technologyとは 意味・読み方・使い方

This prevents bit line patterning failure in the core/peripheral circuit region, and can apply SPT (Spacer Pattern Technology) when forming a bit line is formed.例文帳に追加

これを介し、本発明ではコア/周辺回路領域におけるビットラインパターニングの不良を防止し、ビットライン形成時にSPT(Spacer Pattern Technology)を適用することができる。 - 特許庁

To provide a composition which is particularly suitable as a reverse material applied to double patterning technology for a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板のダブルパターニング技術に適用される反転材料として特に適した組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a technology, by which a single layer carbon nanotube excellent in adhesion with a substrate and patterning property can be obtained with a high yield.例文帳に追加

基板との密着性、パターニング特性に優れた単層カーボンナノチューブを高い収率で得る技術を提供する。 - 特許庁

To provide reticle inspection technology with which the positional relation between patterns can be evaluated for patterns that may be turned into defects on exposure to a sample such as wafer in double patterning technology in the same layer.例文帳に追加

同一レイヤーへのダブルパターニング技術において、ウエハ等の試料への露光時に欠陥となりうるパターンについてパターン間の位置関係の評価を可能にするレチクル検査技術を提供する。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

By using photolithography technique and dry etching technology, patterning is performed by anisotropical etching of the insulating film 19 up to the middle of a conductive film 4A.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術およびドライエッチング技術を用い、絶縁膜１９および導電性膜４Ａの途中までは異方性エッチングによりパターニングを進める。 - 特許庁

To provide dense contact hole pattern formation technique of a semiconductor device by using self-align double patterning technology so as to form a high-density hole pattern which is twice or three times higher than that formed by lithography technology.例文帳に追加

半導体装置の密集コンタクトホールパターン形成技術において、セルフアラインダブルパターニング技術を用いて、リソグラフィ技術で形成したパターンの２倍、あるいは３倍の密度のホールパターンを高精度で形成する。 - 特許庁

To provide a patterning process in which pattern densities of some regions are doubled by a double patterning technology while patterns having different widths are simultaneously formed, and to provide a semiconductor device having a structure to which the process is easily applicable.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程、及びその工程を容易に適用しうる構造を有する半導体素子を提供する。 - 特許庁