「patterning technology」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To improve a high-resolution direct patterning technology in which ink is transferred onto a substrate using a nanoscopic chip.例文帳に追加

ナノスコーピックチップを用いてインクが基板に移される高解像直接パターニング技術の改良。 - 特許庁

Patterning is performed on the formed nickel metal film by using a photolithographic technology, to thereby form a resist protective film.例文帳に追加

成膜したニッケル金属膜にフォトリソ技術を用いてパターニングをしレジスト保護膜を形成する。 - 特許庁

This prevents bit line patterning failure in the core/peripheral circuit region, and can apply SPT (Spacer Pattern Technology) when forming a bit line is formed.例文帳に追加

これを介し、本発明ではコア/周辺回路領域におけるビットラインパターニングの不良を防止し、ビットライン形成時にSPT(Spacer Pattern Technology)を適用することができる。 - 特許庁

To provide a composition which is particularly suitable as a reverse material applied to double patterning technology for a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板のダブルパターニング技術に適用される反転材料として特に適した組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a technology, by which a single layer carbon nanotube excellent in adhesion with a substrate and patterning property can be obtained with a high yield.例文帳に追加

基板との密着性、パターニング特性に優れた単層カーボンナノチューブを高い収率で得る技術を提供する。 - 特許庁

To provide reticle inspection technology with which the positional relation between patterns can be evaluated for patterns that may be turned into defects on exposure to a sample such as wafer in double patterning technology in the same layer.例文帳に追加

同一レイヤーへのダブルパターニング技術において、ウエハ等の試料への露光時に欠陥となりうるパターンについてパターン間の位置関係の評価を可能にするレチクル検査技術を提供する。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

By using photolithography technique and dry etching technology, patterning is performed by anisotropical etching of the insulating film 19 up to the middle of a conductive film 4A.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術およびドライエッチング技術を用い、絶縁膜１９および導電性膜４Ａの途中までは異方性エッチングによりパターニングを進める。 - 特許庁

To provide dense contact hole pattern formation technique of a semiconductor device by using self-align double patterning technology so as to form a high-density hole pattern which is twice or three times higher than that formed by lithography technology.例文帳に追加

半導体装置の密集コンタクトホールパターン形成技術において、セルフアラインダブルパターニング技術を用いて、リソグラフィ技術で形成したパターンの２倍、あるいは３倍の密度のホールパターンを高精度で形成する。 - 特許庁

To provide a patterning process in which pattern densities of some regions are doubled by a double patterning technology while patterns having different widths are simultaneously formed, and to provide a semiconductor device having a structure to which the process is easily applicable.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程、及びその工程を容易に適用しうる構造を有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.例文帳に追加

撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To improve uniformity within a wafer surface in the size of circuit pattern obtained in the trimming process of a photoresist mask formed with a double patterning technology using a freezing method.例文帳に追加

フリージング法を用いたダブルパターニング技術により形成されたフォトレジストマスクのトリミング工程において、得られる回路パターン寸法のウエハ面内の均一性を改善する。 - 特許庁

A poly-crystalline silicon film 5 is formed on the overall face of a semiconductor substrate 1, and the patterning of the poly-crsytalline silicon film 5 is carried out by using a photo-lithography technology and an etching technology so that a gettering site 5a can be formed in a scribe region R3.例文帳に追加

半導体基板１上の全面に多結晶シリコン膜５を成膜し、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて多結晶シリコン膜５をパターニングすることにより、スクライブ領域Ｒ３にゲッタリングサイト５ａを形成する。 - 特許庁

A minute conductive connecting part, of which the shape is controlled by a substrate processed finely and a patterning technology, is formed to connect the semiconductor chip and the circuit board.例文帳に追加

微細加工を施した加工基板とパターニング技術により、形状を制御した微小な導電性接続部を形成し、これを用いて半導体チップと回路基板とを接続をする。 - 特許庁

Further, inks, ink cartridges, printing units, ink-jet printers, printing methods, printing media, liquid compositions, patterning methods, articles, and methods for sensing environmental history, each utilizing the above technology, are also provided respectively.例文帳に追加

この技術を利用したインク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、記録媒体、液体組成物、パターン形成方法、物品および環境履歴検知方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has a gate electrode having a width narrower than the minimum width formable by the patterning technology and an LDD structure the side wall thickness of which can be changed as the size of the gate electrode is reduced, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加

パターンニング技術によって形成可能な最小の幅よりもさらに細幅のゲート電極を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which enhances the resistance to a developer without increasing a film thickness of a protective film in a double exposure technology, and achieves a micro patterning.例文帳に追加

ダブル露光技術において、保護膜の膜厚を増加せずに現像液耐性を向上させ、微細パターニングを実現する半導体デバイスの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

That is, the electrode strips 19 and the dielectric strips 21a are multi-layered in the direction parallel to the substrate surface, thereby facilitating the multi-layering in the ceramic capacitor by a known patterning technology.例文帳に追加

すなわち、電極片１９と誘電体片２１ａとは基板面に対して平行な方向に沿って多層化されているため、公知のパターニング技術によって容易にセラミックコンデンサの多層化が実現される。 - 特許庁

To establish a technology capable of making patterning materials uniformly distribute in a cast molding even when a large-sized patterning material is used, thereby obtaining an artificial marble with a large-sized color pattern of high quality excellent in design, deluxe feeling and natural feeling, and with less distribution of product strength.例文帳に追加

サイズの大きい柄材を使用した場合でも、注型成形体内に該柄材を均一分布させることができ、その結果として、色柄模様が大柄で意匠性、高級感および天然感に優れ、しかも製品強度のバラツキも少ない高品質の色柄模様付き人造大理石を得ることのできる技術を確立すること。 - 特許庁

An extra capacitor or a capacitor is fabricated utilizing the capacitance between interconnections (between M11 and M12) or the capacitance between through holes (between B11 and B12) which is increased as a finer patterning is employed in the process technology.例文帳に追加

プロセス技術の微細化に伴って大きな容量を持つようになった配線間（Ｍ１１およびＭ１２間）容量およびスルーホール間（Ｂ１１およびＢ１２間）容量を利用して、付加容量またはキャパシタを形成する。 - 特許庁

The aluminum layer 11 is covered with a Ti film 12 and a TiO_2 film 13 formed by oxidizing the surface of the Ti film 12 as an anti-reflection layer to improve the precision of the wiring patterning made by using a photography technology.例文帳に追加

アルミニウム層１１上には、フォトリソグラフィ技術を用いる配線パターニング精度向上のため反射防止層として、Ｔｉ膜１２及びその表面を酸化して得られたＴｉＯ_2膜１３が被覆されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor IC device capable of increasing a total memory capacity and in addition a higher speed operation without accompanying a fine patterning technology which requires a large amount of cost for a capital investment and has a definite limitation naturally.例文帳に追加

設備投資などに膨大な費用がかかり、おのずと一定の限界がある微細化技術を伴うことなしに、トータルの記憶容量を増大させ、さらに、より高速動作が可能な半導体集積装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of preparing a mentoring scenario and automatically performing appropriate mentoring to each participant by collecting, classifying and arranging the mentoring of a mentor in a system for patterning the mentorship of e-learning as a scenario and performing automatic mentoring.例文帳に追加

eラーニングの指導をシナリオとしてパターン化し自動指導を行うシステムにおいて、指導者のメンタリングを収集し分類整理することで、メンタリングシナリオを作成し、自動的に個々の受講者に適切なメンタリングを行う技術の提供。 - 特許庁

A double treatment technology to manufacture a device that includes the execution of a first patterning step for forming an opening in a resist layer, then the opening is filled before a first resist layer is exfoliated and is replaced with a second resist layer used for a second exposure is disclosed.例文帳に追加

レジスト層に開口を形成する第一パターニングステップを実行することを含み、第一レジスト層が剥離され、第二露光に使用される第二レジスト層で置換される前に、開口が充填される、デバイス製造の二重処理技術が開示される。 - 特許庁

To provide an optical device having functions of reflection prevention, wavelength selection, wavelength dispersion and the like by forming a nano pattern by a highly accurate and simple method in a joining portion where patterning is difficult by a conventional lithographic technology and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術ではパターニングが困難な接合部位に高精度でかつ簡便な手法によりナノパターンを形成し、反射防止、波長選択、波長分散などの機能を持たせる光デバイスとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a direct-write patterning method which can very easily and simply cope with the direct writing method from data from a computer in a bright room, even with printed boards having through-holes in the manufacturing technology of electronic circuits.例文帳に追加

電子回路の製造技術において、極めて簡便に、かつ明室下で可能な、コンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができる直描作製方法であり、かつスルーホールを有する配線板も直描作製可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric thin film device for solving a problem due to a residual stress actualized when the patterning of a dielectric thin film is performed by using conventional photo-lithography technology, and a problem due to a micro-fine residue.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー技術を用いて誘電体薄膜のパターニングを行った場合に顕在化する残留応力に起因する問題および微小残渣に起因する問題を解消することができる誘電体薄膜デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.例文帳に追加

ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁

In addition, since the manufacturing method is based on such a unique idea that thermocouples are not combined, but many thermocouples are produced by patterning a sheet obtained by sticking different kinds of conductive materials to each other by etching, the semiconductor technology can be applied and fine thermocouples can be mass-produced inexpensively with a high productive efficiency.例文帳に追加

さらに、熱電対を組み立てるのではなく、異なる導電性材料を貼り合わせたシートから多数の熱電対をエッチングでパターン化するという独特の発想に基づいているため、半導体技術を応用でき、微細な熱電対を高い生産効率と低いコストで大量に生産できる。 - 特許庁

A first process for producing an electric circuit component comprises steps (a) for forming a nonconductive trench structure on a substrate, (b) for patterning solution containing an electroless plating medium in the trench on the substrate by ink jet technology, and (c) for depositing a conductive substance in the opening of the trench structure by electroless plating followed by or not followed by elctroplating.例文帳に追加

本発明の電気回路部品の第１の製造方法は、（ａ）基板上に非導電性の溝構造を形成する工程；（ｂ）インクジェット技術によって、該基板上の溝に無電解メッキ触媒含有溶液をパターニングする工程；および（ｃ）無電解メッキ法または無電解メッキ法に続く電解メッキ法により、該溝構造の開口部に導電性物質を析出させる工程を含む。 - 特許庁