pattern intensityとは 意味・読み方・使い方

To detect the intensity of light reflected by a reflectance measuring pattern.例文帳に追加

反射率測定パターンにより反射した光強度を検出する。 - 特許庁

A highly-luminous intensity area HZ1 of the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa is formed to be partially overlapped with a highly-luminous intensity area HZ(L) of the low-beam light distribution pattern P(L), to connect the low-beam light distribution pattern P(L) smoothly to the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa.例文帳に追加

その際、補助配光パターンＰａの高光度領域ＨＺ１をロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の高光度領域ＨＺ（Ｌ）と部分的に重複させるように形成し、これによりロービーム配光パターンＰ（Ｌ）と補助配光パターンＰａとを滑らかに接続する。 - 特許庁

To suppress reduction in the intensity of diffracted light from a mask pattern when the pitch of the mask pattern narrows.例文帳に追加

マスクパターンのピッチが狭くなった時のマスクパターンからの回折光の強度低下を抑える。 - 特許庁

Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.例文帳に追加

幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁

A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加

パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

A control unit calculates average intensity Bave[n] representing received light intensity of [0] data for each reference pattern, and average intensity Wave[n] representing received light intensity of [1] data.例文帳に追加

制御部は、参照パターン毎に、「０」データの受光強度を代表する平均強度Ｂａｖｅ［ｎ］、および「１」データの受光強度を代表する平均強度Ｗａｖｅ［ｎ］を算出する。 - 特許庁

The light intensity distribution and the calculative light intensity distribution in a library are compared, and the line width of the virtual pattern to which the light intensity distribution adapts is considered as the line width of the actual pattern.例文帳に追加

その光強度分布と，ライブラリ内の計算上の光強度分布が照合され，光強度分布が適合する仮想パターンの線幅が実際のパターンの線幅とされる。 - 特許庁

Thereafter, the sum of forward scatter intensity and backward scatter intensity at an evaluation point is evaluated by using adjacent pattern information and the obtained backward scatter intensity, and a movement amount of a side of a pattern is calculated.例文帳に追加

次に、隣接パターン情報と得られた後方散乱強度を用いて、評価点における前方散乱強度と後方散乱強度の和を評価し、パターンの辺の移動量を計算する。 - 特許庁