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pattern intensityとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 紋理強度
「pattern intensity」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 535件
LIGHT INTENSITY CALCULATING METHOD FOR PATTERN例文帳に追加
パターンの光強度計算方法 - 特許庁
To provide an excellent low beam luminous intensity distribution pattern and high beam luminous intensity distribution pattern.例文帳に追加
良好なロービームの配光パターン、ハイビームの配光パターンが得られる。 - 特許庁
To improve the intensity of a signal obtained from an FG pattern.例文帳に追加
FGパターンから得られる信号の強度を改善する。 - 特許庁
The adjustment unit adjusts irradiation intensity of the pattern light.例文帳に追加
調整部は、パターン光の照射強度を調整する。 - 特許庁
LASER BEAM INTENSITY PATTERN-FORMING DEVICE例文帳に追加
レーザビーム強度パターン形成装置 - 特許庁
The changing pattern of α-wave intensity of the user is measured, and the attention degree of the user is measured based on the changing pattern of the α-wave intensity.例文帳に追加
また、ユーザのα波強度の変化パターンが測定され、当該α波強度の変化パターンに基づき、ユーザの注意度が測定される。 - 特許庁
Variations in the intensity of the reflected light can be converted to an electronic pattern発音を聞く 例文帳に追加
反射光の輝度の変化を電子パターンに変換することができる - コンピューター用語辞典
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「pattern intensity」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 535件
To detect the intensity of light reflected by a reflectance measuring pattern.例文帳に追加
反射率測定パターンにより反射した光強度を検出する。 - 特許庁
A highly-luminous intensity area HZ1 of the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa is formed to be partially overlapped with a highly-luminous intensity area HZ(L) of the low-beam light distribution pattern P(L), to connect the low-beam light distribution pattern P(L) smoothly to the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa.例文帳に追加
その際、補助配光パターンPaの高光度領域HZ1をロービーム配光パターンP(L)の高光度領域HZ(L)と部分的に重複させるように形成し、これによりロービーム配光パターンP(L)と補助配光パターンPaとを滑らかに接続する。 - 特許庁
To suppress reduction in the intensity of diffracted light from a mask pattern when the pitch of the mask pattern narrows.例文帳に追加
マスクパターンのピッチが狭くなった時のマスクパターンからの回折光の強度低下を抑える。 - 特許庁
Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.例文帳に追加
幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁
A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加
パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し(S13)、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する(S14,S15)。 - 特許庁
A control unit calculates average intensity Bave[n] representing received light intensity of [0] data for each reference pattern, and average intensity Wave[n] representing received light intensity of [1] data.例文帳に追加
制御部は、参照パターン毎に、「0」データの受光強度を代表する平均強度Bave[n]、および「1」データの受光強度を代表する平均強度Wave[n]を算出する。 - 特許庁
The light intensity distribution and the calculative light intensity distribution in a library are compared, and the line width of the virtual pattern to which the light intensity distribution adapts is considered as the line width of the actual pattern.例文帳に追加
その光強度分布と,ライブラリ内の計算上の光強度分布が照合され,光強度分布が適合する仮想パターンの線幅が実際のパターンの線幅とされる。 - 特許庁
Thereafter, the sum of forward scatter intensity and backward scatter intensity at an evaluation point is evaluated by using adjacent pattern information and the obtained backward scatter intensity, and a movement amount of a side of a pattern is calculated.例文帳に追加
次に、隣接パターン情報と得られた後方散乱強度を用いて、評価点における前方散乱強度と後方散乱強度の和を評価し、パターンの辺の移動量を計算する。 - 特許庁
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