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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern intensityに関連した英語例文

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pattern intensityの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 535



例文

LIGHT INTENSITY CALCULATING METHOD FOR PATTERN例文帳に追加

パターンの光強度計算方法 - 特許庁

To provide an excellent low beam luminous intensity distribution pattern and high beam luminous intensity distribution pattern.例文帳に追加

良好なロービームの配光パターン、ハイビームの配光パターンが得られる。 - 特許庁

To improve the intensity of a signal obtained from an FG pattern.例文帳に追加

FGパターンから得られる信号の強度を改善する。 - 特許庁

The adjustment unit adjusts irradiation intensity of the pattern light.例文帳に追加

調整部は、パターン光の照射強度を調整する。 - 特許庁

例文

LASER BEAM INTENSITY PATTERN-FORMING DEVICE例文帳に追加

レーザビーム強度パターン形成装置 - 特許庁


例文

The changing pattern of α-wave intensity of the user is measured, and the attention degree of the user is measured based on the changing pattern of the α-wave intensity.例文帳に追加

また、ユーザのα波強度の変化パターンが測定され、当該α波強度の変化パターンに基づき、ユーザの注意度が測定される。 - 特許庁

Variations in the intensity of the reflected light can be converted to an electronic pattern 例文帳に追加

反射光の輝度の変化を電子パターンに変換することができる - コンピューター用語辞典

To detect the intensity of light reflected by a reflectance measuring pattern.例文帳に追加

反射率測定パターンにより反射した光強度を検出する。 - 特許庁

A highly-luminous intensity area HZ1 of the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa is formed to be partially overlapped with a highly-luminous intensity area HZ(L) of the low-beam light distribution pattern P(L), to connect the low-beam light distribution pattern P(L) smoothly to the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa.例文帳に追加

その際、補助配光パターンPaの高光度領域HZ1をロービーム配光パターンP(L)の高光度領域HZ(L)と部分的に重複させるように形成し、これによりロービーム配光パターンP(L)と補助配光パターンPaとを滑らかに接続する。 - 特許庁

例文

To suppress reduction in the intensity of diffracted light from a mask pattern when the pitch of the mask pattern narrows.例文帳に追加

マスクパターンのピッチが狭くなった時のマスクパターンからの回折光の強度低下を抑える。 - 特許庁

例文

Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.例文帳に追加

幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁

A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加

パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し(S13)、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する(S14,S15)。 - 特許庁

A control unit calculates average intensity Bave[n] representing received light intensity of [0] data for each reference pattern, and average intensity Wave[n] representing received light intensity of [1] data.例文帳に追加

制御部は、参照パターン毎に、「0」データの受光強度を代表する平均強度Bave[n]、および「1」データの受光強度を代表する平均強度Wave[n]を算出する。 - 特許庁

The light intensity distribution and the calculative light intensity distribution in a library are compared, and the line width of the virtual pattern to which the light intensity distribution adapts is considered as the line width of the actual pattern.例文帳に追加

その光強度分布と,ライブラリ内の計算上の光強度分布が照合され,光強度分布が適合する仮想パターンの線幅が実際のパターンの線幅とされる。 - 特許庁

Thereafter, the sum of forward scatter intensity and backward scatter intensity at an evaluation point is evaluated by using adjacent pattern information and the obtained backward scatter intensity, and a movement amount of a side of a pattern is calculated.例文帳に追加

次に、隣接パターン情報と得られた後方散乱強度を用いて、評価点における前方散乱強度と後方散乱強度の和を評価し、パターンの辺の移動量を計算する。 - 特許庁

To provide an exposure mask and a pattern forming method for improving the light intensity distribution of a two-dimensional pattern and forming a fine resist pattern.例文帳に追加

2次元パターンの光強度分布を改善し、良好なレジストパターンを形成できる露光用マスク及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this exposure process, laser beam intensity for the pit pattern exposure and laser beam intensity for the groove exposure are made equal to each other.例文帳に追加

この露光工程では、ピットパターン露光用のレーザー光強度と、グルーブ露光用のレーザー光強度を同一とした。 - 特許庁

When the total irradiation intensity in a total irradiation pattern is 400%, the irradiation intensity in each of the irradiation parts becomes 100%.例文帳に追加

総照射パターンにおけるパルスの総照射強度が「400%」とすると、照射部のそれぞれにおける照射強度は、「100%」となる。 - 特許庁

The air conditioner is provided with a control pattern for controlling the intensity of the floor heating according to the intensity of air heating by an indoor heat exchanger.例文帳に追加

さらに、床暖房加熱の強さを室内熱交換器による空気暖房加熱の強さに応じて制御する制御パターンを備える。 - 特許庁

To uniformize the light intensity distribution of a laser beam even when the light intensity distribution of incident light is an inclined pattern having inclination in one direction.例文帳に追加

本発明は入射光の光強度分布が一方向に傾きをもった傾斜パターンの場合でも均一化することを課題とする。 - 特許庁

To reduce back ground light intensity and to suppress light intensity contrast of a pattern to be transferred from lowering.例文帳に追加

バックグラウンド光強度を低下させ、被転写パターンの光強度コントラスト低下を抑制する。 - 特許庁

PATTERN VERIFICATION-INSPECTION METHOD, METHOD FOR ACQUIRING DISTRIBUTION OF OPTICAL IMAGE INTENSITY, AND PROGRAM FOR ACQUIRING DISTRIBUTION OF OPTICAL IMAGE INTENSITY例文帳に追加

パターン検証・検査方法、光学像強度分布取得方法および光学像強度分布取得プログラム - 特許庁

By using a previously prepared reflection intensity pattern and a recently prepared reflection intensity pattern, the movement amount in the transverse direction of the preceding vehicle A is computed by a pattern matching operation.例文帳に追加

そして、前回作成した反射強度パターンと今回作成した反射強度パターンとを用いてパターンマッチングにより先行車両Aの横方向の移動量を算出する。 - 特許庁

As an example, a first LED can contain a lens for generating such light distribution pattern as has maximum intensity at the center, while a second LED can use a lens for generating such light distribution pattern having the maximum intensity that encloses the maximum intensity of the pattern generated by the first LED.例文帳に追加

例証として、第1のLEDは、中心に最大強度をもつ光分布パターンを生成するレンズを含むことができ、一方第2のLEDには、第1のLEDによって生成されるパターンの最大強度を囲む最大強度をもつ光分布パターンを生成するレンズを使用することができる。 - 特許庁

A cutoff line changing part 50 controls the widths of the light shielding regions of the shades so that a whole luminous intensity distribution pattern overlapped with the right side luminous intensity distribution pattern and the left side luminous intensity distribution pattern may constitute a light shielding region conformed to the vehicle position detected by the vehicle position detecting part 52.例文帳に追加

カットオフライン変更部50は、左側配光パターンと右側配光パターンとを重ね合わせた全体配光パターンが、車両位置検出部52により検出される車両位置に合わせた遮光領域を構成するように、ハイビーム形成用シェードの遮光領域の幅を制御する。 - 特許庁

By these processings, the image data are converted to mask pattern data for performing luminous intensity simulation.例文帳に追加

これらの処理によって、光強度シミュレーションを行うためのマスクパターンデータに変換される。 - 特許庁

Thereby, detection accuracy of the transmission light intensity pattern of the valuable paper sheet is improved.例文帳に追加

これにより、有価紙葉の透過光量パターンの検出精度を向上する。 - 特許庁

To improve the detection performance of a transmission light intensity pattern of a paper sheet-discriminating optical sensor device.例文帳に追加

紙葉類鑑別用光学センサ装置の透過光量パターンの検出性能を改善する。 - 特許庁

To change the phase of a light intensity pattern on a detection surface byin a predetermined route.例文帳に追加

検出面における光強度パターンの位相が、所定の経路において2πだけ変化するようにする。 - 特許庁

To mitigate the non-uniformity of the intensity distribution by the interference pattern of laser beams.例文帳に追加

レーザ光の干渉パターンによる強度分布の不均一性を緩和させる。 - 特許庁

Reference pattern data are recorded on a non-user data area with optimum laser intensity at initial starting.例文帳に追加

初期起動時に最適レーザ強度にて非ユーザデータ領域に参照パターンデータを記録しておく。 - 特許庁

To change the depth in vertical direction and condensing intensity of a light distribution pattern by one lamp.例文帳に追加

配光パターンの上下方向の広がりおよび集光強度を1つの灯具で変更する。 - 特許庁

LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION SYSTEM, LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION METHOD, MASK PATTERN CORRECTING METHOD, AND LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION SIMULATION PROGRAM例文帳に追加

光強度分布シミュレーションシステム、光強度分布シミュレーション方法、マスクパターン補正方法、及び光強度分布シミュレーションプログラム - 特許庁

In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.例文帳に追加

そのX線回折パターンには、BaCO_3の(111)面のピークが存在し、このピークの耐久後強度(I_A)と初期強度(I_F)との強度比I_A/I_Fが、0.2〜1である。 - 特許庁

Then, size of a minute gap existing at the contact part is calculated based on the integrated X-ray intensity, an intensity pattern to be calculated from the two-dimensional X-ray intensity distribution image is simultaneously analyzed to estimate the surface shape.例文帳に追加

そして、この積算X線強度に基づいて接触部位に存在する微小間隙の大きさを求めるとともに、2次元X線強度分布画像から求まる強度パターンを解析して表面形状を推定する。 - 特許庁

A modulation pattern signal generating unit 42 figures out from a projection pattern a laser beam emission intensity matching the scanning angle that has been figured out.例文帳に追加

変調パターン信号生成部42は、求められた走査角度に対応するレーザー発光強度を投影パターンから求める。 - 特許庁

A pattern table 67 prestores the spectrum pattern of the noise component included in an audio signal determined for every receiving electric field intensity.例文帳に追加

パターンテーブル67は、受信電界強度ごとに定められるオーディオ信号に含まれる雑音成分のスペクトルパターンをあらかじめ格納する。 - 特許庁

The embedment position of the electronic watermark pattern of the original picture is synonymous to the latent holding of the electronic watermark pattern so that the detecting intensity can be strengthened.例文帳に追加

元画像の電子透かしパターン埋め込み位置は電子透かしパターンを潜在的に保有していることと同義であり、検出強度が強くなる。 - 特許庁

As a result, the second lighting fixture tool 28 forms the additional light distribution pattern increasing luminous intensity as the pattern approaches to the horizontal line from the above.例文帳に追加

これによって第2灯具ユニット28は、上方から水平線に近づくにしたがって光度が増加する付加配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a vertical fringe interference pattern projection lens having high light intensity and capable of projecting a vertical fringe interference pattern at a wide angle.例文帳に追加

光強度が大きく縦縞干渉模様を広角に投影可能な縦縞干渉模様投影レンズを提供する。 - 特許庁

An emission unit 16 emits stripe pattern light, whose intensity changes periodically to a subject, while shifting the phase of the pattern by π/2.例文帳に追加

照射部16が、強度が周期的に変化する縞パターン光を、パターンの位相をπ/2ずつ移動させつつ被写体に照射する。 - 特許庁

By comparing a signal intensity pattern extracted from the CCD 26 to a reference pattern, undulations and recess defects are detected.例文帳に追加

TDIラインCCD26から得られた信号強度パターンを標準パターンと比較し、うねりや凹欠陥を検知する。 - 特許庁

Furthermore, a pattern consisting of a (second) segment group in a correspondent relation (the inversion of optical intensity, complementary color relation) with the pattern is formed adjacently.例文帳に追加

さらに、前記パターンと対応関係(光強度の反転,補色関係)にある(第2の)セグメント群からなるパターンを隣接させて形成する。 - 特許庁

Then, intensity distribution is calculated based on the geometry characteristics and illumination mode characteristics and mask pattern data of a pattern feature 154.例文帳に追加

次に、パターンフィーチャのジオメトリ特徴及び照明モード特徴及びマスクパターンデータに基づき、強度分布が計算される154。 - 特許庁

The exposure monitor pattern 101 is formed of an opening pattern 102 and an intensity change pattern 103 to monotonously change the irradiation intensity distribution of the exposure light to be transmitted in an x-axis direction and to connect to the pattern in the x-direction.例文帳に追加

露光量モニタパターン101は、開口パターン102と、このパターンに対してx軸方向に接続し、透過する露光光の照射強度分布がx軸方向に単調に変化する強度変化パターン103とから形成されている。 - 特許庁

The intensity of the visible light a2 allowed to irradiate the metal pattern formed resin substrate 1 is preferably set to 0.0001-1% of the intensity of the exciting light a1 allowed to irradiate the metal pattern formed resin substrate 1.例文帳に追加

金属パターン形成樹脂基板1に照射する可視光a2の強度を、金属パターン形成樹脂基板1に照射する励起光a1の強度の0.0001〜1%とすることが好ましい。 - 特許庁

To provide a light projector which scans a light beam while controlling the intensity of the light beam and projects an accurate pattern even when the scanning angle range of a scanner varies when forming a pattern by the intensity variation of light on a face to be projected.例文帳に追加

光線の強度を制御しながら光線を走査し、光の強弱によるパターンを投影面に形成するときに、走査装置の走査角度範囲が変化しても正確なパターンを投影できる光投影装置を提供する。 - 特許庁

To create a new possibility for recording an intensity pattern generated in a contact surface by the principle of a disturbed total reflection, which can attain the image of the intensity pattern with high resolution and less distortion by use of a simple optical means.例文帳に追加

簡単な光学手段を用いて高解像度で歪みの少ない強度パターンの結像を達成する、妨害された全反射の原理で接触面に生じる強度パターンを記録するための新たな可能性を創作すること。 - 特許庁

Shades for forming high beams provided in the right and left lamps 30R and 30L shield a part of light emitting from light sources of the lamps 30R and 30L to form a right side luminous intensity distribution pattern and a left side luminous intensity distribution pattern.例文帳に追加

左右灯具に設けられるハイビーム形成用シェードは、灯具の光源から発せられる光の一部を遮蔽して、左側配光パターンおよび右側配光パターンを形成する。 - 特許庁

例文

On the basis of the computed movement amount in the transverse direction and on the basis of the time difference between the previously prepared reflection intensity pattern and the recently prepared reflection intensity pattern, the relative speed in the transverse direction of the preceding vehicle A is computed.例文帳に追加

この算出した横方向の移動量と、前回作成した反射強度パターンと今回作成した反射強度パターンの時間差分とにより、先行車両Aの横方向相対速度を算出する。 - 特許庁

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